JPS63303990A - １−有機チオグリコシル化合物の製造法 - Google Patents
１−有機チオグリコシル化合物の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は１−アルキル又はｌ−アシルグリコジル化合物
から１−有機チオグリコシル化合物ヲ製造する方法に関
する。
から１−有機チオグリコシル化合物ヲ製造する方法に関
する。
ｌ−有機チオグリコシル化合物はＯ−グリコジル化合物
、Ｎ−グリコジル化合物、Ｃ−グリコジル化合物などの
各種多糖類を合成するための中間体として非常に有用な
化合物である。
、Ｎ−グリコジル化合物、Ｃ−グリコジル化合物などの
各種多糖類を合成するための中間体として非常に有用な
化合物である。
従来ｌ−アルキルチオグリコジル化合物は１−ハロゲン
化グリコジル化合物にアルキルチオナトリウムを作用さ
せる方法、トリメチ／Ｌ／（）リフルオロメタンスルホ
ニロキシ）シランヲ触ｆｌｉトＬ。
化グリコジル化合物にアルキルチオナトリウムを作用さ
せる方法、トリメチ／Ｌ／（）リフルオロメタンスルホ
ニロキシ）シランヲ触ｆｌｉトＬ。
■−アシルグリコジル化合物にトリメチ／Ｉ／（アルキ
ルチオ）シランを作用させる方法によって合成されてい
る。
ルチオ）シランを作用させる方法によって合成されてい
る。
しかし、１−ハロゲン化グリコジル化合物は合成が極め
て困難であυ、一方触媒のトリメチル（トリフルオロメ
タンスルホニロキシ 強酸性であるため．酸性に対して不安定な１−アルキル
又は１−アシルグリコジル化合物やｌ−アルキルチオグ
リコジル化合物には適用できない欠点がある。
て困難であυ、一方触媒のトリメチル（トリフルオロメ
タンスルホニロキシ 強酸性であるため．酸性に対して不安定な１−アルキル
又は１−アシルグリコジル化合物やｌ−アルキルチオグ
リコジル化合物には適用できない欠点がある。
本発明者等は種々研究の結果，ルイス酸触媒と溶媒の存
在下で．一般式〔Ｉ〕 （式中Ｒはアルキル基又はアシル基を示す）で表ワサレ
る１−アルキル又は１−アシルグリコジル化合物に一般
式〔■〕 ＲａＳｎ（ＳＲ２）４−８ 〔■〕（式
中Ｒ１はアルキル基又はアリール基を Ｒ２はアルキル
基，シクロアルキル基，アラルキル基又はアリール基を
，ａは２又は３の整数をそれぞれ示す）で表わされる有
機錫化合物を作用させることを特徴とする一般式〔■〕 上記一般式〔Ｉ〕で表わされる１−アルキル又は１−ア
シルグリコジル化合物において，Ｒ基としては，例えば
メチル基．エチル基，プロピル基。
在下で．一般式〔Ｉ〕 （式中Ｒはアルキル基又はアシル基を示す）で表ワサレ
る１−アルキル又は１−アシルグリコジル化合物に一般
式〔■〕 ＲａＳｎ（ＳＲ２）４−８ 〔■〕（式
中Ｒ１はアルキル基又はアリール基を Ｒ２はアルキル
基，シクロアルキル基，アラルキル基又はアリール基を
，ａは２又は３の整数をそれぞれ示す）で表わされる有
機錫化合物を作用させることを特徴とする一般式〔■〕 上記一般式〔Ｉ〕で表わされる１−アルキル又は１−ア
シルグリコジル化合物において，Ｒ基としては，例えば
メチル基．エチル基，プロピル基。
ブチル基などのアルキル基，例えばアセチル基。
プロピオニル基．ブチリル基，バレリル基，ヘキサノイ
ル基．オクタノイル基．ベンゾイル基，トリクロロアセ
チル基などのアシル基を挙げることができる。
ル基．オクタノイル基．ベンゾイル基，トリクロロアセ
チル基などのアシル基を挙げることができる。
本発明方法において，反応に使用できる有機錫化合物と
しては．上記一般式〔■〕において Ｒ１基は，例えば
メチル基，エチル基．プロピル基。
しては．上記一般式〔■〕において Ｒ１基は，例えば
メチル基，エチル基．プロピル基。
ブチル基，オクチル基．フェニル基などの基を示すもの
を，またＲ２基は．例えばメチル基，エチル基．プロピ
）Ｖ基．ブチμ基．オクチル基．デシル基．ドデシル基
．シクロヘキシ）＆基，ヘンシル基。
を，またＲ２基は．例えばメチル基，エチル基．プロピ
）Ｖ基．ブチμ基．オクチル基．デシル基．ドデシル基
．シクロヘキシ）＆基，ヘンシル基。
フェニル基，トリル基などの基を示すものを，ａは２又
は３の整数を示すものをそれぞれ挙げることができる。
は３の整数を示すものをそれぞれ挙げることができる。
本発明に用いるルイス酸触媒としては．例えば三弗化ホ
ウ素エーテラート、ジアルキル錫ビヌ（トリフルオロメ
タンスルホナート）、ヨウ化第１錫，塩化第２錫．塩化
アルミニウム、塩化亜鉛などを挙げることができる。
ウ素エーテラート、ジアルキル錫ビヌ（トリフルオロメ
タンスルホナート）、ヨウ化第１錫，塩化第２錫．塩化
アルミニウム、塩化亜鉛などを挙げることができる。
また本発明に用いる溶媒としては，ベンゼン。
トルエン、ジクロルメタン、ジクロルエタン、エーテル
、テトラヒドロフラン、アセトニトリルなどの炭化水素
，ハロゲン化炭化水素，エーテル化合物，ニトリル化合
物を挙げることができる。
、テトラヒドロフラン、アセトニトリルなどの炭化水素
，ハロゲン化炭化水素，エーテル化合物，ニトリル化合
物を挙げることができる。
本発明の方法は通常法のようにして行なわれる。
反応容器に１−アルキル又はｌ−アシルグリコジル化合
物を入れ窒素置換した後．溶媒と有機錫化合物．次いで
ルイス酸触媒を加え，５０〜９０℃で数時間攪拌すれば
容易に１−有機チオグリコシル化合物を得ることができ
る。
物を入れ窒素置換した後．溶媒と有機錫化合物．次いで
ルイス酸触媒を加え，５０〜９０℃で数時間攪拌すれば
容易に１−有機チオグリコシル化合物を得ることができ
る。
上記反応において，ｌ−アルキル又は１−アシルグリコ
ジル化合物と有機錫化合物とのモル比は１ ０．５〜１
： １． ５の範囲で使用しうる。また１−７／レキ
＃又はｌ−アシルグリコシ／７化合物とルイス酸触媒と
のモル比はｌ：０．０５〜ｌ：１．５の範囲で使用しう
る。溶媒の量はｌ−アルキル又は１−アシルグリコジル
化合物と有機錫化合物の溶解を妨げない範囲で用いられ
る。
ジル化合物と有機錫化合物とのモル比は１ ０．５〜１
： １． ５の範囲で使用しうる。また１−７／レキ
＃又はｌ−アシルグリコシ／７化合物とルイス酸触媒と
のモル比はｌ：０．０５〜ｌ：１．５の範囲で使用しう
る。溶媒の量はｌ−アルキル又は１−アシルグリコジル
化合物と有機錫化合物の溶解を妨げない範囲で用いられ
る。
このようにして得られた本発明の生成物は。
溶媒で抽出後．蒸留，カラムクロマトグラフィー。
ガスクロマトグラフィーなどの常用の手段で精製され，
公知のものは標品（市販品）との比較で。
公知のものは標品（市販品）との比較で。
その他のものはＮＭＲスペクトルなどで確認することが
できる。
できる。
本発明方法によれば．温和な条件下で１−アルキル又は
ｌ−アシルグリコジル化合物から１−有機チオクリコシ
ル化合物を高収率で得ることができるので、有機合成上
、極めて有利な方法である。
ｌ−アシルグリコジル化合物から１−有機チオクリコシ
ル化合物を高収率で得ることができるので、有機合成上
、極めて有利な方法である。
得られたｌ−有機チオグリコシル化合物（ＩＩは。
次に示すごとく１例えばＯ−グリコジル化合物（２）Ｎ
−グリコジル化合物（ＩＩＩ） 、 Ｃ−グリコジル化
合物（ＩＶ）を合成するための有用な中間体となる化合
物である。
−グリコジル化合物（ＩＩＩ） 、 Ｃ−グリコジル化
合物（ＩＶ）を合成するための有用な中間体となる化合
物である。
（ＩＩ） （Ｉ） （ＩＶ）↓
（ＩＩＩ）
（上記式中Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はアルキル基又はアリー
ル基を示す）。
ル基を示す）。
次に実施例を挙げて本発明を説明する。
実施例１
攪拌機と温度計を備えた三ツロフラヌコにジメチル錫ジ
クロリド１１０■（０，５ｍｍｏ＋）と銀（トリフルオ
ロメタンスルホナート） ２５７■（１ｍｍｏｌ）ヲ入
れ、窒素置換後トルエンｌ−を加えて、室温で２時ｎｎ
Ｗｉ拌した。次いで第１表に示される１−７セチルグモ のトルエンｌ−溶液とジメチル錫ビス（チオフェノラ−
） ） １２８！ （０，３７５ｍｍｏｌ ）のトルエ
ン３ｍ／溶液を入れ、５０℃で２時間攪拌した。反応終
了後飽和重曹水１０７！でクエンチし、酢酸エチル４〇
−で抽出、飽和重曹水３０ｔＩＬｔと飽和食塩水８０コ
で水洗、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後酢酸エチ＃
ｔ−濃ＭＬ、これをシリカゲルカラム（ベンゼン−酢酸
エチ／Ｌ／）にかけて、相当する１−フェニルチオグリ
コジル化合物を２０３■（収率６４％）得た。
クロリド１１０■（０，５ｍｍｏ＋）と銀（トリフルオ
ロメタンスルホナート） ２５７■（１ｍｍｏｌ）ヲ入
れ、窒素置換後トルエンｌ−を加えて、室温で２時ｎｎ
Ｗｉ拌した。次いで第１表に示される１−７セチルグモ のトルエンｌ−溶液とジメチル錫ビス（チオフェノラ−
） ） １２８！ （０，３７５ｍｍｏｌ ）のトルエ
ン３ｍ／溶液を入れ、５０℃で２時間攪拌した。反応終
了後飽和重曹水１０７！でクエンチし、酢酸エチル４〇
−で抽出、飽和重曹水３０ｔＩＬｔと飽和食塩水８０コ
で水洗、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後酢酸エチ＃
ｔ−濃ＭＬ、これをシリカゲルカラム（ベンゼン−酢酸
エチ／Ｌ／）にかけて、相当する１−フェニルチオグリ
コジル化合物を２０３■（収率６４％）得た。
生成物はＮＭＲで確認した。
実施例２
実施例１と同様な反応容器に、実施例１と同様にして得
られたジブチル錫ビス（トリフルオロメタンスルホナー
ト） ０．５ｍｍｏｌ 、 下記筒１ 表ノ１−アセチ
ルグリコジル化合物（ＮＱ １ ） ０．５ｍｍｏＪの
トルエン１ゴ溶液及びジグｆ ）Ｖ錫化合物（含硫黄）
０、３７５ ｍ ｒｎｏ＋のトルエン３１１Ｌｔ溶液を
入れ、下記第１表の条件で反応を行ない、実施例１と同
様に処理し、カラムクロマトグラフィーにかけて相当す
る１−有機チオグリコシル化合物を得た。生成物はＮＭ
Ｒで確認した。
られたジブチル錫ビス（トリフルオロメタンスルホナー
ト） ０．５ｍｍｏｌ 、 下記筒１ 表ノ１−アセチ
ルグリコジル化合物（ＮＱ １ ） ０．５ｍｍｏＪの
トルエン１ゴ溶液及びジグｆ ）Ｖ錫化合物（含硫黄）
０、３７５ ｍ ｒｎｏ＋のトルエン３１１Ｌｔ溶液を
入れ、下記第１表の条件で反応を行ない、実施例１と同
様に処理し、カラムクロマトグラフィーにかけて相当す
る１−有機チオグリコシル化合物を得た。生成物はＮＭ
Ｒで確認した。
以上の結果を第１表に示す。
（注）第１表中の記号は次のことを示す。
Ｂｚ：ベンジル基、 Ａｃ ；アセチル基、 Ｍｅ ：
メチル基。
メチル基。
Ｐｈ：フｚ 二／ｌ’基、 ＴＯＩ ： Ｉ） −）リ
ル基、 Ｃｘ ニジクロヘキシル基、 Ｂｕ ： ｎ−
ブチル基、 Ｂｕｔ： ｔ−グチル基。
ル基、 Ｃｘ ニジクロヘキシル基、 Ｂｕ ： ｎ−
ブチル基、 Ｂｕｔ： ｔ−グチル基。
実施例８
窒素置換した実施例１と同様な反応容器ｉに。
ｌ−アセチルグリコジル化合物（第１表ｍｌの化合物）
２５５ｍＦ （０，５ｍｍｏｌ ）のトルエン３ｒｎ
ｔ溶液を入れ、これにトリブチル錫チオフェノラート０
．２５４ゴ（０，７５ｍｍｏｌ ）と三弗化ホウ素エー
テラート（ＩＭ−）ルエン溶Ｄ ） ０．５ｍｌ （０
，５ｍｍｏｌ ）を加え、５０℃で２時間攪拌した。反
応終了後飽和重曹水５−でクエンチし、酢酸エチ／ｖ３
０−で抽出、飽和重曹水３０−と飽和食塩水２０−で水
洗、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後酢酸エチルを濃
縮し、これをシリカゲルカラム（ベンゼン−酢酸エチ）
ｖ）にかけて、相当するｌ−７工ニルチオグリコシル化
合物を２４３〜（収率７７％）得た。生成物のＮＭＲは
実施例１と同じであることを確認した。
２５５ｍＦ （０，５ｍｍｏｌ ）のトルエン３ｒｎ
ｔ溶液を入れ、これにトリブチル錫チオフェノラート０
．２５４ゴ（０，７５ｍｍｏｌ ）と三弗化ホウ素エー
テラート（ＩＭ−）ルエン溶Ｄ ） ０．５ｍｌ （０
，５ｍｍｏｌ ）を加え、５０℃で２時間攪拌した。反
応終了後飽和重曹水５−でクエンチし、酢酸エチ／ｖ３
０−で抽出、飽和重曹水３０−と飽和食塩水２０−で水
洗、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後酢酸エチルを濃
縮し、これをシリカゲルカラム（ベンゼン−酢酸エチ）
ｖ）にかけて、相当するｌ−７工ニルチオグリコシル化
合物を２４３〜（収率７７％）得た。生成物のＮＭＲは
実施例１と同じであることを確認した。
実施例９〜１８
窒素置換した実施例１と同様な反応容器に１１−アシル
グリコジル化合物又はｌ−アルキルグリコジル化合物０
．５ｍｍｏｌの溶液（溶媒３−）を入れ、これにトリブ
チ／ｌ／錫チオフェノラート０．２５４−（０，７５ｍ
ｍｏｌ）と三弗化ホウ素エーテラート（ＩＭ−）／ｌ／
エン溶液） ０．５＋＋／（０，５ｍｍｏ＋ ）を加え
、上記第２−１表及び第２−２表の条件で反応を行ない
、実施例８のように処理し、カラムクロマトグラフィー
にかけて相当するｌ−フェニルチオグリコジル化合物を
得た。生成物はＮＭＲで確認した。
グリコジル化合物又はｌ−アルキルグリコジル化合物０
．５ｍｍｏｌの溶液（溶媒３−）を入れ、これにトリブ
チ／ｌ／錫チオフェノラート０．２５４−（０，７５ｍ
ｍｏｌ）と三弗化ホウ素エーテラート（ＩＭ−）／ｌ／
エン溶液） ０．５＋＋／（０，５ｍｍｏ＋ ）を加え
、上記第２−１表及び第２−２表の条件で反応を行ない
、実施例８のように処理し、カラムクロマトグラフィー
にかけて相当するｌ−フェニルチオグリコジル化合物を
得た。生成物はＮＭＲで確認した。
以上の結果を第２−１表及び第２−２表に示す。
（注） 第２−１表及び第２−２表中の記号は次のこと
を示す。
を示す。
Ｂｚ：ベンジル基、 Ｍｅ ：メチル基、Ａｃニアセチ
ル基。
ル基。
実施例１９〜２２
窒素置換した実施例１と同様な反応容器に。
下記第３表の１−アシルグリコジル化合物０．５ ｍｍ
ｏｌのトルエン３−溶液を入れ、これにトリブチル錫チ
オフエノラー） ０．２５４−（０，７５ｍｍｏｌ ）
と三弗化ホウ素エーテラート（ＩＭ−））ｖエン溶Ｈ）
０．５ｄ （０，５ｍｍｏｌ ）を加え、下記第３表
の条件で反応を行ない、実施例８のように処理し、カラ
ムクロマトグラフィーにかけて相当する１−フェニルチ
オグリコジル化合物を得た。生成物のＮＭＲは実施例１
の生成物と同じスペクトルを示した。
ｏｌのトルエン３−溶液を入れ、これにトリブチル錫チ
オフエノラー） ０．２５４−（０，７５ｍｍｏｌ ）
と三弗化ホウ素エーテラート（ＩＭ−））ｖエン溶Ｈ）
０．５ｄ （０，５ｍｍｏｌ ）を加え、下記第３表
の条件で反応を行ない、実施例８のように処理し、カラ
ムクロマトグラフィーにかけて相当する１−フェニルチ
オグリコジル化合物を得た。生成物のＮＭＲは実施例１
の生成物と同じスペクトルを示した。
以上の結果を第３表に示す。
第 ３ 表
（注）Ｂｚ：ベンジル基
〔発明の効果〕
上記実施例１〜２２の結果から明らかなように本発明方
法によれば、温和な条件下で１−アシル又はｌ−アルキ
ルグリコジル化合物から相当する１−有機チオグリコシ
ル化合物を高収率で得ることができる。これらの効果は
本発明の構成によりはじめて達成されることである。
法によれば、温和な条件下で１−アシル又はｌ−アルキ
ルグリコジル化合物から相当する１−有機チオグリコシ
ル化合物を高収率で得ることができる。これらの効果は
本発明の構成によりはじめて達成されることである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ルイス酸触媒と溶媒の存在下で、 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 （式中Ｒはアルキル基又はアシル基を示す）で表わされ
る１−アルキル又は１−アシルグリコシル化合物に 一般式〔II〕 Ｒ＾１＿ａＳｎ（ＳＲ＾２）＿４＿−＿ａ〔II〕（式中
Ｒ＾１はアルキル基又はアリール基を、Ｒ＾２はアルキ
ル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基
を、ａは２又は３の整数をそれぞれ示す）で表わされる
有機錫化合物を作用させることを特徴とする 一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 （式中Ｒ＾２は上記と同じ意義を有する）で表わされる
１−有機チオグリコシル化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14051687A JPS63303990A (ja) | 1987-06-03 | 1987-06-03 | １−有機チオグリコシル化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14051687A JPS63303990A (ja) | 1987-06-03 | 1987-06-03 | １−有機チオグリコシル化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63303990A true JPS63303990A (ja) | 1988-12-12 |
Family
ID=15270471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14051687A Pending JPS63303990A (ja) | 1987-06-03 | 1987-06-03 | １−有機チオグリコシル化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63303990A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2650281A1 (fr) * | 1989-07-31 | 1991-02-01 | Beghin Say Sa | Nouveau procede de preparation d'alkyl-1-thioglycosides et d'alkyl-glycosides, nouveaux melanges d'anomeres obtenus par ce procede et leur application comme detergents non ioniques |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5323916A (en) * | 1976-08-14 | 1978-03-06 | Rikagaku Kenkyusho | Preparation of thioglycosides |
-
1987
- 1987-06-03 JP JP14051687A patent/JPS63303990A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5323916A (en) * | 1976-08-14 | 1978-03-06 | Rikagaku Kenkyusho | Preparation of thioglycosides |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2650281A1 (fr) * | 1989-07-31 | 1991-02-01 | Beghin Say Sa | Nouveau procede de preparation d'alkyl-1-thioglycosides et d'alkyl-glycosides, nouveaux melanges d'anomeres obtenus par ce procede et leur application comme detergents non ioniques |
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