JPS63307300A - 高純度ガス供給用ステンレススチール製マニホールドの製造方法 - Google Patents

高純度ガス供給用ステンレススチール製マニホールドの製造方法

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JPS63307300A
JPS63307300A JP14354787A JP14354787A JPS63307300A JP S63307300 A JPS63307300 A JP S63307300A JP 14354787 A JP14354787 A JP 14354787A JP 14354787 A JP14354787 A JP 14354787A JP S63307300 A JPS63307300 A JP S63307300A
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Japan
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holes
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pipe
stainless steel
bulging
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JP14354787A
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Hajime Anpo
安保 一
Masaru Kuze
久世 勝
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FUITSUTENGU KUSE KK
Japan Oxygen Co Ltd
Nippon Sanso Corp
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FUITSUTENGU KUSE KK
Japan Oxygen Co Ltd
Nippon Sanso Corp
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/0015Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Branch Pipes, Bends, And The Like (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体製造工業分野における高純度ガスの供給
機器に使用されるステンレススチール製のマニホールド
に関する。
〔従来の技術〕
近年、半導体製造工業の発達と共に、この分野で使用さ
れる高純度ガスの純度も非常に厳しい値が要求される様
になって来ている。例えば、高純度窒素中に含まれるダ
ストパーティクルの数は0゜1即以下程度のダストが1
cu−ft中1個以下であること等が最近の半導体製造
工場内高純度窒素ガスの仕様となっている。従って、こ
の高純度窒素ガスの製造装置、供給機器にはあらゆる個
所にこの様なダストの侵入する余地の無い様に対策が施
されている。本発明もその一つで、主として高純度液化
窒素を蒸発器で気化して高純度窒素ガスどして供給する
場合の、この蒸発器の部品、配管の内面を電解研磨によ
り1μm以下程度の而粗さに仕上げたマニホールドに関
するものである。
従来、液化ガス蒸発器のヘッダーに使用されるマニホー
ルドは第2図に示1”ものが使用されていた。即ち、ヘ
ッダー主管1の室壁に穿設された孔2にソケット3の下
tXljを挿入して前記孔2の周m1の管壁とソケッ1
〜3の当接部4を隅肉溶接して固定し、該ソケット3の
上部に蒸発管5を挿入して該蒸発管5の外周とソケット
3上部の当接部6も同様に隅肉溶接を行ない固定してい
た。なお、蒸発管5にはフィン7が付設されている。こ
の様に従来のヘッダーは主管1とこれに溶接固定したソ
ケット3により形成されていたが、この形式のヘッダー
では主管1の孔2とソケット3下部との間に形成される
隙間およびソケット3と蒸発管5との間に形成される隙
間がダストパーティクルの滞在ηるデッドスペースとな
り前記の様な厳しい仕様を要求される高純度ガス供給用
の蒸発器としては不適切となり改善の必要があった。
そこで、次に第3図に示す様なヘッダーが製作される様
になった。即ち、前記主管1と同径の短管8の管壁に穿
設した孔2の周辺部を膨出させて膨出部を形成し、該膨
出部9の上面を平滑に仕」ニげてこの上に該孔2と同径
の短管10の平滑に仕上げた一方の端部を突合せ溶接し
、この突合せ溶接部11の内面を研磨機により研磨して
平滑にした上、内面全体を電解研磨したチーズ12を単
位部材としたヘッダーである。そして該チーズ12を複
数個突合せ溶接を行ってマニホールド13を形成し、各
チーズ12の短管10の端面上に蒸発管5を夫々突合せ
溶接して蒸発器のヘッダ一部を形成している。ここで蒸
発管5を直接膨出部9の上面平滑部に溶接しないのは、
現在の溶接機ではこの様な部分を溶接出来ないため手溶
接によらざるを得ず、手溶接によった場合は溶接部11
の裏ビートが荒く仕上る一ト、これを研磨出来ないため
である。従って、上記の如く短管10を接続し技管部を
形成した上で、あるいは該短管10を溶接しであるチー
ズ12を用いて、蒸発管5との溶接部15は溶接機によ
る機械溶接(Tig溶接)を行う。溶接部15の両側に
充分直管部がある場合は自動溶接が可能であり、自動溶
接によった場合は裏ビードは粗面度I Jim以下は保
証出来ない迄も、均一で且つダストパーティクルの滞在
の発生の可能性の極めて少ない仕上りとなる。
〔発明が解決しようと覆る問題点〕
第3図に示すヘッダーは溶接部が全て突合せ溶接である
ため、第2図の場合の様な隙間が発生せず、ダストパー
ティクルの滞在個所が解消できる長所があるが、チーズ
12とチーズ12の突合せ溶接部14が蒸発管5の数と
ほぼ同数発生することとなり、溶接作業が多くなり溶接
作業上からも、また構造上からも好ましくない。また管
内面の粗面度が1萌以下という様な厳しい使用に対して
は未研磨の粗面が残り好ましくない。
本発明は上記に鑑みなされ、溶接部分が少なく且つ内面
の研磨されていない部分の少ないヘッダーの提供を目的
としたものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明はステンレススチール製鋼管の管壁に複数個の孔
を穿設し、該複数個の孔の周辺を管壁の外側に膨出させ
て膨出部を形成し、該膨出部の上部に同径の短管を突合
せ溶接した上で、内面を電解研磨による仕上げ研磨を行
ったステンレススヂール製のマニホールドである。
〔作 用) 」−閉構造のマニホールドどしたことにJ:り溶接部分
が少なく未研磨の部分を全く無くし、内面を全面電解研
磨することが出来る様になった。
〔実施例〕
第1図に本発明によるマニホールドの一実施例を示す横
断面図を示す。所定の径のステンレススチール製管20
の管壁に所定径の孔21を複数個穿孔し、常法によって
黙礼21の周辺部を膨出させて膨出部22を形成し、該
膨出部22の上面を平滑に仕上げ、同様に端面を平滑に
仕上げた短管23ど手溶接により溶接を行って枝管とし
溶接部24の裏ビードを機械研磨によって平滑にした後
、電解液中に浸漬して内面全体を電解研磨により仕、上
げを行って粗面度1即以下の面として出来上ったのが製
品としてのマニホールド25である。
〔発明の効果〕
以上の様にして製造した第1図に示す構造のマニホール
ドは枝管部の長さを充分長くとっであるため、その先に
蒸発管を溶接する場合に、その溶接を溶接裏ビードが平
滑に仕上る自動溶接による突合せ溶接を行うことが出来
る上、主管と枝管の溶接部も内面を機械研磨した後、内
面を全面電解研磨を行って粗面度を1苅以下に仕上げで
あるので、極微細のダストパーティクルの滞在または付
着する余地が無い。また内面を全面電解研磨したチーズ
を複数個接続した形式のマニホールドにItして溶接接
続個所が少なく内面未研磨の部分が全く無いので、最近
要求が厳しくなっている半導体製造工程用の高純瓜ガス
の供給機器製用として適切であり、本マニホールドを使
用した高純度ガス供給機器は充分そのクリーン度を保証
し得るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のマニホールドの一実施例を示す横断面
図、第2図は従来、のマニホールドの一例を示す横断面
図、第3図は従来のマニホールドの別の例を示す横断面
図である。 20・・・ステンレススチール製管  21・・・孔2
2・・・膨出部  23・・・短管  24・・・溶接
部25・・・マニホールド

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ステンレススチール製鋼管の管壁に複数個の孔を穿
    設し、該複数個の孔の周辺を管壁の外側に膨出させて膨
    出部を形成し、該膨出部の上部に同径の短管を突合せ溶
    接した上で、内面を電解研磨により仕上げを行ったこと
    を特徴とするステンレススチール製のマニホールド。
JP62143547A 1987-06-09 1987-06-09 高純度ガス供給用ステンレススチール製マニホールドの製造方法 Expired - Lifetime JP2678754B2 (ja)

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