JPS63301877A - 環状エーテル誘導体 - Google Patents
環状エーテル誘導体Info
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Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔目的〕
本発明は血小板活性化因子(以下PAFと略称)に対し
て、優れた拮抗作用を有する新規な塊状エーテル誘導体
並びにその分子内塩及び薬理上許容される塩に関する。
て、優れた拮抗作用を有する新規な塊状エーテル誘導体
並びにその分子内塩及び薬理上許容される塩に関する。
〈璽東上の利用分野〉
式
(上記式中、pは15又は17を示す。)で我わされる
PAFはアナフィラキシ−状態の因子として、解析・同
定された化合物で1強力な血小板活性化・−巣作用。好
中球活性化作用。
PAFはアナフィラキシ−状態の因子として、解析・同
定された化合物で1強力な血小板活性化・−巣作用。好
中球活性化作用。
皿圧降下作用及び血管透過性亢進作用を有しており、喘
息、炎症、エンドトキシンショック等のイ重々の病態に
於てメディエータ−の一種としテ働いていると考えられ
ている。従って、 PAF拮抗物質は、上記疾患の優れ
た治療剤として有用である。
息、炎症、エンドトキシンショック等のイ重々の病態に
於てメディエータ−の一種としテ働いていると考えられ
ている。従って、 PAF拮抗物質は、上記疾患の優れ
た治療剤として有用である。
〈従来の技術〉
公知のPAF拮抗作用を有するグリセリン誘導体として
は1例えば下記の2つの化合物(Vl)及び(■)が知
られている。
は1例えば下記の2つの化合物(Vl)及び(■)が知
られている。
く当該発明が屏犬しようとする問題点〉本発明者らは、
PAF拮抗作用を有する誘導体の合成とその薬理活性に
ついて1長手に亘り鋭意研究を行った結果、グリセリン
の1位及び2位の水酸基に、鎖状置換基を有する従来の
PAF拮抗物質(例えば、上記化合物(Vl)及び(■
))とは全く構造を異にする新規な環状エーテル構造を
有する誘導体が、持続性及び生物学的利用能の優れた強
力なPAF拮抗作用を有することを見い出し1本発明を
完成した。
PAF拮抗作用を有する誘導体の合成とその薬理活性に
ついて1長手に亘り鋭意研究を行った結果、グリセリン
の1位及び2位の水酸基に、鎖状置換基を有する従来の
PAF拮抗物質(例えば、上記化合物(Vl)及び(■
))とは全く構造を異にする新規な環状エーテル構造を
有する誘導体が、持続性及び生物学的利用能の優れた強
力なPAF拮抗作用を有することを見い出し1本発明を
完成した。
不発明の新規な環状エーテル誘導体及び薬理上許容され
る塩は。
る塩は。
一般式
〔式中、lは2乃至4の整数を示し、A及びBは同−又
は異なって酸素原子又は硫黄原子を示す。R1及びR2
のうち一方は、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖
アルキル基、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖脂
肪族アシル基或いは1式−coNH−R5(If)を有
する基(式中。
は異なって酸素原子又は硫黄原子を示す。R1及びR2
のうち一方は、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖
アルキル基、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖脂
肪族アシル基或いは1式−coNH−R5(If)を有
する基(式中。
R3は炭素数10乃至22個の1類又は分枝鎖アルキル
基を示す。)を示し、他方は。
基を示す。)を示し、他方は。
を有する基(式中、Eは1式−(CH2)の−を有する
基(式中1mは1乃至3の整数を示す。)又は2価の5
乃至7員複累環基を示し、nはO乃至10の驚数を示し
、qは0乃至1の笈数を示し R4は保護されていても
よい水酸基、置換された水酸基、保護されていてもよい
メルカプト基又は置換されたメルカプト基を示し、Qは
。
基(式中1mは1乃至3の整数を示す。)又は2価の5
乃至7員複累環基を示し、nはO乃至10の驚数を示し
、qは0乃至1の笈数を示し R4は保護されていても
よい水酸基、置換された水酸基、保護されていてもよい
メルカプト基又は置換されたメルカプト基を示し、Qは
。
を有する基(式中、R5,R6及びR7は同−又は異な
って水素原子若しくは低級アルキル基を示す。)、又は
式−Gを有する基(式中、Gは5乃至7員複素環基を示
し、該基は所望により。
って水素原子若しくは低級アルキル基を示す。)、又は
式−Gを有する基(式中、Gは5乃至7員複素環基を示
し、該基は所望により。
低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基。
低Mアルコキシ基、カルバモイル基又ハハロゲン原子を
置換基として1乃至3個有していてもよい。)を示し、
Zeはアニオンを示す。)を示す。尚、Q基が式(IV
)をMする基又は式−Gを有する基(式中、Gは5乃至
7員榎素環基であって、望素原子上で結合している基を
示す。)である場合には、nは1乃至10の整数を示す
。〕を有する。
置換基として1乃至3個有していてもよい。)を示し、
Zeはアニオンを示す。)を示す。尚、Q基が式(IV
)をMする基又は式−Gを有する基(式中、Gは5乃至
7員榎素環基であって、望素原子上で結合している基を
示す。)である場合には、nは1乃至10の整数を示す
。〕を有する。
上記一般式<I)において、 R+及びR2のうちの一
方が示す、及びR6が示す「炭素数10乃至22個の直
鎖又は分枝鎖アルキル基」としては。
方が示す、及びR6が示す「炭素数10乃至22個の直
鎖又は分枝鎖アルキル基」としては。
例えばデシル、3−メチルノニル、8−メチルノニル、
3−エチルオクチル、3.7−シメチルオクチル、ウン
デシル、ドデシル、トリデシル。
3−エチルオクチル、3.7−シメチルオクチル、ウン
デシル、ドデシル、トリデシル。
テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル。
1−メチルペンタデシル、14−メチルペンタデシル、
13.13−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、1
5−メチルヘキサデシル、オクタデシル、1−メチルヘ
プタデシル、ノナデシル、アイコシル、ヘナイコシル2
よびトコシルを挙げることができるが、好適には炭素数
13乃至201!iilの直鎖または分枝鎖アルキル基
である。
13.13−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、1
5−メチルヘキサデシル、オクタデシル、1−メチルヘ
プタデシル、ノナデシル、アイコシル、ヘナイコシル2
よびトコシルを挙げることができるが、好適には炭素数
13乃至201!iilの直鎖または分枝鎖アルキル基
である。
R1及びR2のうちの一方が示す「炭素数10乃至22
個の直鎖又は分枝鎖脂肪族アシル基」としては1例えば
ノニルカルボニル1デシル刀ルボニル、3−メチルノニ
ルカルボニル、8−メチルノニルカルボニル、3−エチ
ルオクチルカルボニル、3.7−シメチルオクチルカル
ボニル、ウンデシルカルボニル、ドデシルカルボニル、
トリデシルカルボニル、テトラデシルカルボニル、ペン
タデシルカルボニル、ヘキサデシルカルボニル、1−メ
チルペンタデシルカルボニル、14−メチルペンタデシ
ルカルボニル。
個の直鎖又は分枝鎖脂肪族アシル基」としては1例えば
ノニルカルボニル1デシル刀ルボニル、3−メチルノニ
ルカルボニル、8−メチルノニルカルボニル、3−エチ
ルオクチルカルボニル、3.7−シメチルオクチルカル
ボニル、ウンデシルカルボニル、ドデシルカルボニル、
トリデシルカルボニル、テトラデシルカルボニル、ペン
タデシルカルボニル、ヘキサデシルカルボニル、1−メ
チルペンタデシルカルボニル、14−メチルペンタデシ
ルカルボニル。
+313−ジメチルテトラデシルカルボニル。
ヘプタデシルカルボニル、15−メチルヘキサデシルカ
ルボニル、オクタデシルカルボニル。
ルボニル、オクタデシルカルボニル。
1−メチルヘプタデシルカルボニル、ノナデシルカルホ
ニル、アイコシルカルボニル及ヒヘナイコシルカルボニ
ルを挙げるこ吉ができるが、好適には炭素数13乃至2
0個の直鎖または分枝鎖脂肪族アシル基である。
ニル、アイコシルカルボニル及ヒヘナイコシルカルボニ
ルを挙げるこ吉ができるが、好適には炭素数13乃至2
0個の直鎖または分枝鎖脂肪族アシル基である。
Eで示される「2価の5乃至7員複素環基」jま、硫黄
原子、酸素原子又は/及び窒素面子を1乃至、3個含む
5乃至7員複累環基を示し1例えばフリル、チェニル、
ピロリル、アゼピニル。
原子、酸素原子又は/及び窒素面子を1乃至、3個含む
5乃至7員複累環基を示し1例えばフリル、チェニル、
ピロリル、アゼピニル。
モルホリニル、チオモルホリニル、ピラゾリル。
イミダン゛リル、オキサシリル、インキサゾリル。
チアゾリル1インチアゾリル、1,2.3−オキサジア
ノ゛リル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアヅリ
ル、ピラニル、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニ
ル、ピラジニル及びこれらの基に対応する。部分若しく
は完全還元型の基を享げることかでき、好適には、堡索
原子を少なくとも1個含み、散票原子又は硫黄原子を含
んでいてもよい5乃至7員複素環基を示し1例えば、ピ
ロリル、アゼピニル、モルホリニル。
ノ゛リル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアヅリ
ル、ピラニル、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニ
ル、ピラジニル及びこれらの基に対応する。部分若しく
は完全還元型の基を享げることかでき、好適には、堡索
原子を少なくとも1個含み、散票原子又は硫黄原子を含
んでいてもよい5乃至7員複素環基を示し1例えば、ピ
ロリル、アゼピニル、モルホリニル。
チオモルホリニル、ピラゾリル、イミダゾリル。
オキサゾリル。インキサゾリル、チアゾリル。
インチアゾリル、+、2.3−オキサジアゾリル。
トリアゾリル、テトラゾリル、チアンアゾリル。
ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル
及びこれらの基に対応する1部分若しくは完全還元型の
基を挙げることができ1さらに好適には、イミダゾリル
、オキサシリル、インキサゾリル、チアゾリル及びこれ
らの基に対応する、部分若しくは完全還元型の基である
。
及びこれらの基に対応する1部分若しくは完全還元型の
基を挙げることができ1さらに好適には、イミダゾリル
、オキサシリル、インキサゾリル、チアゾリル及びこれ
らの基に対応する、部分若しくは完全還元型の基である
。
R4で示される「保護されていてもよい水酸基」の保護
基としては1反応における保護基及び生体に投与する際
のプロドラッグ化のための保護基を示し1例えば、ホル
ミル、アセチル。
基としては1反応における保護基及び生体に投与する際
のプロドラッグ化のための保護基を示し1例えば、ホル
ミル、アセチル。
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル
、ピバロイル、バレリル、イソバレリルのようなアルキ
ルカルバニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、
トリクロロアセチル。
、ピバロイル、バレリル、イソバレリルのようなアルキ
ルカルバニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、
トリクロロアセチル。
トリフルオロアセチルのようなハロゲン化アルキルカル
ボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシア
ルキルカルボニル基、(E)−2−メチル−2−ブテノ
イルのような不飽和アルキルカルボニル基等の力百肪族
アシル基;ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイ
ルのようなアリールカルボニル基、0−プロモベンゾノ
fル、p−クロロへ7/イルのよウナハロゲン化アリー
ルカルボニル基、 2.4.6− トIJメチルベンゾ
イル、p−トルオイルのような低級アルキル化アリール
カルボニル基、p−アニソイルのような低級アルコキシ
化アリールカルボニル基。
ボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシア
ルキルカルボニル基、(E)−2−メチル−2−ブテノ
イルのような不飽和アルキルカルボニル基等の力百肪族
アシル基;ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイ
ルのようなアリールカルボニル基、0−プロモベンゾノ
fル、p−クロロへ7/イルのよウナハロゲン化アリー
ルカルボニル基、 2.4.6− トIJメチルベンゾ
イル、p−トルオイルのような低級アルキル化アリール
カルボニル基、p−アニソイルのような低級アルコキシ
化アリールカルボニル基。
p−ニトロベンゾイル、0−ニトロベンソイルのような
ニトロ[ISアリールカルボニル基、 0−(メトキ
シカルボニル)ベンゾイルのような低級アルコキシカル
ボニル化アリールカルボニル基1 p−フェニルベンゾ
イルのようなアリール化アリールカルボニル基等の芳香
族アシル基;テトラヒドロピラン−2−イル、3−ブロ
モテトラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテトラ
ヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチオピラン−2
−イル、4−メトキシテトラヒドロチオピラン−4−イ
ルのようなテトラヒドロピラニル又はテトラヒドロチオ
ピラニル基;テトラヒドロフラン−2−イル、テトラヒ
ドロチオフラン−2−イルのようなテトラヒドロフラニ
ル又はテトラヒドロチオフラニル基ニトリメチルシリル
、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、t
−ブチルジメチルシリル。
ニトロ[ISアリールカルボニル基、 0−(メトキ
シカルボニル)ベンゾイルのような低級アルコキシカル
ボニル化アリールカルボニル基1 p−フェニルベンゾ
イルのようなアリール化アリールカルボニル基等の芳香
族アシル基;テトラヒドロピラン−2−イル、3−ブロ
モテトラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテトラ
ヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチオピラン−2
−イル、4−メトキシテトラヒドロチオピラン−4−イ
ルのようなテトラヒドロピラニル又はテトラヒドロチオ
ピラニル基;テトラヒドロフラン−2−イル、テトラヒ
ドロチオフラン−2−イルのようなテトラヒドロフラニ
ル又はテトラヒドロチオフラニル基ニトリメチルシリル
、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、t
−ブチルジメチルシリル。
メチルジイソプロピルシリル、メチルジー1−ブチルシ
リル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキ
ルシリル基、ジフェニルメチル、ジフェニルブチル、ジ
フェニルインプロピル、フェニルジイソプロピルのよう
な1乃至2個のアリール基で置換されたトリ低級アルキ
ルシリル基等のシリル基;メトキシメチル、1.1−ジ
メチル−1−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポ
キシメチル、インプロポキシメチル、ブトキシメチル、
t−ブトキシメチルのような低級アルコキシメチル基、
2−メトキシエトキシメチルのような低1汲アルコキシ
化低級アルコキシメチル基、2.2.2−トリクロロエ
トキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチルのよ
うなハロゲン化低級アルコキシメチル等のアルコキシメ
チル基;1−エトキシエチル、1−メチル−1−メトキ
シエチル、1−(インプロポキシ)エチルのような低級
アルコキシ化エチル基、 2,2.2−1−リクロロエ
チルのようなノへロデン化エチル基、2−(フェニルゼ
レニル)エチルのようなアリールゼレニル化エチル基等
の置換エチル基;ベノジル、フェネチル、3−フェニル
プロピル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、
ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチル
ジフェニルメチル。
リル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキ
ルシリル基、ジフェニルメチル、ジフェニルブチル、ジ
フェニルインプロピル、フェニルジイソプロピルのよう
な1乃至2個のアリール基で置換されたトリ低級アルキ
ルシリル基等のシリル基;メトキシメチル、1.1−ジ
メチル−1−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポ
キシメチル、インプロポキシメチル、ブトキシメチル、
t−ブトキシメチルのような低級アルコキシメチル基、
2−メトキシエトキシメチルのような低1汲アルコキシ
化低級アルコキシメチル基、2.2.2−トリクロロエ
トキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチルのよ
うなハロゲン化低級アルコキシメチル等のアルコキシメ
チル基;1−エトキシエチル、1−メチル−1−メトキ
シエチル、1−(インプロポキシ)エチルのような低級
アルコキシ化エチル基、 2,2.2−1−リクロロエ
チルのようなノへロデン化エチル基、2−(フェニルゼ
レニル)エチルのようなアリールゼレニル化エチル基等
の置換エチル基;ベノジル、フェネチル、3−フェニル
プロピル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、
ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチル
ジフェニルメチル。
9−アンスリルメチルのような1乃至3個のアリール基
て置換された低級アルキル基、p−メチルベンジル、2
,4.6−トリメチルベンジル。
て置換された低級アルキル基、p−メチルベンジル、2
,4.6−トリメチルベンジル。
3、4.5−1−リメチルベンジル、p−メトキシベン
ジル、p−メトキシフェニルジフェニルメチル、0−ニ
トロベンジル、p−ニトロベンジル。
ジル、p−メトキシフェニルジフェニルメチル、0−ニ
トロベンジル、p−ニトロベンジル。
p−10口ベンジル、p−ブロモベンジル、p−シアノ
ベンジル、p−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス
(0−ニトロフェニル)メチル、ピペロニルのような低
級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シア
ン基でアリール環が置換された1乃至3個のアリール基
で置涙された低級アルキル基等のアラルキル基;メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカル
ボニル、インブトキシカルボニルのような低級アルコキ
シカルボニル基、2,2゜2−トリクロロエトキシカル
ボニル、2−トリノチルンリルエトキシ力ルボニルのよ
うなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換され
た低級アルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボニ
ル基;ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ルのようなアルケニルオキシカルボニル基;ベンジルオ
キシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニ
ル、3.4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、0
−ニトロベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルのような、1乃至2・1固の低級ア
ルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されていても
よいアラルキルオキシカルボニル基のような反応に3け
る保護基及びピバオイルオキシメチルオキシカルボニル
のような生体1こy4する際のプロドラッグ化のための
生体内で力ロ水分解され易い保護基を示し、好適には脂
肪jアシル基、芳香族アシル基、テトラヒドロピラニル
基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アルケニ
ルオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基
及び生体内で加水分解され易い保護基である。
ベンジル、p−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス
(0−ニトロフェニル)メチル、ピペロニルのような低
級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シア
ン基でアリール環が置換された1乃至3個のアリール基
で置涙された低級アルキル基等のアラルキル基;メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカル
ボニル、インブトキシカルボニルのような低級アルコキ
シカルボニル基、2,2゜2−トリクロロエトキシカル
ボニル、2−トリノチルンリルエトキシ力ルボニルのよ
うなハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換され
た低級アルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボニ
ル基;ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ルのようなアルケニルオキシカルボニル基;ベンジルオ
キシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニ
ル、3.4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、0
−ニトロベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルのような、1乃至2・1固の低級ア
ルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されていても
よいアラルキルオキシカルボニル基のような反応に3け
る保護基及びピバオイルオキシメチルオキシカルボニル
のような生体1こy4する際のプロドラッグ化のための
生体内で力ロ水分解され易い保護基を示し、好適には脂
肪jアシル基、芳香族アシル基、テトラヒドロピラニル
基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アルケニ
ルオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基
及び生体内で加水分解され易い保護基である。
R4で示される「置換された水酸基」の置換基としては
5例えば、後にR5、R6、R7及びGで定義される「
低哉アルキル基」と同様の基;カルバモイル、N−メチ
ルカルバモイ/l/、N、N−ジメチルカル゛バモイル
、N−エチルカルバモイルのような窒素原子に1乃至2
個の二級アルキル基が置換していてもよいカルバモイル
基;メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオ+シ
、1−プロパンスルホニルオキシのよウナ1氏級アルカ
ンスルホニルオキシ基;トリフルオロメタンスルホニル
オキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシのよう
なフッ零化されたla %lアルカンスルホニルオキシ
基及びベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホ
ニルオキシのようなアリールスルホニルオキシ着を挙げ
ることかでき、好適には低級アルキル基又は窒素原子に
1乃至2個の低級アルキル基が置換していてもよいカル
バモイル基である。
5例えば、後にR5、R6、R7及びGで定義される「
低哉アルキル基」と同様の基;カルバモイル、N−メチ
ルカルバモイ/l/、N、N−ジメチルカル゛バモイル
、N−エチルカルバモイルのような窒素原子に1乃至2
個の二級アルキル基が置換していてもよいカルバモイル
基;メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオ+シ
、1−プロパンスルホニルオキシのよウナ1氏級アルカ
ンスルホニルオキシ基;トリフルオロメタンスルホニル
オキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシのよう
なフッ零化されたla %lアルカンスルホニルオキシ
基及びベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホ
ニルオキシのようなアリールスルホニルオキシ着を挙げ
ることかでき、好適には低級アルキル基又は窒素原子に
1乃至2個の低級アルキル基が置換していてもよいカル
バモイル基である。
R4で示される「保護されていてもよいメルカプト基」
の保護基としては6通常メルカプトの保護に用いられる
ものであれば限定はないが。
の保護基としては6通常メルカプトの保護に用いられる
ものであれば限定はないが。
好適には R4の「保護されていてもよい水酸基」の保
護基の定義における脂肪族アシル基、芳香族アシル基又
はアラルキル基と同様の基である。
護基の定義における脂肪族アシル基、芳香族アシル基又
はアラルキル基と同様の基である。
R4で示される「置換されたメルカプト基」の置換基と
しては、好適−こは、 R5、R6、R7及びGで定義
される「低級アルキル基」と同様の基である。
しては、好適−こは、 R5、R6、R7及びGで定義
される「低級アルキル基」と同様の基である。
Gで示される「5乃至7員複累環基」は、窒素原子を少
なくとも1個含み、酸素原子又は硫黄原子を含んでいて
もよく、縮環していてもよ1、)5乃至7負複累環憂を
示し1例えば、ピロリル、アゼピニル、モルホリニル、
チオモルホリニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサ
シリル、インキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル
、l、23−オキサシアグリル、トリアゾリル、テトラ
ゾリル、チアジアゾリル、ピリジニル、ピリダジニル、
ピリミジニル、ピラジニル。
なくとも1個含み、酸素原子又は硫黄原子を含んでいて
もよく、縮環していてもよ1、)5乃至7負複累環憂を
示し1例えば、ピロリル、アゼピニル、モルホリニル、
チオモルホリニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサ
シリル、インキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル
、l、23−オキサシアグリル、トリアゾリル、テトラ
ゾリル、チアジアゾリル、ピリジニル、ピリダジニル、
ピリミジニル、ピラジニル。
キノリル、イソキノリル及びこれらの基に対応する1部
分若しくは完全還元型の基を挙げることができ、好適に
は、窒素原子を少なくとも11固含み、酸素原子又は硫
黄原子を含んでいてもよく、縮環していてもよい5乃至
7員芳香M素1基を示し1例えば、ピロリル、アゼピニ
ル。
分若しくは完全還元型の基を挙げることができ、好適に
は、窒素原子を少なくとも11固含み、酸素原子又は硫
黄原子を含んでいてもよく、縮環していてもよい5乃至
7員芳香M素1基を示し1例えば、ピロリル、アゼピニ
ル。
モ゛ルホリニル、チオモルホリニル、ピラゾリル。
イミダゾリル、オキサシリル、インキサゾリル。
チアゾリル1インチアゾリル、1,2.3−オキサジア
ゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル
、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニ
ル、キノリル及びインキノリルを挙げることができ、さ
らに好適には。
ゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル
、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニ
ル、キノリル及びインキノリルを挙げることができ、さ
らに好適には。
イミダゾリル、オキサシリル、チアゾリル、キノリル、
イソキノリル及びピリジニルである。
イソキノリル及びピリジニルである。
R5、R6、R7及びGで示される[低級アルキル基J
:’! 、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、8−ブチル。
:’! 、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、8−ブチル。
t−フチル、n−ペンチル、インペンチル、2−メチル
ブチル、ネオペンチル、n−ヘキシル。
ブチル、ネオペンチル、n−ヘキシル。
4−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−メチル
ペンチル、3,3−ジメチルブチル、λ2−ジメチルブ
チル、1,1−ジメチルブチル。
ペンチル、3,3−ジメチルブチル、λ2−ジメチルブ
チル、1,1−ジメチルブチル。
1.2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル。
2.3−ジメチルブチルのような炭素数1乃至6個の直
鎖または分枝鎖アルキル基を示し、好適には炭素数1乃
至4個のアルキル基である。
鎖または分枝鎖アルキル基を示し、好適には炭素数1乃
至4個のアルキル基である。
Gて示される「ヒドロキシ低級アルキル基」とは、前記
「低級アルキル基」の1乃至2の水素原子が水酸基によ
って置換された基を示す。
「低級アルキル基」の1乃至2の水素原子が水酸基によ
って置換された基を示す。
好適には炭素数1乃至411Iのアルキル基の1個の水
素原子が水酸基によって置換された奏である。
素原子が水酸基によって置換された奏である。
Gて示される「低級アルコキシ基」としては。
前記定義した「低級アルキル基」が政累原子に狽合した
基・を示し1例えばメトキシ、ニドキシ。
基・を示し1例えばメトキシ、ニドキシ。
プロポキシのような炭素数1乃至6個のアルコキシ基2
挙げることができ、好適には炭素数1乃至4個のアルコ
キシ基である。
挙げることができ、好適には炭素数1乃至4個のアルコ
キシ基である。
Gで示される「ハロゲン原子」;マ弗累、塩素。
臭素又は沃素である。
Zeで示される「アニオン」は特に限定はないが、 R
2として好適には、弗化水素酸、塩酸。
2として好適には、弗化水素酸、塩酸。
臭化水素酸4沃化水累酸のようなハロゲン化水累酸、硫
酸、燐酸等の無機酸;メタンスルホン歳、トリフルオロ
メタンスルホン酸、エタンスルホン酸のような低級アル
キルスルホン酸、ベンゼンスルホンrg、p−トルエン
スルホン酸のようなアリールスルホン酸、像酸、マレイ
ン酸等の有鍔酸及びグルタミン酸、アスパラギン酸のよ
うなアミノ醒を挙げることができる。
酸、燐酸等の無機酸;メタンスルホン歳、トリフルオロ
メタンスルホン酸、エタンスルホン酸のような低級アル
キルスルホン酸、ベンゼンスルホンrg、p−トルエン
スルホン酸のようなアリールスルホン酸、像酸、マレイ
ン酸等の有鍔酸及びグルタミン酸、アスパラギン酸のよ
うなアミノ醒を挙げることができる。
又6式(IV)において R5,R6及びR7のうち。
少なくとも1個以上が水素原子である場合(例えばR5
が水素原子である場合)弐■は。
が水素原子である場合)弐■は。
(式中* ” + ql n r R’ + R6及
びR7は前記と同意義を示す。)として表わされること
もある。
びR7は前記と同意義を示す。)として表わされること
もある。
同様に、G基が四吸アミンとなっていない場合は、弐■
は。
は。
(式中I E、qr n* R’及び・りは前記と同意
Q ?示す。)として辰わされる゛こともある。
Q ?示す。)として辰わされる゛こともある。
本発明化合物(1)は1分子内!こり故の不斎炭票(例
えば、エーテル環のエーテル酸素原子のα立及びβ位)
を有し、その各々がR−配位、S−配位である多植の立
体異性体が存在するが、その各々、或いはそれらの混合
体のいずれも本発明に包含される。
えば、エーテル環のエーテル酸素原子のα立及びβ位)
を有し、その各々がR−配位、S−配位である多植の立
体異性体が存在するが、その各々、或いはそれらの混合
体のいずれも本発明に包含される。
化合吻(1)において、好適には。
(1)lが2又は3の化合物
(2)Bが酸素原子である化合吻
(3)Eが式−(CH2)m−を有する基(式中、rD
it前記と同意義を示す。)である化合物 (41Eが窒素原子を少なくとも1個包み、酸素原子又
は硫黄原子を含んでいてもよい5乃至7員複素環基であ
る化合物 151Eがイミダゾリル、オキサシリル、インキサゾリ
ル、チアゾリル又はこれらの基に対応する。H分苦しく
は完全還元型の基である化合物 i6i Gて定義される5乃至7員複素環基部分が望
素原子を少なくとも1個含み、酸素原子又は硫黄原子を
含んでいてもよく、縮環していてもよい5乃至7員芳香
複累環基である化合物 閏 Gで定義される5乃至7員複素環基部分がイミダゾ
リル、オキサシリル、チアゾリル。
it前記と同意義を示す。)である化合物 (41Eが窒素原子を少なくとも1個包み、酸素原子又
は硫黄原子を含んでいてもよい5乃至7員複素環基であ
る化合物 151Eがイミダゾリル、オキサシリル、インキサゾリ
ル、チアゾリル又はこれらの基に対応する。H分苦しく
は完全還元型の基である化合物 i6i Gて定義される5乃至7員複素環基部分が望
素原子を少なくとも1個含み、酸素原子又は硫黄原子を
含んでいてもよく、縮環していてもよい5乃至7員芳香
複累環基である化合物 閏 Gで定義される5乃至7員複素環基部分がイミダゾ
リル、オキサシリル、チアゾリル。
キノリル、インキノリル又はピリジニルである化合物
(81nが1乃至7のVyである化合物+91 R1
が、炭素数10乃至22([glの直鎖又は分枝鎖アル
キル基或いは式−〇〇NH−R5を有する蓬(式中R3
は前記と同意義を示す。)である化合物 +l[) R2が式(2)を有する基である化合物α
υ R5が炭素数13乃至20個の直鎖又は分枝鎖アル
キル基である化合物 12 R’ が保護されていてもよい水酸基又は置
換された水酸基である化合物 仁31 R5,R6及びR7は同−又は異なって、炭
素数1乃至4個のアルキル基である化合司α41Gに定
義される所望の置換基が低級アルキル基又はヒドロキシ
低級アルキル基である化合物 dシlが2又は3であり、Bが酸Z原子であり。
が、炭素数10乃至22([glの直鎖又は分枝鎖アル
キル基或いは式−〇〇NH−R5を有する蓬(式中R3
は前記と同意義を示す。)である化合物 +l[) R2が式(2)を有する基である化合物α
υ R5が炭素数13乃至20個の直鎖又は分枝鎖アル
キル基である化合物 12 R’ が保護されていてもよい水酸基又は置
換された水酸基である化合物 仁31 R5,R6及びR7は同−又は異なって、炭
素数1乃至4個のアルキル基である化合司α41Gに定
義される所望の置換基が低級アルキル基又はヒドロキシ
低級アルキル基である化合物 dシlが2又は3であり、Bが酸Z原子であり。
Eが式−(CH2)m−を有する基(式中1口は前記と
同意義を示す。)であり、Gで定義される5乃至7員複
素環基部分が輩素原子を少なくとも1個含み、酸素原子
又j才は黄、・東予を含んでいてもよく、縮環していて
もよい5乃至7員芳香l累環基であり、nが1乃至7の
整数であり、R1が、炭素数10乃至22個の厘鎖又;
は分枝鎖アルキル基或いは式−CONH−R5を有する
基(式中 BSは前記と同意義を示す。)であり、B2
が式−を有する基である化合物であり R3が炭素数1
3乃至20個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり B4
が保護されていてもよい水酸基又は置換された水酸基で
あり。
同意義を示す。)であり、Gで定義される5乃至7員複
素環基部分が輩素原子を少なくとも1個含み、酸素原子
又j才は黄、・東予を含んでいてもよく、縮環していて
もよい5乃至7員芳香l累環基であり、nが1乃至7の
整数であり、R1が、炭素数10乃至22個の厘鎖又;
は分枝鎖アルキル基或いは式−CONH−R5を有する
基(式中 BSは前記と同意義を示す。)であり、B2
が式−を有する基である化合物であり R3が炭素数1
3乃至20個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり B4
が保護されていてもよい水酸基又は置換された水酸基で
あり。
R5,R6及びR7は同−又は異なって、炭素数1乃至
4個のアルキル基であり、Gて定義される所望の置換基
が低級アルキル基又はヒドロキシ低級アルキル基である
化合物 1J61 lが2又は3であり、Bが酸素原子てあり
。
4個のアルキル基であり、Gて定義される所望の置換基
が低級アルキル基又はヒドロキシ低級アルキル基である
化合物 1J61 lが2又は3であり、Bが酸素原子てあり
。
Eが窒素原子を少tくとも1個含み、酸素原子又は′r
A貢原子を含んでいてもよい5乃至7負複累環基であり
、Gで定義される5乃至7負複累環基部分が窒素原子を
少なくとも1個含み、FR累原子又は硫黄原子を含んで
いてもよく、縮環していてもよい5乃至7負芳香複累環
基であり、nが1乃至7の整数であり。
A貢原子を含んでいてもよい5乃至7負複累環基であり
、Gで定義される5乃至7負複累環基部分が窒素原子を
少なくとも1個含み、FR累原子又は硫黄原子を含んで
いてもよく、縮環していてもよい5乃至7負芳香複累環
基であり、nが1乃至7の整数であり。
R1が、炭素数10乃至22個の直鎖又は分仮鎖アルキ
ル基或いは式−0ONH−R5を有する基(式中、R5
は前記と同意義を示す。)であり R2が式(aを有す
る基である化合物であり。
ル基或いは式−0ONH−R5を有する基(式中、R5
は前記と同意義を示す。)であり R2が式(aを有す
る基である化合物であり。
R3が炭素数13乃至20個の直鎖又は分枝鎖アルキル
基であり H4が保護されていてもよい水酸基又は置換
された水酸基であり、R5゜R6及びR7は同−又は異
なって、炭素数1乃至4個のアルキル基であり、Gで定
義される所望の置換基が低級アルキル基又はヒドロキシ
低級アルキル基である化合物 fJ7) lが2又は3であり、Bが酸素原子であり
。
基であり H4が保護されていてもよい水酸基又は置換
された水酸基であり、R5゜R6及びR7は同−又は異
なって、炭素数1乃至4個のアルキル基であり、Gで定
義される所望の置換基が低級アルキル基又はヒドロキシ
低級アルキル基である化合物 fJ7) lが2又は3であり、Bが酸素原子であり
。
Eがイミダゾリル、オキサン゛リル、イ゛ノキサヅリル
、チアゾリル又はこれらの基に対応する2部分若しくは
完全還元型の基であり、Gで定義される5乃至7負複累
環基鄭分が窒素原子を少なくとも1個含み、酸素原子又
は硫黄原子を含んでいてもよく、縮環していてもよい5
乃至7員芳香複累塊基であり、nが1乃至7のy数であ
り、R1が、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基或いは式−C!0NH−R5をMする基(式中
B5は前記と同意義を示す。)であり R2が弐皿を
有する基である化合物であり +5が炭素数13乃至2
0個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり。
、チアゾリル又はこれらの基に対応する2部分若しくは
完全還元型の基であり、Gで定義される5乃至7負複累
環基鄭分が窒素原子を少なくとも1個含み、酸素原子又
は硫黄原子を含んでいてもよく、縮環していてもよい5
乃至7員芳香複累塊基であり、nが1乃至7のy数であ
り、R1が、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基或いは式−C!0NH−R5をMする基(式中
B5は前記と同意義を示す。)であり R2が弐皿を
有する基である化合物であり +5が炭素数13乃至2
0個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり。
R4が保護されていてもよい水酸基又は置換された水酸
基であり R5,R6及びR7は同−又は異なって、炭
素数1乃至4個のアルキル基であり、Gで定義される所
望の置換基が低級アルキル基又はヒドロキシ低級アルキ
ル基である化合物 FJgIlが2又は3であり、Bが酸漿原子であり。
基であり R5,R6及びR7は同−又は異なって、炭
素数1乃至4個のアルキル基であり、Gで定義される所
望の置換基が低級アルキル基又はヒドロキシ低級アルキ
ル基である化合物 FJgIlが2又は3であり、Bが酸漿原子であり。
Eが式−(CH2)m−をMする基(式甲、mit前記
と同意義を示す。)であり、Gで定義される5乃至7負
複累環基部分がイミダゾリル。
と同意義を示す。)であり、Gで定義される5乃至7負
複累環基部分がイミダゾリル。
オキサグリル、チアゾリル、キノリル、イソキノリル又
はピリジニルであり、nが1乃至7の歪数であり、R+
が、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝類アルキル基
或いは式−C0NH−R5を有する基(成田 +5は前
記と同意義を示す。)であり、R2が式(2)をπする
基である化合物であり、R3が炭素数13乃至20個の
直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、R4が保護されてい
てもよい水酸基又は置換゛された水欲基であり R5,
R6及びR7は同−又は異なって、炭素数1乃至4個の
アルキル基であり、Gで定義される所望の置換基が低級
アルキル基又はヒドロキシ低級アルキル基である化合物 0 lが2又は3であり、Bが酸素原子であり。
はピリジニルであり、nが1乃至7の歪数であり、R+
が、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝類アルキル基
或いは式−C0NH−R5を有する基(成田 +5は前
記と同意義を示す。)であり、R2が式(2)をπする
基である化合物であり、R3が炭素数13乃至20個の
直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、R4が保護されてい
てもよい水酸基又は置換゛された水欲基であり R5,
R6及びR7は同−又は異なって、炭素数1乃至4個の
アルキル基であり、Gで定義される所望の置換基が低級
アルキル基又はヒドロキシ低級アルキル基である化合物 0 lが2又は3であり、Bが酸素原子であり。
Eが窒素原子を少なくとも1個含み、酸素原子又は硫黄
原子を含んでいてもよい5乃至7員V1.累環基であり
、Gで定義される5乃至7負複累環基部分がイミダゾリ
ル、オキサシリル、チアゾリル、キノリル、インキノリ
ル又はピリジニルであり、nが1乃至7の差数であり、
R+が、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基或いは式−〇〇NH−R5を有する基(式中、R3
は前記と同意義を示す。)であり、R2が式(2)を肩
する基である化合物であり、R3が炭素数+3乃至20
個の1鎖又は分枝鎖アルキル基でめり R4が保護され
ていてもよい水酸基又は置侠された水酸基であり。
原子を含んでいてもよい5乃至7員V1.累環基であり
、Gで定義される5乃至7負複累環基部分がイミダゾリ
ル、オキサシリル、チアゾリル、キノリル、インキノリ
ル又はピリジニルであり、nが1乃至7の差数であり、
R+が、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基或いは式−〇〇NH−R5を有する基(式中、R3
は前記と同意義を示す。)であり、R2が式(2)を肩
する基である化合物であり、R3が炭素数+3乃至20
個の1鎖又は分枝鎖アルキル基でめり R4が保護され
ていてもよい水酸基又は置侠された水酸基であり。
R5,R6及びR7は同−又は異なって、炭素数1乃至
4個のアルキル基であり、Gで定義される所望の置換基
が低級アルキル基又はヒドロキシ低級アルキル基である
化合物 1211 lが2又は3であり、Bがま素原子であり
。
4個のアルキル基であり、Gで定義される所望の置換基
が低級アルキル基又はヒドロキシ低級アルキル基である
化合物 1211 lが2又は3であり、Bがま素原子であり
。
Eが・イミダゾリル。オキサシリル、イソキサ゛ノリル
、チアゾリル又はこれらの基に対応する6部分若しくは
完全還元型の基であり、Gで定義される5乃至7員複素
環基部分がイミダゾリル、オキサシリル、チアゾリル、
イソキノリル、キノリル又はピリジニルであり。
、チアゾリル又はこれらの基に対応する6部分若しくは
完全還元型の基であり、Gで定義される5乃至7員複素
環基部分がイミダゾリル、オキサシリル、チアゾリル、
イソキノリル、キノリル又はピリジニルであり。
nが1乃至7の正数であり B1が、炭素数10乃至2
2個のl#J又は分枝鎖アルキル基双いは式−〇〇NH
−R3を有する基(式中R3は前記と同意義を示す。)
であり、R2が弐囮を有する基である化合物であり、R
3が炭素数13乃至20個の直鎖又は分枝鎖アルキル基
であり R4が保護されていてもよい水′V基又はt換
された水酸基であり R5,R6及びR7は同−又は異
なって炭素数1乃至4個のアルキル基であり、Gで定義
される所望の置換基が低級アルキル基又はヒドロキシ低
級アルキル基である化合物 を挙げることができる。
2個のl#J又は分枝鎖アルキル基双いは式−〇〇NH
−R3を有する基(式中R3は前記と同意義を示す。)
であり、R2が弐囮を有する基である化合物であり、R
3が炭素数13乃至20個の直鎖又は分枝鎖アルキル基
であり R4が保護されていてもよい水′V基又はt換
された水酸基であり R5,R6及びR7は同−又は異
なって炭素数1乃至4個のアルキル基であり、Gで定義
される所望の置換基が低級アルキル基又はヒドロキシ低
級アルキル基である化合物 を挙げることができる。
本発明の一般式(I)を有するイi合物の具体例として
は1例えば第1表に記載する化合物を挙げることができ
るが、不発明はこれら化合物に限定されるものではない
。
は1例えば第1表に記載する化合物を挙げることができ
るが、不発明はこれら化合物に限定されるものではない
。
第 1 表
上記例示化合物のうち好適な化合物としては。
7.9.13.32.34.35.36.39.40.
42 。
42 。
43.44.45.4G 、47.48.49.50.
51 。
51 。
52.53.54.55.56.57.58.59.6
0 。
0 。
61.62.63.64.65.66.67.68.6
9 。
9 。
TO,77,78,79,80,91,103,104
゜105.106,111.112,113,114,
115゜+ 16,117,118,120,121.
122,123゜124.125,126,127,1
28,130,131 。
゜105.106,111.112,113,114,
115゜+ 16,117,118,120,121.
122,123゜124.125,126,127,1
28,130,131 。
132.133.135.140,141.142.1
43 。
43 。
145.146,147,148,149,150,1
93゜197.198.227.255,256.25
7.263 。
93゜197.198.227.255,256.25
7.263 。
270及び271を挙げることができる。さらに好適な
化合物としては、42,44,47,51゜52.5B
、62,63,66.6B、70,105,1o6゜1
14、+15.116.117,120,121.12
2゜126.128,132.135,140,142
,143及び147である。
化合物としては、42,44,47,51゜52.5B
、62,63,66.6B、70,105,1o6゜1
14、+15.116.117,120,121.12
2゜126.128,132.135,140,142
,143及び147である。
不発明の塊状エーテル誘導坏は、以下に記框する万云ミ
′こよって製造Tることかできる。
′こよって製造Tることかできる。
上記式中h Ar B* l+ ” r q* K +
G 、 Q。
G 、 Q。
Z”、 R4、R5,R6及びR7は前記と同意義を示
す。
す。
R1’は R1及びR2の定義における炭素数10乃至
22個の直鎖又は分枝鎖アルキル基、炭素数10乃至2
2個の直鎖又は分枝鎖脂肪族アシル西又は式−CONH
−R5を有する基(式中 13は前記と同意義を示す。
22個の直鎖又は分枝鎖アルキル基、炭素数10乃至2
2個の直鎖又は分枝鎖脂肪族アシル西又は式−CONH
−R5を有する基(式中 13は前記と同意義を示す。
)を示し、 R1”は。
R1及びR2の定義における炭素数10乃至22個の1
鎖又は分枝鎖アルキル基を示す。Yは。
鎖又は分枝鎖アルキル基を示す。Yは。
埴紫、臭素、沃累のようなハロゲン原子;脂肪涙アシル
オキシ基;芳香族アシルオキシ基;トリクロロメチルオ
キシのようなトリハロデノメチルオキン基;メタンスル
ホニルオキシ、≠傘−−−17,1−7,8.−一一一
一、1−二、エタンスルスル ホニルオキシのような低級アル!−スルホニルオキシ基
;トリフルでロンタンスルホニルオキシ。ペンタフルオ
ロエタンスルホニルオキシの$t ヨウナハロゲン化砥級アル スルホニルオキシ蟇;→
ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオ
キシのようpアリールスルホニルオキシ基等の脱離基を
示す。Q′は1式−○−RIDを有する基(式中、R1
0はR4の定義における「保護されていてもよい水酸基
」の保MAと同様の基を示す。好適には、脂肪族アシル
基。
オキシ基;芳香族アシルオキシ基;トリクロロメチルオ
キシのようなトリハロデノメチルオキン基;メタンスル
ホニルオキシ、≠傘−−−17,1−7,8.−一一一
一、1−二、エタンスルスル ホニルオキシのような低級アル!−スルホニルオキシ基
;トリフルでロンタンスルホニルオキシ。ペンタフルオ
ロエタンスルホニルオキシの$t ヨウナハロゲン化砥級アル スルホニルオキシ蟇;→
ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオ
キシのようpアリールスルホニルオキシ基等の脱離基を
示す。Q′は1式−○−RIDを有する基(式中、R1
0はR4の定義における「保護されていてもよい水酸基
」の保MAと同様の基を示す。好適には、脂肪族アシル
基。
芳香族アシル基、テトラヒドロピラニル基、トリ低級ア
ルキルシリル基、アルコキシメチル基及びアラルキル基
である。)又は式−Gを有する蓬(式中、G(才前記と
同意義を示す。)を示し。
ルキルシリル基、アルコキシメチル基及びアラルキル基
である。)又は式−Gを有する蓬(式中、G(才前記と
同意義を示す。)を示し。
Q“は1式Yを有する基(式中、Yは前記と同意義を示
す。)又は式−〇を有する基(式中、Gは前記と同意義
を示90)を示す。
す。)又は式−〇を有する基(式中、Gは前記と同意義
を示90)を示す。
R9は、水酸基又はメルカプト基の保護基を示し、谷々
R4で定義された「保護されていてもよい水酸基」の
保護基、「保護されていてもよいメルカプト基」の保護
基と同様の基を示す。
R4で定義された「保護されていてもよい水酸基」の
保護基、「保護されていてもよいメルカプト基」の保護
基と同様の基を示す。
R4/は R4の定義における保護された水酸基。
1x換された水酸基、保護されたメルカプト基又は直換
さnたメルカプト基を示す。
さnたメルカプト基を示す。
R4/が、保護された水歌基又は保護されたメルカプト
基を示す場合に、その保護基は R9基と区別して除去
可能な保護基でなければならない。
基を示す場合に、その保護基は R9基と区別して除去
可能な保護基でなければならない。
好適には、R4′が保護された水酸基を示す場合の保護
基としては、テトラヒドロピラニル基群のような酸性条
件下に除去しうる基が、保護されたメルカプト基を示す
場合の保護基としては脂肪族若しくは芳香族アンル基群
のような弱塩基性条件下に除去しつる基が用いられる。
基としては、テトラヒドロピラニル基群のような酸性条
件下に除去しうる基が、保護されたメルカプト基を示す
場合の保護基としては脂肪族若しくは芳香族アンル基群
のような弱塩基性条件下に除去しつる基が用いられる。
R9として好適には、アラルキル奏群のような2元染左
下に除去しうる棄が使用される。
下に除去しうる棄が使用される。
E′は、Eの定義における2IiiIiの5乃至7員複
素環基を示す。
素環基を示す。
E“は、Eの定義に2ける式−(CH2)m−を有する
基(式中1mは前記と同意義を示す。)を示す。
基(式中1mは前記と同意義を示す。)を示す。
Ae及びB法は、苓発明の一般式(1)を有する化合ワ
又はその合成田間体の製法である。
又はその合成田間体の製法である。
C去及びD云は1本発明の一般式(IJに2いてEが1
式−(CH2)m−を有する蚕(式中1mは前記とI同
意義を示す。)である化合物又はその合成中間体の製法
である。
式−(CH2)m−を有する蚕(式中1mは前記とI同
意義を示す。)である化合物又はその合成中間体の製法
である。
E法は、本発明の一般式[11において B2が、式(
III)を有する基である化合物又はその合成中間体の
製法である。
III)を有する基である化合物又はその合成中間体の
製法である。
F法は、本発明の一般式(13において、R2が、式(
nT)を有する基であり、Eが、式−〇E2−を有する
基である化合物の製法である。
nT)を有する基であり、Eが、式−〇E2−を有する
基である化合物の製法である。
G法は、上記で製造した合成中間体(XIV) 。
(患)、(罵) 、 0Th) 、 C罵)又は(京蜀
を、化合物0り又は式HGを有する化合物(式中、Gは
前記と同意義を示す。)と反応させて本発明化合*<r
+を製造する方法である。
を、化合物0り又は式HGを有する化合物(式中、Gは
前記と同意義を示す。)と反応させて本発明化合*<r
+を製造する方法である。
上記各工程における反応試薬及び反応条件を以下に述べ
る。
る。
第1工程は、末端に水酸基を有する化合物(■)と散性
水酸基を有する化合物を、光延反応の条件下に反応させ
ることにより、エーテル化合物(X)を製造する工程で
ある。
水酸基を有する化合物を、光延反応の条件下に反応させ
ることにより、エーテル化合物(X)を製造する工程で
ある。
反応は、ツメチルアゾ・ジカルボキシレート、ジエチル
アゾジカルボキシレートのようなジ低級アルキルアゾジ
カルボキシレート及びトリフェニルホスフィンのような
トリアリールホスフィンを試鼓として用い、浴媒甲で実
施される。
アゾジカルボキシレートのようなジ低級アルキルアゾジ
カルボキシレート及びトリフェニルホスフィンのような
トリアリールホスフィンを試鼓として用い、浴媒甲で実
施される。
反応溶層としては1反応7xk讐しないものであれば特
に限定はないが、好適には、ベンゼン。
に限定はないが、好適には、ベンゼン。
トルエンのような芳番族炭化水素類又は、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフランのようなエーテル類を享げるこ
とができる。
ル、テトラヒドロフランのようなエーテル類を享げるこ
とができる。
反応温度及び反応時間は、主に原料化合物及び試薬の1
類により異なるが、好適には0℃乃至100℃で15分
乃至2時間である。
類により異なるが、好適には0℃乃至100℃で15分
乃至2時間である。
反応終了後1本反応の目的化合mcx+は常法に便って
反応混合物から採取される。例えば反応混合荀に水と混
和しない1磯溶剤を刃口え、水洗後、溶剤を留去するこ
とによって祷られる。得られた目的化合物は必要ならば
常、法1例えば再逅晶、再沈[7たはクロマトグラフィ
ーなどによって更に精製することができる。
反応混合物から採取される。例えば反応混合荀に水と混
和しない1磯溶剤を刃口え、水洗後、溶剤を留去するこ
とによって祷られる。得られた目的化合物は必要ならば
常、法1例えば再逅晶、再沈[7たはクロマトグラフィ
ーなどによって更に精製することができる。
第2工場は、末端に水酸基又はメルカプト基を有する化
合物(Xll)とアルキル化剤(XI)とを塩基の存在
下反応させ、エーテル又はチオエーテル化合物■ヲ製造
する工程である。
合物(Xll)とアルキル化剤(XI)とを塩基の存在
下反応させ、エーテル又はチオエーテル化合物■ヲ製造
する工程である。
匣用される溶媒としては1本反応に関与しないものであ
れば特に限定はなく1例えばエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トル
エンのような芳香展炭化水=a;N、N−ジメチルホル
ムアミド。
れば特に限定はなく1例えばエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トル
エンのような芳香展炭化水=a;N、N−ジメチルホル
ムアミド。
N、N−ジメチルアセトアミドのようなアミド類;ジメ
チルスルホキサイド又はヘキサメチルホスホロトリアミ
ドを挙げることができ、好適にはベンゼン、 N、N−
ジメチルホルムアミド又はヘキサメチルホスホロトリア
ミドである。
チルスルホキサイド又はヘキサメチルホスホロトリアミ
ドを挙げることができ、好適にはベンゼン、 N、N−
ジメチルホルムアミド又はヘキサメチルホスホロトリア
ミドである。
また1更用される塩泰としては、化合物の・;也の部分
に形番を与えないものであれば籍に限定はないが、好適
には酸頑合剤であるトリエチルアミン、1,5−ジアザ
ビシクロ(5,4,0)ウンデク−5−エン、ピリジン
、2.6−ルチジン、ジメチルアニリン、 N、N−ジ
メチルアミノピリジンのよう’l’ 7に徹塩棄;水酸
化すl−IJウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金
属水酸化物あるいは水素化ナトリウム、水素化カリウム
のようなアルカリ金属水素化物があげられ、好適にはア
ルカリ金属水酸化物である。反応温度は特に限定はなく
1例えば0℃乃至150℃で実施されるが、好適には6
0℃乃至90℃で行なわれる。
に形番を与えないものであれば籍に限定はないが、好適
には酸頑合剤であるトリエチルアミン、1,5−ジアザ
ビシクロ(5,4,0)ウンデク−5−エン、ピリジン
、2.6−ルチジン、ジメチルアニリン、 N、N−ジ
メチルアミノピリジンのよう’l’ 7に徹塩棄;水酸
化すl−IJウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金
属水酸化物あるいは水素化ナトリウム、水素化カリウム
のようなアルカリ金属水素化物があげられ、好適にはア
ルカリ金属水酸化物である。反応温度は特に限定はなく
1例えば0℃乃至150℃で実施されるが、好適には6
0℃乃至90℃で行なわれる。
反応時間は主に反応温度、原料化合物の1類によって異
なり1例えば1時間乃至3日であるが。
なり1例えば1時間乃至3日であるが。
好適には、4乃至16時間である。
反応終了後1本反応の目的化合物■は常法に従って反応
混合物から採取される。例えば反応混合器に水と混和し
ない有機浴剤を加え、水洗(JQ 、 ii+」を留去
することによって得られる。得られた目的化合物は必要
ならば常法1例えば再纜晶、再沈澱またはクロマトグラ
フィーなどによって更に精襄することができる。
混合物から採取される。例えば反応混合器に水と混和し
ない有機浴剤を加え、水洗(JQ 、 ii+」を留去
することによって得られる。得られた目的化合物は必要
ならば常法1例えば再纜晶、再沈澱またはクロマトグラ
フィーなどによって更に精襄することができる。
第3工程は、末端に刀く叡泰又はメルカプト基を1する
化合物(Xl[)とアルキル化剤(XI[[)、:!=
f鵡2工橿と而はにして反応させ、エーテル又はチオエ
ーテル化合物とした億、水酸基又はメルカプト基の保護
基を除去し、更に水酸基又はメルカプト基を1式R+”
−y(式中 R+ l’F及びYは前記と同意義を示す
。)を肩する化合物を用い、第2工場に従ってアルキル
化8式R+/? y(式甲、Yは前記と同意義を示し
R1“′は炭素i 1 G乃至22個の1鎖又は分枝
鎖脂肪族アシル基を示す。)ヲ育するカルボン酸の反応
性誘導体を用い、常法に従ってアシル化又は式R3−N
=C=O(R3は前記と同意義を示す。)を肩する化合
物を用い、常法に促ってカルバメート化することにより
、化合物(Xlを調造する工程である。
化合物(Xl[)とアルキル化剤(XI[[)、:!=
f鵡2工橿と而はにして反応させ、エーテル又はチオエ
ーテル化合物とした億、水酸基又はメルカプト基の保護
基を除去し、更に水酸基又はメルカプト基を1式R+”
−y(式中 R+ l’F及びYは前記と同意義を示す
。)を肩する化合物を用い、第2工場に従ってアルキル
化8式R+/? y(式甲、Yは前記と同意義を示し
R1“′は炭素i 1 G乃至22個の1鎖又は分枝
鎖脂肪族アシル基を示す。)ヲ育するカルボン酸の反応
性誘導体を用い、常法に従ってアシル化又は式R3−N
=C=O(R3は前記と同意義を示す。)を肩する化合
物を用い、常法に促ってカルバメート化することにより
、化合物(Xlを調造する工程である。
保護基の除去にその1順によって異なるが。
−奴にこの分野の技術において周知の方法によって以下
の様に英施される。
の様に英施される。
水鍍憂の保護基として、シリル基を使用した4合には1
通常弗化テトラブチルアンモニウムのような弗累アニオ
ンを主成する化合物で処理することにより除去する。反
応溶媒は反3を阻讐しないものであれば吾に吹足はない
が、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類が好適である。反応温度及び反応時間は特に限定はな
いが1通常型温で10乃至18時間反応させる。
通常弗化テトラブチルアンモニウムのような弗累アニオ
ンを主成する化合物で処理することにより除去する。反
応溶媒は反3を阻讐しないものであれば吾に吹足はない
が、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類が好適である。反応温度及び反応時間は特に限定はな
いが1通常型温で10乃至18時間反応させる。
水酸基の保護基又はメルカプト基の保護基が。
アラルキルオキシカルボニル基又はアラルキル基である
場合には1通常、還元剤と接触させることにより除去す
ることができる。例えば、パラジウム炭素、白金、ラネ
ーニッケルのような触媒を用い、冨温にて接触還元を行
なうことにより連取される。反応は溶媒の存在下に行な
われ、使用される反応溶媒としては本反応に関与しない
ものであれば特に限定はないが、メタノール、エタノー
ルのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類、酢酸のような脂肪酸又はこれ
らの有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。反応温度
及び反応時間は出発物質及び便用する還元剤等によつ、
て異なるが1通常0℃乃至型温で、5分乃至12#閣で
ある。
場合には1通常、還元剤と接触させることにより除去す
ることができる。例えば、パラジウム炭素、白金、ラネ
ーニッケルのような触媒を用い、冨温にて接触還元を行
なうことにより連取される。反応は溶媒の存在下に行な
われ、使用される反応溶媒としては本反応に関与しない
ものであれば特に限定はないが、メタノール、エタノー
ルのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類、酢酸のような脂肪酸又はこれ
らの有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。反応温度
及び反応時間は出発物質及び便用する還元剤等によつ、
て異なるが1通常0℃乃至型温で、5分乃至12#閣で
ある。
又、液体アンモニア中若しくはメタノール。
エタノールのようなアルコール中において、−78℃〜
−20℃で、金属リチウム若しくはナトリウムを作用さ
せることによっても除去できる。
−20℃で、金属リチウム若しくはナトリウムを作用さ
せることによっても除去できる。
更に、塩化アルミニウムー沃化ナトリウム又はトリメチ
ルシリルイオダイドのようなアルキルンツルハライド類
を用いても除去することができる。反応は溶媒の存在下
に行なわれ、使用される反応溶媒としては不反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、好適には、アセ
トニトリルのようなニトリル類、メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの
混合溶媒が正月される。反応温度は出発物質等によって
異なるが1通常は0℃乃至50℃である。反応基質が硫
黄原子を有する場合においては、好適に(;塩化アルミ
ニウムー沃化ナトリウムが用いられる。
ルシリルイオダイドのようなアルキルンツルハライド類
を用いても除去することができる。反応は溶媒の存在下
に行なわれ、使用される反応溶媒としては不反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、好適には、アセ
トニトリルのようなニトリル類、メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの
混合溶媒が正月される。反応温度は出発物質等によって
異なるが1通常は0℃乃至50℃である。反応基質が硫
黄原子を有する場合においては、好適に(;塩化アルミ
ニウムー沃化ナトリウムが用いられる。
水取基の保護基又はメルカプトiの保護基が。
艙肪涙アシル基、芳香涙アシル基又はアルコキシカルボ
ニル基である場合には、塩基で処理することにより除去
することができる。塩基としては、化合物の他の部分に
影響を与えないものであれば特に限定はないが、好適に
はすI−IJウムメトキシドのような金属アルコラード
類、アンモニア水、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム。
ニル基である場合には、塩基で処理することにより除去
することができる。塩基としては、化合物の他の部分に
影響を与えないものであれば特に限定はないが、好適に
はすI−IJウムメトキシドのような金属アルコラード
類、アンモニア水、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム。
水酸化カリウムのようなアルカリ金、駕水醒化物又は濃
アンモニア−メタノールを用いて芙延される。使用され
る溶媒としては通常の加水分解反応に1死用されるもの
であれば特に限定はなく。
アンモニア−メタノールを用いて芙延される。使用され
る溶媒としては通常の加水分解反応に1死用されるもの
であれば特に限定はなく。
水、メタノール、エタノール、n−プロパツールのよう
なアルコール類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類のような有慎溶媒又は水と有機溶
媒との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は
出発物質及び用いる塩基等によって異なり特に限定はな
いが、副反応を脚詐」するために1通常は0℃乃至15
0℃で、1乃至10時間である。
なアルコール類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類のような有慎溶媒又は水と有機溶
媒との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は
出発物質及び用いる塩基等によって異なり特に限定はな
いが、副反応を脚詐」するために1通常は0℃乃至15
0℃で、1乃至10時間である。
水=Sの保護基が、アルコキシメチル基、テトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロフラニル基又は置換されたエ
チル基である場合には1通常溶媒中で酸で処理すること
により除去することができる。使用される酸としては、
好適には塩酸、酢酸−硫酸、p−トルエンスルホン酸又
は酢酸等である。使用される溶媒としては本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが。
ピラニル基、テトラヒドロフラニル基又は置換されたエ
チル基である場合には1通常溶媒中で酸で処理すること
により除去することができる。使用される酸としては、
好適には塩酸、酢酸−硫酸、p−トルエンスルホン酸又
は酢酸等である。使用される溶媒としては本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが。
メタノール、エタノールのようなアルコール類;テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類又はこれ
らの五戦溶媒と水きの混合溶媒が好適である。反応温度
及び反応時間は出発物質及び用いる酸の1類等によって
異なるが。
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類又はこれ
らの五戦溶媒と水きの混合溶媒が好適である。反応温度
及び反応時間は出発物質及び用いる酸の1類等によって
異なるが。
通萬は0℃乃至50℃で、10分乃至18時間である。
水酸基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は1通常前記水酸基の保護基が脂肪族アシル基、
芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合
の除去反応の条件と同様にして塩基と処理することによ
り脱離させることができる。尚、アリルオキシカルボニ
ルの場合は0%にパラジウム及びトリフェニルホスフィ
ン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除去す
る方法が簡便で、副反応が少なく英日することができる
。
る場合は1通常前記水酸基の保護基が脂肪族アシル基、
芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合
の除去反応の条件と同様にして塩基と処理することによ
り脱離させることができる。尚、アリルオキシカルボニ
ルの場合は0%にパラジウム及びトリフェニルホスフィ
ン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除去す
る方法が簡便で、副反応が少なく英日することができる
。
アシル化反応において、Yがハロゲン原子である場合に
は1反応は溶媒中、塩基の存在下に実施される。
は1反応は溶媒中、塩基の存在下に実施される。
使用される反応溶媒としては1反応を阻讐せず、出発原
料をある程度溶解するものであれば荷に限定はないが、
好適にはメチレンクロリド。
料をある程度溶解するものであれば荷に限定はないが、
好適にはメチレンクロリド。
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル使用され
る塩基としては、アミン類であれば特に限定はないが、
好適にはトリエチルアミン。
る塩基としては、アミン類であれば特に限定はないが、
好適にはトリエチルアミン。
ジエチルアミンまたはピリジンが用いられる。
反応温度および反応時間は、用いる出発物質、溶媒2よ
び塩基の条件により異なるが、0℃から120℃の範囲
で行う場合には2〜24時間が好適である。
び塩基の条件により異なるが、0℃から120℃の範囲
で行う場合には2〜24時間が好適である。
ジ
スルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、脂
肪族アシルオキシ基又は芳香族アシルオキシ憂を示す場
合には1反応において。
肪族アシルオキシ基又は芳香族アシルオキシ憂を示す場
合には1反応において。
塩基は必ずしも必要ではなく、直ちに反応するが、埴蟇
を使用した場合は加速される。
を使用した場合は加速される。
この場合に使用される溶媒としては5本反応(こH4し
ないものであれば荷に限定はなく1例エバクロロホルム
、ジクロロメタン、ジクロロエタンのようなハロゲン化
炭化水素類又はエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類ヲ挙げることができ、好適には
ジクロロメタン又はテトラヒドロフランである。
ないものであれば荷に限定はなく1例エバクロロホルム
、ジクロロメタン、ジクロロエタンのようなハロゲン化
炭化水素類又はエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類ヲ挙げることができ、好適には
ジクロロメタン又はテトラヒドロフランである。
反C温度は荷に限定はないが1通常O℃乃至50℃て実
施されるが、好適には0℃乃至20℃であり2反応時間
は、主に反応温度又は原料化合意の1類によって異なる
が1通常0.5乃至24時間である。
施されるが、好適には0℃乃至20℃であり2反応時間
は、主に反応温度又は原料化合意の1類によって異なる
が1通常0.5乃至24時間である。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
単離することができる。例えば、再猪晶1分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
n裂して、純品を得ることができる。
単離することができる。例えば、再猪晶1分取用薄層ク
ロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等により
n裂して、純品を得ることができる。
カルバメート化反応は、弐R5−C00H(式中。
R5は前記と同!義を示す。)を有する化合物に、
DPPA(ジフェニルホスホリルアジド)をクロロホル
ム、トルエン、ベンゼン、ジクロロメタン、テトラヒド
ロフランのような不活性溶媒中、好適にはトルエン又は
ベンゼン中、トリエチルアミン、トリブチルアミンのよ
うな有機塩基の存在下&0℃乃至150℃にて反応させ
ることにより浮島に合成でき、この溶液に、直接反応さ
せる化合物を加え、さらに2乃至24時間、60℃乃至
150℃反応させることにより。
DPPA(ジフェニルホスホリルアジド)をクロロホル
ム、トルエン、ベンゼン、ジクロロメタン、テトラヒド
ロフランのような不活性溶媒中、好適にはトルエン又は
ベンゼン中、トリエチルアミン、トリブチルアミンのよ
うな有機塩基の存在下&0℃乃至150℃にて反応させ
ることにより浮島に合成でき、この溶液に、直接反応さ
せる化合物を加え、さらに2乃至24時間、60℃乃至
150℃反応させることにより。
目的化合′MJ(yJ8製造することができる。好適に
は、インシアナート化合物を合成した時点で。
は、インシアナート化合物を合成した時点で。
リン化合物を除去するために飽和炭酸水累ナトリウム水
及び水で洗浄し、溶媒留去、乾燥後。
及び水で洗浄し、溶媒留去、乾燥後。
さらに上記例示の溶媒より選ばれる溶媒(好適にはトル
エン)に溶解し1反応させる化合物を加え反応させるか
、市販のインシアナート化合物を同様の溶媒中で反応さ
せる。
エン)に溶解し1反応させる化合物を加え反応させるか
、市販のインシアナート化合物を同様の溶媒中で反応さ
せる。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応1合物から
*Stすることがでさる。例えば、再猪晶1分散用薄、
iクロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等に
より精製して、純品を得ることができる。
*Stすることがでさる。例えば、再猪晶1分散用薄、
iクロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等に
より精製して、純品を得ることができる。
第4工程は、化合物■において、末端の1′基が式−Q
−R10を有する基(成田、R10は前記と同を輌を示
す。)である揚台にこの−Q−R+0基を、Y基に変換
し、化合物(XIV)を製造する工程である。
−R10を有する基(成田、R10は前記と同を輌を示
す。)である揚台にこの−Q−R+0基を、Y基に変換
し、化合物(XIV)を製造する工程である。
まず、ヒドロキシ基の保護基RIDの除去を第化、fl
ljffメタンスルホニル、トルエンスルホニル、トリ
フルオロメタンスルホニルまたハトエステル合成におい
て便用される溶媒としては1本反応に関与しないもので
あれば特に限定はなく1例えばクロロホルム、ジクロロ
メタン。
ljffメタンスルホニル、トルエンスルホニル、トリ
フルオロメタンスルホニルまたハトエステル合成におい
て便用される溶媒としては1本反応に関与しないもので
あれば特に限定はなく1例えばクロロホルム、ジクロロ
メタン。
ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類;エーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう1よエーテ
ル類又はベンゼン、トルエンのような芳香j炭化水素類
を挙げることかで舌。
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう1よエーテ
ル類又はベンゼン、トルエンのような芳香j炭化水素類
を挙げることかで舌。
好適に(オシクロロメタン又はベンゼンである。
また1更用される埴基としては特に限定はないが。
好適には酸汚合剤であるトリエチルアミン、ピリジン、
2.6−ルチジン、ジメチルアニリンのような有機塩基
である。反応温度は特に限定はないが、好適には0℃乃
至25℃で行われ1反応時間は主に1反応温度又は原料
化合物の種類(°こよって異なるが、好適には0.5乃
至24時間である。
2.6−ルチジン、ジメチルアニリンのような有機塩基
である。反応温度は特に限定はないが、好適には0℃乃
至25℃で行われ1反応時間は主に1反応温度又は原料
化合物の種類(°こよって異なるが、好適には0.5乃
至24時間である。
ハロゲンrtu反応は1通常水酸基をハロゲン原子に直
換できる反応であれば舟に限定;ばないが、好適には、
四ハロゲン化炭素及びトリフェニルホスフィン又は三ハ
ロゲン化リンを用いて実施される。使用される溶媒とし
ては1本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が。
換できる反応であれば舟に限定;ばないが、好適には、
四ハロゲン化炭素及びトリフェニルホスフィン又は三ハ
ロゲン化リンを用いて実施される。使用される溶媒とし
ては1本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が。
好適にはクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ンのようなハロゲン化炭化水素類又はアセトニトリルの
ようなニトリル類である。反応温度は特に限定はないが
、好適には一25℃乃至厘温で行われ1反応時間は主に
反応温度又は原゛叫化合物の種類によって異なるが1通
常1乃至60分である。
ンのようなハロゲン化炭化水素類又はアセトニトリルの
ようなニトリル類である。反応温度は特に限定はないが
、好適には一25℃乃至厘温で行われ1反応時間は主に
反応温度又は原゛叫化合物の種類によって異なるが1通
常1乃至60分である。
又、上記合成したエステルをヨウ化ナトリウム、臭化ナ
トリウム、塩化カリウムのようなアルカリ金属ハライド
と反応させることによっても、ハロゲン置換化合物を合
成することができる。使用される溶媒としては、アルカ
リ金属ハライドを溶解させることのできる極性浴法であ
り1本反応に関与しないものであれば荷に限定はないが
1例えば、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド
p、b+、1i−ジメチルホルムアミ ドのようなアミ
ド類又はヘキサメチルホスホロ トリアミドのようなリ
ン酸トリアミド類を挙げることができ、好適にはN、N
−ジメチルホルムアミドである。反応温度は特に限定は
ないが。
トリウム、塩化カリウムのようなアルカリ金属ハライド
と反応させることによっても、ハロゲン置換化合物を合
成することができる。使用される溶媒としては、アルカ
リ金属ハライドを溶解させることのできる極性浴法であ
り1本反応に関与しないものであれば荷に限定はないが
1例えば、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド
p、b+、1i−ジメチルホルムアミ ドのようなアミ
ド類又はヘキサメチルホスホロ トリアミドのようなリ
ン酸トリアミド類を挙げることができ、好適にはN、N
−ジメチルホルムアミドである。反応温度は特に限定は
ないが。
好適には20℃乃至80℃で行われ1反応時間は、主に
反応温度又は原料化合物の種類によって異なるが1通常
1乃至24時間である。
反応温度又は原料化合物の種類によって異なるが1通常
1乃至24時間である。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応温合物から
単湘することができる。例えば、再慴晶1分取用薄〕1
クロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等によ
り柑衾して、純品を得ることができる。
単湘することができる。例えば、再慴晶1分取用薄〕1
クロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー等によ
り柑衾して、純品を得ることができる。
第5工程は、化合物(XV)と化合物■を、(エニ逢、
に準じて反応させることにより、化合物(XVf)を製
造する工程である。
に準じて反応させることにより、化合物(XVf)を製
造する工程である。
第6エ程は、化合物(X′X’I[)と化合物(追1)
を。
を。
第2工程に準じて反応させることにより、化合’iii
!I (XVI)を製造する工程である。
!I (XVI)を製造する工程である。
第7エ程は、化合物(XX)と1ヒ合吻(I曜)を1丼
3工程に準じて反応させることにより、化合物(X■)
を製造する工程である。
3工程に準じて反応させることにより、化合物(X■)
を製造する工程である。
第8工程は、化合物(XVI)を纂4工程に準じて処理
することにより、化合物(XX)を製造する工程である
。
することにより、化合物(XX)を製造する工程である
。
第9工程は、末端に水酸基又はメルカプト基を有する化
合物(XXII)とアルキル化剤(XX I )とを第
2工埋七同様にして反応させ、エーテル又はチオエーテ
ル化合物とした後、落3工程に準じて処理し、更に第4
工程に翠じて末端のQ′基をQ“基に変換することによ
り、化合物(XXII[)を製造する工程である。
合物(XXII)とアルキル化剤(XX I )とを第
2工埋七同様にして反応させ、エーテル又はチオエーテ
ル化合物とした後、落3工程に準じて処理し、更に第4
工程に翠じて末端のQ′基をQ“基に変換することによ
り、化合物(XXII[)を製造する工程である。
第10工程は、化合物(XXI’V)と化合物(XXI
)を反応させ、第9工程に準じて処理することにより、
化合物(XXV)を製造する工程である。
)を反応させ、第9工程に準じて処理することにより、
化合物(XXV)を製造する工程である。
第11工程は、化合物(XXW)と化合物(Xff)を
1g2工程に準じて反応させることにより。
1g2工程に準じて反応させることにより。
化合物(XX頭)を製造する工程である。
第12工程は、化合m(X■)を出発原料として用い、
特開昭61−267592号公報記載のガミ及び第3工
程C′こ従って反6を行うことにより。
特開昭61−267592号公報記載のガミ及び第3工
程C′こ従って反6を行うことにより。
本発明の一般式<1>において、R2が弐−を有する基
を示す化合物又はその合成中間体である化合′$!J(
XXvIIr) ヲM 造t ル工8 ’T: アル。
を示す化合物又はその合成中間体である化合′$!J(
XXvIIr) ヲM 造t ル工8 ’T: アル。
第13工程は、化合物(XXIX)の水酸基又はメルカ
プト基を溶媒中、塩基の存在下に、アリルクロリド、ア
リルプロミド、アリルハライドのようなアリルハライド
と反応させ、化合物(XXX)を製造する工程である。
プト基を溶媒中、塩基の存在下に、アリルクロリド、ア
リルプロミド、アリルハライドのようなアリルハライド
と反応させ、化合物(XXX)を製造する工程である。
使用される溶媒としては1本反応に関与しないものであ
れば特に限定はなく1例えばエーテル、テトラヒドロフ
ランのようなエーテル類;トルエン、ベンゼンのような
芳香法炭化水素類又はジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドのようなアミド類を挙げることができ、好
適にはアミド類である。
れば特に限定はなく1例えばエーテル、テトラヒドロフ
ランのようなエーテル類;トルエン、ベンゼンのような
芳香法炭化水素類又はジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドのようなアミド類を挙げることができ、好
適にはアミド類である。
使用される塩基としては1通常塩基として使用されるも
のであれば限定はなく1例えば水素化カリウム、水素化
ナトリウムのようなアルカリ金属水素化物;水酸化すl
−IJウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸
化物又はピリジン、 N、N−ジメチルアミノピリジン
、1.5−ジアザビシクロC5,4,0)ウンデク−5
−エン。
のであれば限定はなく1例えば水素化カリウム、水素化
ナトリウムのようなアルカリ金属水素化物;水酸化すl
−IJウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸
化物又はピリジン、 N、N−ジメチルアミノピリジン
、1.5−ジアザビシクロC5,4,0)ウンデク−5
−エン。
トリエチルアミン、2.6−ルチジン、ジメチルアニリ
ンのような有機塩基を挙げることができ。
ンのような有機塩基を挙げることができ。
好適にはアルカリ金属水素化物である。
反応温度及び反応時間は、主に原料化合物。
溶媒、塩基の種類によって異なるが1通常0℃乃至10
0℃で、1乃至24時間である。
0℃で、1乃至24時間である。
第14工程は、化合物(XXX)のアリル基の二重活き
を、溶媒中で酸化してエポキシド−と変戻し、化合a
(XXXI)を製造する工程である。
を、溶媒中で酸化してエポキシド−と変戻し、化合a
(XXXI)を製造する工程である。
便用される溶媒としては、不反応に関与しないものであ
れば特に限定はなく、好適にはエーテル、テトラヒドロ
フランのようなエーテル類又はメチレンクロリド、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類である。
れば特に限定はなく、好適にはエーテル、テトラヒドロ
フランのようなエーテル類又はメチレンクロリド、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類である。
使用される酸化剤としては限定はないが、好適には過酢
鍍、過安息香酸、過酸化ベンゾイル。
鍍、過安息香酸、過酸化ベンゾイル。
ニークロロ過安息香醒のような有堕過酸化物が用いら、
?する。
?する。
反応温度及び反応時間は、主に原料化合物。
溶媒、酸化剤の種類によって異なるが1通常。
−20℃乃至80℃で、1乃至24時間である。
第15工程は、化合物(XX■)とエピクロロヒドリン
、エピブロモヒドリン、エビイオドヒドリンのようなエ
ピハロヒドリンとを、第13工場の条件に従って反応さ
せ、化合物(XXX I ) を製造する工程である
。
、エピブロモヒドリン、エビイオドヒドリンのようなエ
ピハロヒドリンとを、第13工場の条件に従って反応さ
せ、化合物(XXX I ) を製造する工程である
。
第16エ程は、化合物(XXXI )と常法に従って農
遺される式M−(CH2)n−+−Q′を有する化合物
(式中1Mはリチウム、ナトリウム、カリウムのような
アルカリ金7漬)子、ハロゲン化マグネシウム又はハロ
ゲン化亜鉛を示し、nは】乃至10の整数を示し Q/
は前記と同意義を示す。)とを溶媒中で反応させ、ざら
に第4工程の記載に準じて処理することにより、化合物
(XXXI[)を製造する工程である。
遺される式M−(CH2)n−+−Q′を有する化合物
(式中1Mはリチウム、ナトリウム、カリウムのような
アルカリ金7漬)子、ハロゲン化マグネシウム又はハロ
ゲン化亜鉛を示し、nは】乃至10の整数を示し Q/
は前記と同意義を示す。)とを溶媒中で反応させ、ざら
に第4工程の記載に準じて処理することにより、化合物
(XXXI[)を製造する工程である。
使用される溶媒としては1本反応に関与しないものであ
れば特に限定はなく0例えばエーテル、テトラヒドロフ
ランのようなエーテル類又はトルエン、ベンゼンのよう
な芳香族炭化水素類を挙げることができ、好適にはエー
テル類である。
れば特に限定はなく0例えばエーテル、テトラヒドロフ
ランのようなエーテル類又はトルエン、ベンゼンのよう
な芳香族炭化水素類を挙げることができ、好適にはエー
テル類である。
反応温度及び反応時間は、主に原料化合物。
溶媒、試薬の種類によって異なるが1通常。
−78℃乃至65℃で、15分乃至24時間である。
嬉17エ程は、前記の様にして製造した化合物(Xl”
v) 、(XIX)、(XXIIi)、(XXV)、(
X追N)又it (XXXII)において、Q“が式Y
を有する基(式中、Yは前記と同意義を示す。)を示す
場合に、これと。
v) 、(XIX)、(XXIIi)、(XXV)、(
X追N)又it (XXXII)において、Q“が式Y
を有する基(式中、Yは前記と同意義を示す。)を示す
場合に、これと。
アミン化合物(XXXI[[)又は弐HGを有する化合
物(式中、Gは前記と同意義を示す。)を反応させ、さ
らに所望により、R4′の保護された水酸基若しくはメ
ルカプト基の保護基を第3工程に準じ除去することによ
り1本願発明の化合物(1)を製造する工程である。
物(式中、Gは前記と同意義を示す。)を反応させ、さ
らに所望により、R4′の保護された水酸基若しくはメ
ルカプト基の保護基を第3工程に準じ除去することによ
り1本願発明の化合物(1)を製造する工程である。
使用される反応溶媒としては1反応を阻害せず、出発原
料をある程度溶屏するものであれば荷に磯足はないが、
好適にはメチレンクロリド。
料をある程度溶屏するものであれば荷に磯足はないが、
好適にはメチレンクロリド。
タノール、エタノール、イソプロピルアルコールのよう
な低級アルコール類;ジメチルホルムアミド;ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキナンのようなエ
ーテル類;アセトニトリルまたは水、あるいは1例えば
クロロホルム−ジメチルホルムアミド−イソプロピルア
ルコール=3:5:5のような2〜3種の上記溶媒の混
合物が用いられる。
な低級アルコール類;ジメチルホルムアミド;ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキナンのようなエ
ーテル類;アセトニトリルまたは水、あるいは1例えば
クロロホルム−ジメチルホルムアミド−イソプロピルア
ルコール=3:5:5のような2〜3種の上記溶媒の混
合物が用いられる。
反応温度および反応時間は、用いる出発・物質および溶
媒の条件により異なるが、20〜80℃の範囲で、望素
雰囲気下、密封反応容器(例えば、封′W)中で、1〜
48時間反応させることが好適である。
媒の条件により異なるが、20〜80℃の範囲で、望素
雰囲気下、密封反応容器(例えば、封′W)中で、1〜
48時間反応させることが好適である。
反応終了後、目的化合物は漕法に従って反応混合物から
採取される。例えば反応混合物より析出した不溶物をr
云して後、有俵薯剤層を水洗、乾燥し、g*を留去し1
例えば再結晶1分取用薄層クロマトグラフィー、カラム
クロマトグラフィー等により精製して、純品を得ること
ができる。
採取される。例えば反応混合物より析出した不溶物をr
云して後、有俵薯剤層を水洗、乾燥し、g*を留去し1
例えば再結晶1分取用薄層クロマトグラフィー、カラム
クロマトグラフィー等により精製して、純品を得ること
ができる。
尚a Q+’又はQ“が1式−Gを有する基(式中。
Gは前記と同意義を示す。)である場合には。
化合物(X) 、(XIV) 、(XVI) 、(XX
) 、(XXI[I) 、(XXV) 。
) 、(XXI[I) 、(XXV) 。
(X雇)及び(XXXI[) が本願発明化合物(1)
であるが、この場合、 WJl 7エ程七同様にして、
所望により保護基を除去し、相当する本願化合物(1)
を製造するこ七ができる。
であるが、この場合、 WJl 7エ程七同様にして、
所望により保護基を除去し、相当する本願化合物(1)
を製造するこ七ができる。
゛ 本発明の原料化合物(XI) 、(XI[l) 、
(−)、(XX)及び(XXVI)は新規な化合物であ
り1例えば、特開昭61−267592号公報記戦のa
1体の化合物モ厚料として、第4工橿に準じて処理する
ことにより、各々製造することができる。
(−)、(XX)及び(XXVI)は新規な化合物であ
り1例えば、特開昭61−267592号公報記戦のa
1体の化合物モ厚料として、第4工橿に準じて処理する
ことにより、各々製造することができる。
さらに1本発明の原料化合物は、例えば以下の反応式に
示すように、出発化合物としてd−又は!−酒石酸を用
いることにより、4体又は1体の光学活性体を特異的に
製造することかできる。
示すように、出発化合物としてd−又は!−酒石酸を用
いることにより、4体又は1体の光学活性体を特異的に
製造することかできる。
(XXXF/) (XXXV)
(”■)E−酒石酸 0OR12 (XX調) (xxxsm)(
XX窟) (XL)(XLII
I) (XLIV) (XLV)(xL
M) (XL■)(XL%1
11) (IL)(LIE
) (r、m)(LN) (Lv) (Lv)(LXK) 上記式中、RlOは前記と同意義を示し、R14は、R
10に定義された基と同様の基を示すが、R10とR1
1は、選択的に区別して除去しうる基を示す。R12は
低級アルキル基を示す。R15及びR17は、R4の定
義における 「保護されていてもよいメルカプト基」の
保護基と同様の基を示す。R13及びR16は、R10
及びR11の定義と同様の基を示すが、R10,R11
、R13,R15、H’i6及びR17のうち、2以上
が、同一化合物中に使用されたときは、それらは選択的
に他の保護基オキシ基、ハロゲン化低級アル望4ンスル
ポニルオキシ基及びアリールスルボニルオキシ基と同様
の基を示す。
(”■)E−酒石酸 0OR12 (XX調) (xxxsm)(
XX窟) (XL)(XLII
I) (XLIV) (XLV)(xL
M) (XL■)(XL%1
11) (IL)(LIE
) (r、m)(LN) (Lv) (Lv)(LXK) 上記式中、RlOは前記と同意義を示し、R14は、R
10に定義された基と同様の基を示すが、R10とR1
1は、選択的に区別して除去しうる基を示す。R12は
低級アルキル基を示す。R15及びR17は、R4の定
義における 「保護されていてもよいメルカプト基」の
保護基と同様の基を示す。R13及びR16は、R10
及びR11の定義と同様の基を示すが、R10,R11
、R13,R15、H’i6及びR17のうち、2以上
が、同一化合物中に使用されたときは、それらは選択的
に他の保護基オキシ基、ハロゲン化低級アル望4ンスル
ポニルオキシ基及びアリールスルボニルオキシ基と同様
の基を示す。
好適には、R10は、ベンジルのようなモノアリールメ
チル基群、R11はシリル基群、R13はジ又はトリア
リールメチル基群、R15は脂肪族アシル基群、R16
はテトラヒドロピラニル基群、117は芳香訣アシル基
群である。
チル基群、R11はシリル基群、R13はジ又はトリア
リールメチル基群、R15は脂肪族アシル基群、R16
はテトラヒドロピラニル基群、117は芳香訣アシル基
群である。
大計ら、テトラヘドロンレターズ、23巻。
3507頁、 1982年1: 0hno、 et、
al、、 TetrahedronLett、、 2
3.3507. (1982) 〕に記載の方法と類似
の方法により、出発厚料である(2S、3S)酒石酸(
XX罪)の3位の酸素原子が保@至R10で置換された
化合物(xxxv)を合成することができる(第18工
程)。
al、、 TetrahedronLett、、 2
3.3507. (1982) 〕に記載の方法と類似
の方法により、出発厚料である(2S、3S)酒石酸(
XX罪)の3位の酸素原子が保@至R10で置換された
化合物(xxxv)を合成することができる(第18工
程)。
化合物(XXXV)の第1級水酸基は、第4工程と同様
の方法でアシル化した後、アシルオキシ基をヨードで置
換し、さらにマロン酸ジ低級アルキルと反応させ、化合
物(XXXV)を製造する(第19工程)。
の方法でアシル化した後、アシルオキシ基をヨードで置
換し、さらにマロン酸ジ低級アルキルと反応させ、化合
物(XXXV)を製造する(第19工程)。
化合物(XXXV)は、例えば塩化す) IJウムDM
SO水溶欣と加熱し脱炭酸することにより、(XXX■
)に2炭素増炭した化合物(xxxvn)を得ることが
できる(第20工程)。
SO水溶欣と加熱し脱炭酸することにより、(XXX■
)に2炭素増炭した化合物(xxxvn)を得ることが
できる(第20工程)。
化合物(XXX■)をエーテル類溶媒中、 リチウムア
ルミニウムヒドリドのような還元剤で還元することによ
り、アルコール化合物(XXX用)を製造できる(第2
1工程)。この化合物の水酸基をR11(好適にはジフ
ェニルt−ブチルシリル基)で保護し、インプロピリデ
ン基を除去し、生成した1級*酸基をR13(好適には
、トリフェニルメチル基)で保護しく第22工程)、
2級水酸基を、第4工程と同様にしてアシル化し、化合
物(xL)を製造する(菓23工程)。化合物(XL)
の水酸基の保護基R11(R11が、 シリル基群であ
る場合には好適には弗素アニオンによって)を除去しく
第24工程)、これを塩基(例えばt−ブタノール中t
−ブトキシカリウム)で処理することにより2位の立体
配位が反転して閉環した光学活性体の化合物(XLn)
を製造することができる(第25工程)。
ルミニウムヒドリドのような還元剤で還元することによ
り、アルコール化合物(XXX用)を製造できる(第2
1工程)。この化合物の水酸基をR11(好適にはジフ
ェニルt−ブチルシリル基)で保護し、インプロピリデ
ン基を除去し、生成した1級*酸基をR13(好適には
、トリフェニルメチル基)で保護しく第22工程)、
2級水酸基を、第4工程と同様にしてアシル化し、化合
物(xL)を製造する(菓23工程)。化合物(XL)
の水酸基の保護基R11(R11が、 シリル基群であ
る場合には好適には弗素アニオンによって)を除去しく
第24工程)、これを塩基(例えばt−ブタノール中t
−ブトキシカリウム)で処理することにより2位の立体
配位が反転して閉環した光学活性体の化合物(XLn)
を製造することができる(第25工程)。
さらに、化合物(XLl[)は、特開沼61−2675
92号公報に記載の方法に準じて処理されることにより
、立体配位を採得したメルカプト化合物(xLm)を製
造することができる(第26エ程)。
92号公報に記載の方法に準じて処理されることにより
、立体配位を採得したメルカプト化合物(xLm)を製
造することができる(第26エ程)。
化合物(XXX■)は、第26エ程と同様にして、立体
配位が反転した保護されたチオール基に変換することが
できる(第27.28工程)。
配位が反転した保護されたチオール基に変換することが
できる(第27.28工程)。
化合物(XLV)を第22〜25工程と同様に処理し光
学活性体の化合物(XLV)を製造できる(第29工程
)。
学活性体の化合物(XLV)を製造できる(第29工程
)。
化合物(XLV)を第26エ程と同様に処理し、光学活
性体の化合物(XL■)を製造できる(第30工程)。
性体の化合物(XL■)を製造できる(第30工程)。
化合物(XXXK)の2級水酸基を116で保護しく第
31工程)、保護基H1iを選択的に除去した後、生成
した水歌基を第4工程と同様にアシル化し、化合物(I
L)を製造することができる(第32工程)。
31工程)、保護基H1iを選択的に除去した後、生成
した水歌基を第4工程と同様にアシル化し、化合物(I
L)を製造することができる(第32工程)。
化合物(XL)の2級水酸基の保護基R16を選択的に
除去しく第33工程)、第25工程と同様に処理するこ
とにより、2位の立体配位が保得された閉環した光学活
性体の化合物(r、Dを製造することができる(第34
工程)。さらに、第26エ程と同様にして、メルカプト
化合物(t、11)を製造できる(第35工程)。
除去しく第33工程)、第25工程と同様に処理するこ
とにより、2位の立体配位が保得された閉環した光学活
性体の化合物(r、Dを製造することができる(第34
工程)。さらに、第26エ程と同様にして、メルカプト
化合物(t、11)を製造できる(第35工程)。
化合物(XLV)を用い、第22工程と同様に処理して
、化合物(t、m)を大造できる(第36エ程)。
、化合物(t、m)を大造できる(第36エ程)。
化合物(4,m)を用い、第31工程と同様に処理して
、化合物(LIV)を製造できる(第37エ程)。
、化合物(LIV)を製造できる(第37エ程)。
化合物(LIV)を用い、第32工程と同様に処理して
、化合物(LV)を製造できる(第38工程)。
、化合物(LV)を製造できる(第38工程)。
化合物(LV)を用い、第33工程と同様に処理して、
化合物(LM)を製造できる(第39工程)。
化合物(LM)を製造できる(第39工程)。
化合物(L’V)を用い、第34工程と同様に処理して
、光学活性体の化合物(LVn)を製造できる(第40
工程)。
、光学活性体の化合物(LVn)を製造できる(第40
工程)。
化合物(L■)を、第26エ程と同様にして処理して、
光学活性体の化合物(L■)を製造できる(第41工程
)。
光学活性体の化合物(L■)を製造できる(第41工程
)。
出発原料として、(2R,3R)を有する d −酒石
k (IJ)を便用し、第18工程と同様にして実施す
ることにより、(2S、 38 )の化合物(LX)を
製造することができる(第42工程)。
k (IJ)を便用し、第18工程と同様にして実施す
ることにより、(2S、 38 )の化合物(LX)を
製造することができる(第42工程)。
この化合物(LX)を用いて、上記19〜41 工程
と同様の工程を実施することにより、光学活性体の化合
物(LM)〜(L震)を製造することができる(第43
工程)。
と同様の工程を実施することにより、光学活性体の化合
物(LM)〜(L震)を製造することができる(第43
工程)。
一方、5員環(J=2)の本発明化合物(I)の原料を
合成するためには、マロン酸エステルの代りに、シアン
化金冥を用いシアン化合物を合成し、常法に従ってアル
コール分解してエステルを合成し、さらに還元すること
により、化合物(xxxv)より1炭素増炭したアルコ
ール化合物(LxK)を用い、第22〜41工程を実見
することにより、相当する光学活性体の化合物を製造す
ることができる。
合成するためには、マロン酸エステルの代りに、シアン
化金冥を用いシアン化合物を合成し、常法に従ってアル
コール分解してエステルを合成し、さらに還元すること
により、化合物(xxxv)より1炭素増炭したアルコ
ール化合物(LxK)を用い、第22〜41工程を実見
することにより、相当する光学活性体の化合物を製造す
ることができる。
又、7員環1=4)の本発明の化合物(I)の原料を合
成するためには、化合物(LXK)を出発原料として用
い、第19〜41工程を実施することにより、相当する
光学活性体の化合物を製造することができる。
成するためには、化合物(LXK)を出発原料として用
い、第19〜41工程を実施することにより、相当する
光学活性体の化合物を製造することができる。
上記製造した光学活性体の化合物の、どちらか一方の保
護基を、第3工程と同様の方法に従って除去し、さらに
アルキル化、アシル化又はカルバメート化することによ
り、本発明の原料化合物を製造することができる。
護基を、第3工程と同様の方法に従って除去し、さらに
アルキル化、アシル化又はカルバメート化することによ
り、本発明の原料化合物を製造することができる。
尚、式(m)を有する基を含む原料化合物は、例えば以
下の様にして製造することができる。
下の様にして製造することができる。
工法
(LXX) (L江)
(Lxxm) CLxxy)(LXX
V) J法 上記式中、R4,R10,R12,A、 B、 Y
及びnは前記と同意義を示す。Wは、Eの定義に招ける
2価の5乃至7員複累環基を示す。
V) J法 上記式中、R4,R10,R12,A、 B、 Y
及びnは前記と同意義を示す。Wは、Eの定義に招ける
2価の5乃至7員複累環基を示す。
化合物(LXX)の水酸基を、常法に従って保護し一方
の水酸基のみ保護された化合物(LXXI)を単賄しく
第45工程)、他方の水酸基を通常いアルデヒドとした
後、シアン化ナトリウム、シアン化カリウムのようなシ
アン化金属化合物と反応させ、化合物(LXX[[)を
製造する(第46エ程)。この化合物の水酸基を、所望
により、第26エ程に準じメルカプト基に変換した後、
例えば塩酸酸性のような酸性条件下に、メタノールのよ
うなアルコール類を用い、アルコリシス反応を行ない、
さらに再度−級アルコールを保護することにより化合物
(Lxxy)を製造する(第48工程)、所望により、
式HA−を有する基を、前記、保獲基又はl換基で修飾
することができる。この化合物のエステル基を、例えば
リチウムアルミニウムヒドリドのような水素化金属化合
物により、水酸基にまで還元し、所望により、第26エ
程に準じ、生成した水酸基を メルカプト基に変換して
化合物(LXXV) を製造することができる(第4
9工程)。
の水酸基のみ保護された化合物(LXXI)を単賄しく
第45工程)、他方の水酸基を通常いアルデヒドとした
後、シアン化ナトリウム、シアン化カリウムのようなシ
アン化金属化合物と反応させ、化合物(LXX[[)を
製造する(第46エ程)。この化合物の水酸基を、所望
により、第26エ程に準じメルカプト基に変換した後、
例えば塩酸酸性のような酸性条件下に、メタノールのよ
うなアルコール類を用い、アルコリシス反応を行ない、
さらに再度−級アルコールを保護することにより化合物
(Lxxy)を製造する(第48工程)、所望により、
式HA−を有する基を、前記、保獲基又はl換基で修飾
することができる。この化合物のエステル基を、例えば
リチウムアルミニウムヒドリドのような水素化金属化合
物により、水酸基にまで還元し、所望により、第26エ
程に準じ、生成した水酸基を メルカプト基に変換して
化合物(LXXV) を製造することができる(第4
9工程)。
化合物(LXXV)を、第19〜21工程に準じ又は第
44工程に準じ処理することにより、 各々炭素数が2
又は1 i[!I増加した化合物を製造することができ
る。
44工程に準じ処理することにより、 各々炭素数が2
又は1 i[!I増加した化合物を製造することができ
る。
第51工程は、化合物(LXX■)のメチル基のプロト
ンを、溶媒中、塩基で抜いてカルバニオンを生成させ、
これに化合物(LXXX)を反応させ、化合物(LXX
K)を製造する工程である。
ンを、溶媒中、塩基で抜いてカルバニオンを生成させ、
これに化合物(LXXX)を反応させ、化合物(LXX
K)を製造する工程である。
使用される溶媒としては、好適には、エーテル、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類であり、塩基としては
、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよ
うな有機リチウム金属化合物が用いられ、好適にはリチ
ウムジイソプロピルアミドである。
ヒドロフランのようなエーテル類であり、塩基としては
、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよ
うな有機リチウム金属化合物が用いられ、好適にはリチ
ウムジイソプロピルアミドである。
反応温度及び反応時間は、主に原料化合物の′−類によ
って真なるが、通常−78“C乃至0′cで、15分乃
至4時間である。
って真なるが、通常−78“C乃至0′cで、15分乃
至4時間である。
本発明の新規な環状エーテル誘導体は、持続性および生
物学的利用能の優れた強いPAF拮抗作用を有し、新し
いタイプの抗ショック剤、抗血橙剤、尻端7す、剤およ
び抗アレルギー剤として有用である。
物学的利用能の優れた強いPAF拮抗作用を有し、新し
いタイプの抗ショック剤、抗血橙剤、尻端7す、剤およ
び抗アレルギー剤として有用である。
本発明の化合物(1)の投与形態としては、例えば、錠
剤、カプセル剤、鯛粒剤、散剤若しくはシロップ剤など
による経口投与、または庄射剤若しくは坐剤などによる
非経口投与を挙げることができる。その使用量は症状、
年令などにより異なるが、1日0.1〜20ロrg/一
体重で、1回または数回に分けて投与することができる
。
剤、カプセル剤、鯛粒剤、散剤若しくはシロップ剤など
による経口投与、または庄射剤若しくは坐剤などによる
非経口投与を挙げることができる。その使用量は症状、
年令などにより異なるが、1日0.1〜20ロrg/一
体重で、1回または数回に分けて投与することができる
。
以下に、実施例、参考例および試験例を挙げ、本発明を
更に具体的に説明する。
更に具体的に説明する。
実施例1゜
参考例4の化合物(0,470f )と トリエチルア
ミン(0,24ril )あベンゼン(10厘l)溶1
・仮にメタンスルホニルクロリド(0,10ml )ヲ
水冷下で圓えた。型温で15分間攪拌した後、反応液を
水洗、乾燥、′a縮した。残渣をトルエン(3ml )
に溶かし、チアゾール(0,60s+7)を加えて85
℃の油浴上で4日間加熱した。溶媒を溜去し、残渣をシ
リカゲル(30(1)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけた。メチレンクロリド−メタノール(2:1〜
1:1)で溶出される分画を集めて表記の化合″$IJ
(0,3491)を白色粉末として得た。 mp82〜
86℃。
ミン(0,24ril )あベンゼン(10厘l)溶1
・仮にメタンスルホニルクロリド(0,10ml )ヲ
水冷下で圓えた。型温で15分間攪拌した後、反応液を
水洗、乾燥、′a縮した。残渣をトルエン(3ml )
に溶かし、チアゾール(0,60s+7)を加えて85
℃の油浴上で4日間加熱した。溶媒を溜去し、残渣をシ
リカゲル(30(1)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけた。メチレンクロリド−メタノール(2:1〜
1:1)で溶出される分画を集めて表記の化合″$IJ
(0,3491)を白色粉末として得た。 mp82〜
86℃。
NMRスペクトル(270MHz、 CD30D )
ppm :0.90 (3H,t、 J=7.0Hz
) 、 1.2〜2.3 (3B!(。
ppm :0.90 (3H,t、 J=7.0Hz
) 、 1.2〜2.3 (3B!(。
m )、 2.69 (3H,S )、 2.76
(2H,t。
(2H,t。
J=7.3H2) 、 3.04 (2H,t、 J
=7.0Hz ) 。
=7.0Hz ) 。
3.43 (IH,m )、 3.5a (IH,m
) 、 3.93(IH,d、 J=11.5Hz
) 、 4.25 (IH,m )t4.56 (
IH,m )、 4.62 (2H,t、 Jニア、
3H2)s5.85 (II(、S )、 8.29
(1)!、 d、 J=4.0H2)t8.49 (
IH,d、 J=4.0Hz ) 。
) 、 3.93(IH,d、 J=11.5Hz
) 、 4.25 (IH,m )t4.56 (
IH,m )、 4.62 (2H,t、 Jニア、
3H2)s5.85 (II(、S )、 8.29
(1)!、 d、 J=4.0H2)t8.49 (
IH,d、 J=4.0Hz ) 。
元素分析: C3sH61N308Sとして計算値:
C,5B、71 ; u、a、sa ; N、5.87
笑測値: C,5B、35 ; )1,8.81 ;
N、5.71笑施例2 参考例11の化合物(15111?)とチアゾール(0
,15ml )をトルエン(1ml )に溶かし、80
℃の油浴上で42時間加熱した。溶媒を溜去し、残渣を
シリカゲル(4f)を用いたカラムクロマトグラフィー
にかげた。メチレンクロリド−メタノール(9:1)で
溶出される分画な集めて表記の化合物(56I+I9)
を粉末として得た。
C,5B、71 ; u、a、sa ; N、5.87
笑測値: C,5B、35 ; )1,8.81 ;
N、5.71笑施例2 参考例11の化合物(15111?)とチアゾール(0
,15ml )をトルエン(1ml )に溶かし、80
℃の油浴上で42時間加熱した。溶媒を溜去し、残渣を
シリカゲル(4f)を用いたカラムクロマトグラフィー
にかげた。メチレンクロリド−メタノール(9:1)で
溶出される分画な集めて表記の化合物(56I+I9)
を粉末として得た。
mp81〜84℃
NMRスペクトル(60MH2s CD 30D )
ppm :0.7〜2.5 (45H,m )、 2
.35 (3H,S )。
ppm :0.7〜2.5 (45H,m )、 2
.35 (3H,S )。
3.04 (2)1. t、 J=6.5Hz
) 、 3.3〜4.1(8H,m )、 4.
513 (2H,a、JニアHz L4.3〜4.9
(1H,m)、 7.22 (2H,d 。
) 、 3.3〜4.1(8H,m )、 4.
513 (2H,a、JニアHz L4.3〜4.9
(1H,m)、 7.22 (2H,d 。
J=l]Hz ) 、 7.73 (2H,d、
J=8Hz ) 。
J=8Hz ) 。
8.27 (IH,d、J=4Hz )、 8.
60 (IH,d。
60 (IH,d。
J=4Hz )
実力例3゜
参考例12の異性体重(163η)とチアゾール(0,
15ml )をトルエン(1ゴ)に溶かし、80℃の油
浴上で110時間加熱した。 溶媒を溜去し、残渣をシ
リカゲル(4g)を用いたカラムクロマトグラフィーに
かけた。メチレンクロリド−メタノール(7: 93〜
1:9)で溶出される分画な集めて表記の化合物(ar
q) を樹脂状物として得た。
15ml )をトルエン(1ゴ)に溶かし、80℃の油
浴上で110時間加熱した。 溶媒を溜去し、残渣をシ
リカゲル(4g)を用いたカラムクロマトグラフィーに
かけた。メチレンクロリド−メタノール(7: 93〜
1:9)で溶出される分画な集めて表記の化合物(ar
q) を樹脂状物として得た。
NMRスペクトル(60MHz I CD 3of)
) ppm:0.7〜2.3 (47H,m ) 、
2、Do (3H9S ) *2.33 (3H,S
)t 2.130〜4.20 (9H,m)。
) ppm:0.7〜2.3 (47H,m ) 、
2、Do (3H9S ) *2.33 (3H,S
)t 2.130〜4.20 (9H,m)。
4.2〜4.7 (IH,m )、 4.55 (2
H,t。
H,t。
JニアH2) 、 4.75〜5.2 (IH,m
)、 7.20(2H,d、 J=8H2) 、 7
.72 (2H,d、 J:8Hz ) 、 8.2
8 (IH,d、 J=4Hz ) 。
)、 7.20(2H,d、 J=8H2) 、 7
.72 (2H,d、 J:8Hz ) 、 8.2
8 (IH,d、 J=4Hz ) 。
8.50 (IH,d、 J=4H2)元素分析: c
44H74N209S2−0−5 H2Oとして計算値
: C,62,31; H,8,91; N、3.30
;S、7.56 実測値: C,62,29; H,9,08; N、2
.92 ;S、7.46 参考例1゜ ステアリン酸(6,082g )、ジフェニルホスホリ
ルアジド(3,84ml )およびトリエチルアミ7
(2,48ml )のベンゼン(200g/)溶液を3
時間加熱速流した。冷却後、反応液をl炭酸ナトリウム
水溶液と食塩水で況った。乾燥後溶媒を留うし、残1を
ベンゼン(160ml)中に再び溶かした。dl−)ラ
ンス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒドロピラン−
3−オール(1,980g)を加え、望紮雰囲気下で3
8時間加熱還流した。冷却後反応液を重戻酸ナトリウム
水溶液と水で順次従い、乾燥後濃縮乾固した。残渣をシ
リカゲル(60f )を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかげ、ヘキサン−メチレンクロリド−エーテル(6
:3:1)で溶出される分画を果めて、表記の化合物(
3,9041> を白色の固体として得た。融点(以
下mpと略記する)61〜63 ℃ IRスペクトル(CHC7II m−1) : 346
0 (−rqu−)。
44H74N209S2−0−5 H2Oとして計算値
: C,62,31; H,8,91; N、3.30
;S、7.56 実測値: C,62,29; H,9,08; N、2
.92 ;S、7.46 参考例1゜ ステアリン酸(6,082g )、ジフェニルホスホリ
ルアジド(3,84ml )およびトリエチルアミ7
(2,48ml )のベンゼン(200g/)溶液を3
時間加熱速流した。冷却後、反応液をl炭酸ナトリウム
水溶液と食塩水で況った。乾燥後溶媒を留うし、残1を
ベンゼン(160ml)中に再び溶かした。dl−)ラ
ンス−2−ベンジルオキシメチルテトラヒドロピラン−
3−オール(1,980g)を加え、望紮雰囲気下で3
8時間加熱還流した。冷却後反応液を重戻酸ナトリウム
水溶液と水で順次従い、乾燥後濃縮乾固した。残渣をシ
リカゲル(60f )を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかげ、ヘキサン−メチレンクロリド−エーテル(6
:3:1)で溶出される分画を果めて、表記の化合物(
3,9041> を白色の固体として得た。融点(以
下mpと略記する)61〜63 ℃ IRスペクトル(CHC7II m−1) : 346
0 (−rqu−)。
1720 (−o−co−)
マススペクトル(mle) : 503 (M+)、
412(M”−C7H7) 元素分析: C31H53NO4として計算値: C,
73,91; H,?0.60 ; N、2.78実測
値: C,74,27; H,10,70; N、2.
71参考例2゜ 参考例3の化合物(3,8009)のメタノール(12
0ml)溶液に10%パラジウム炭素(1,90y)を
加え、バールの装置中N温4気圧で8時間水素ガスと反
応させた。触媒をF去稜、溶媒を留去すると表記の化合
物(2,729y )が白色の固体として得られた。m
p84〜86″C(エーテル) IRスペクトル(CHCJ3+α−’) : 3570
(−0H)。
412(M”−C7H7) 元素分析: C31H53NO4として計算値: C,
73,91; H,?0.60 ; N、2.78実測
値: C,74,27; H,10,70; N、2.
71参考例2゜ 参考例3の化合物(3,8009)のメタノール(12
0ml)溶液に10%パラジウム炭素(1,90y)を
加え、バールの装置中N温4気圧で8時間水素ガスと反
応させた。触媒をF去稜、溶媒を留去すると表記の化合
物(2,729y )が白色の固体として得られた。m
p84〜86″C(エーテル) IRスペクトル(CHCJ3+α−’) : 3570
(−0H)。
3450 (−N)f ) 、 1710 (−
〇−CO= )マススペクトル(mle) : 413
(M+)、 382(M+−cH2og ) 元素分析: C24H47NO4として計算値: c、
69.69 ; H,11,45; N、3.39芙測
値: C,69,38; H,11,35; N、3.
52蚕考例3゜ ジイソプルピルアミン(3,08翼t)の テトラヒド
ロフラン(1oom/)溶液にn−ブチルリチウムのヘ
キサン溶g(15重量%、 13.95 ml )を
−25°〜−15°Cでγ所下する。−20℃で15分
間攪拌した後、3−ヒドロキシ−5−メチルインキサゾ
ール(0,990f )のテトラヒドロフラン(10m
/り溶液を一20°〜−10’Cで10 分間かげて那
えた。−10℃で30分間撹拌した後、反応液を一50
℃に冷却し、1−プロモー3− (2’−テトラヒドロ
ピラニル)オキシプロパン(3,359)を一度に加え
た。15〜20’(1:で 2時間攪拌した後、酢&
(1,20ml) を加えて反応液を水中に注いだ。
〇−CO= )マススペクトル(mle) : 413
(M+)、 382(M+−cH2og ) 元素分析: C24H47NO4として計算値: c、
69.69 ; H,11,45; N、3.39芙測
値: C,69,38; H,11,35; N、3.
52蚕考例3゜ ジイソプルピルアミン(3,08翼t)の テトラヒド
ロフラン(1oom/)溶液にn−ブチルリチウムのヘ
キサン溶g(15重量%、 13.95 ml )を
−25°〜−15°Cでγ所下する。−20℃で15分
間攪拌した後、3−ヒドロキシ−5−メチルインキサゾ
ール(0,990f )のテトラヒドロフラン(10m
/り溶液を一20°〜−10’Cで10 分間かげて那
えた。−10℃で30分間撹拌した後、反応液を一50
℃に冷却し、1−プロモー3− (2’−テトラヒドロ
ピラニル)オキシプロパン(3,359)を一度に加え
た。15〜20’(1:で 2時間攪拌した後、酢&
(1,20ml) を加えて反応液を水中に注いだ。
有機層を分取した後、水層に10%塩酸を加えてpH3
とし、ニーチルで2回抽出した。有機層を合わせ、水洗
乾燥、1借し、残渣をシリカゲル([io 1 )を用
いたカラムクロマトグラフィーにかげた。酢酸エチル−
ヘキサン(1:2〜1:1)で溶出される分画を系めて
表記の化合物(1,7209)を無色の油状物として得
た。
とし、ニーチルで2回抽出した。有機層を合わせ、水洗
乾燥、1借し、残渣をシリカゲル([io 1 )を用
いたカラムクロマトグラフィーにかげた。酢酸エチル−
ヘキサン(1:2〜1:1)で溶出される分画を系めて
表記の化合物(1,7209)を無色の油状物として得
た。
NMRスペクトル(90MH2,CDCJ3 ) pp
m :9.91 (IH,S、 −OH)、 5.H
(IH,S )t4.58 (or、 s )+ 3
.2〜4.1 (4H,m )。
m :9.91 (IH,S、 −OH)、 5.H
(IH,S )t4.58 (or、 s )+ 3
.2〜4.1 (4H,m )。
1.3〜2.1 (10H,m )
マススペクトル(mle) : 241 (M+) 、
186゜157、140 参考例4゜ 参考例2の化合物(0,8271>、参考偽3の化合物
(0,4821)およびトリフェニルホスフィン(0,
5779)のテトラヒドロフラフ(14ゴ)溶!仮にア
ゾジカルボン酸ジメチル(0,321f)のテトラヒド
ロフラン(2ml )溶液を加え、室温で4.5時間攪
拌した。溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル(31f)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかげた。エーテル−
ヘキサン(1:1)で溶出される分画を集めて得られた
油状物(1,31)をメタノール(10g/)に溶かし
、カンファースルホン酸(θ、os I )を加えて室
温で16時間攪拌した。溶媒を溜去し、残渣に水を加え
てメチレンクロリドで抽出した。抽出液を乾燥、濃縮し
、固体の残i(1,19g)をシリカゲル(4Of )
を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン
−酢酸エチル(1:1)で溶出される分画を集めて表記
の化合物(0,5551)を得た。mp B6〜87
’C(メチレンクーリド−エーテル)。
186゜157、140 参考例4゜ 参考例2の化合物(0,8271>、参考偽3の化合物
(0,4821)およびトリフェニルホスフィン(0,
5779)のテトラヒドロフラフ(14ゴ)溶!仮にア
ゾジカルボン酸ジメチル(0,321f)のテトラヒド
ロフラン(2ml )溶液を加え、室温で4.5時間攪
拌した。溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル(31f)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかげた。エーテル−
ヘキサン(1:1)で溶出される分画を集めて得られた
油状物(1,31)をメタノール(10g/)に溶かし
、カンファースルホン酸(θ、os I )を加えて室
温で16時間攪拌した。溶媒を溜去し、残渣に水を加え
てメチレンクロリドで抽出した。抽出液を乾燥、濃縮し
、固体の残i(1,19g)をシリカゲル(4Of )
を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン
−酢酸エチル(1:1)で溶出される分画を集めて表記
の化合物(0,5551)を得た。mp B6〜87
’C(メチレンクーリド−エーテル)。
NMRスペクトル(90Hmz、 CDCJ3) pp
m :0.75〜2.50 (42H,m )、 2
.65 (2H,t。
m :0.75〜2.50 (42H,m )、 2
.65 (2H,t。
J=[i、5)Jz ) 、 3.12 (2H,t
d、 J1=6.5Hz。
d、 J1=6.5Hz。
J2=6Hz ) 、 3.3〜4.9 (9H,m
)s、ay (IH,S ) IRススベクトル CHCJ 3 )備−1: 360
0 (−OH)。
)s、ay (IH,S ) IRススベクトル CHCJ 3 )備−1: 360
0 (−OH)。
3450 (−NH−)、 1720 (−0CONH
−)−r ススベクトル(mle) : 552 (M
+)元素分析t C51H56N206として計算値
: C,67,35; H,10,21; N、5.0
6実測値: C,67,57; H,10,42; N
、4.83参考例5゜ N ピリジニウム−クロロクロメ−) (ao、6o 11
)、酢酸ナトリウム(3,861)とメチレンクロリ
ド(200ml )の混合物中に、7−(テトラヒドロ
下で加えた。0℃で1時間、室温で3時間攪拌した後、
反応液をエーテル(1,51)で希釈し、シリカゲル(
250f )のカラムに通じた。通過液を濃縮し、残渣
をシリカゲル(4001)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかげた。ヘキサン−酢酸エチル(40: 1〜
9:1)で溶出される分画を集めて7−(テトラヒドロ
ピランNMRスペクトル(60MH2,CDCJ3)
ppm :1.1−2.1 (14H,m )、
2.42 (2H,m )t3.1〜4.1 (4
H,m )、 4゜56 (IH,m )。
−)−r ススベクトル(mle) : 552 (M
+)元素分析t C51H56N206として計算値
: C,67,35; H,10,21; N、5.0
6実測値: C,67,57; H,10,42; N
、4.83参考例5゜ N ピリジニウム−クロロクロメ−) (ao、6o 11
)、酢酸ナトリウム(3,861)とメチレンクロリ
ド(200ml )の混合物中に、7−(テトラヒドロ
下で加えた。0℃で1時間、室温で3時間攪拌した後、
反応液をエーテル(1,51)で希釈し、シリカゲル(
250f )のカラムに通じた。通過液を濃縮し、残渣
をシリカゲル(4001)を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかげた。ヘキサン−酢酸エチル(40: 1〜
9:1)で溶出される分画を集めて7−(テトラヒドロ
ピランNMRスペクトル(60MH2,CDCJ3)
ppm :1.1−2.1 (14H,m )、
2.42 (2H,m )t3.1〜4.1 (4
H,m )、 4゜56 (IH,m )。
9.83 (IH,t、、T=2H2)上記アルデヒ
ド(14,111)とシアン化カリウム(12,861
)をジオキサン−水混合物(1:1,300cl)に溶
かし、水冷下で6規定塩酸(32,9rxl )を10
分間かげて滴下した。0℃で1時間攪拌した後、反応液
を水(600tsl )中に注ぎ、酢酸エチルで2回抽
出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲ
ル(30[R)を用いたカラムクロマトグラフィーKか
けた。
ド(14,111)とシアン化カリウム(12,861
)をジオキサン−水混合物(1:1,300cl)に溶
かし、水冷下で6規定塩酸(32,9rxl )を10
分間かげて滴下した。0℃で1時間攪拌した後、反応液
を水(600tsl )中に注ぎ、酢酸エチルで2回抽
出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲ
ル(30[R)を用いたカラムクロマトグラフィーKか
けた。
ヘキサン−酢酸エチル(1:9〜1:4)で溶出される
分画を集めて表記の化合物(11,90g)を無色油状
物として得た。
分画を集めて表記の化合物(11,90g)を無色油状
物として得た。
NMRスペクトル(60MHz、 CDcJ3) pp
m :1.2〜2.2 (16H,m )、 3.1
〜4.2 (5H。
m :1.2〜2.2 (16H,m )、 3.1
〜4.2 (5H。
m)、 4.40 (H(、m)、 4.58 (
IH,m)IRススベクトルcacg)α−1: 36
00.3360゜参考例6゜ 参考例5の化合物(7,731)をエーテル(g。
IH,m)IRススベクトルcacg)α−1: 36
00.3360゜参考例6゜ 参考例5の化合物(7,731)をエーテル(g。
Mt )とメタノール(8(1at)の混合物中に溶が
し、水冷下で塩酸ガスを通じて飽和させた。室温で3時
間攪拌した後、水冷下で水(16(1+/)を10分間
かげて加えた。室温で1時間攪拌し、反応液を水で稀釈
した後、酢酸エチルで6回佃出した。抽出液を合わせ、
水洗、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲル(120y
)を用いたカラムクロマトグラフィーにかげ、ヘキサン
−酢酸エチル(4;1〜2:1)で溶出される分画を集
めて表記の化合物(3,75f )を無色油状物として
得た。
し、水冷下で塩酸ガスを通じて飽和させた。室温で3時
間攪拌した後、水冷下で水(16(1+/)を10分間
かげて加えた。室温で1時間攪拌し、反応液を水で稀釈
した後、酢酸エチルで6回佃出した。抽出液を合わせ、
水洗、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲル(120y
)を用いたカラムクロマトグラフィーにかげ、ヘキサン
−酢酸エチル(4;1〜2:1)で溶出される分画を集
めて表記の化合物(3,75f )を無色油状物として
得た。
NMRスペクトル(90MHz、 CD(J3) pp
m :1.2〜2.0 (10)I、 m)? 1.
6? (1H,m。
m :1.2〜2.0 (10)I、 m)? 1.
6? (1H,m。
−OH) 、 2.85 (IH,m、 −on )
、 3.63 (2H。
、 3.63 (2H。
t+ 、y==raz、) t 4−yo (1
at rn )IRスペクトル(cHc7!3)α−1
: 3550.1735マススペクトル(m/e) :
191 (M++1 ) 。
at rn )IRスペクトル(cHc7!3)α−1
: 3550.1735マススペクトル(m/e) :
191 (M++1 ) 。
131.113
元系分析: CqH180aとして
計算値: C,56J2 ; H,9,54実測値:
C,56,46; H,9,45参考例7゜ THPO(CH2)6CH(OTHP)CH20H参考
例6の化合物(2,711)、3,4−ジヒドロ−2H
−ピラン(3,90zl )およびp−)ルエンスルホ
ン酸ピリジン塩(0,0721)をメチレンクロリド(
Some)中に溶かし、室温で15時間攪拌した。溶媒
を榴去した後、残渣をテトラヒドロフラン(30ml)
に溶かし、リチウム水素化ナトリウム(1,0819’
)とテトラヒドロフラン(30g/)の混合物中に水冷
下10分間かげて滴下した。室温で1時間攪拌した後、
4%X酸化す) IJウム水溶液(4,3ml )を水
冷下で滴下した。反応液をセライト層に通じて一過し、
不溶・物をテトラヒドロフラン(100ml )で洗っ
た。濾過を濃縮し、残渣をシリカゲル(100g)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
C,56,46; H,9,45参考例7゜ THPO(CH2)6CH(OTHP)CH20H参考
例6の化合物(2,711)、3,4−ジヒドロ−2H
−ピラン(3,90zl )およびp−)ルエンスルホ
ン酸ピリジン塩(0,0721)をメチレンクロリド(
Some)中に溶かし、室温で15時間攪拌した。溶媒
を榴去した後、残渣をテトラヒドロフラン(30ml)
に溶かし、リチウム水素化ナトリウム(1,0819’
)とテトラヒドロフラン(30g/)の混合物中に水冷
下10分間かげて滴下した。室温で1時間攪拌した後、
4%X酸化す) IJウム水溶液(4,3ml )を水
冷下で滴下した。反応液をセライト層に通じて一過し、
不溶・物をテトラヒドロフラン(100ml )で洗っ
た。濾過を濃縮し、残渣をシリカゲル(100g)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
ヘキサン−酢酸エチル(1:4〜2:3)で溶出される
分画を果めて表記の化合物(4,519)を症色油状物
として得た。
分画を果めて表記の化合物(4,519)を症色油状物
として得た。
、NMRスペクトル(90MH2,CDCJ3) :1
.1〜2.1 C22H,m )、 2.18 (I
H,t。
.1〜2.1 C22H,m )、 2.18 (I
H,t。
J=6Hz、 −OH)、 3.15〜4.30 (
9H,m )。
9H,m )。
4.35−〜4.85 (2H,m )マススペクトル
(m/e) : 331.330 (M++1 )1元
系分析: Cl8H5405として 計算値: C,65,42; )1,10.37実測値
: C,65,04; H,10,08参考例8゜ 6−ヒドロキシメチル−3,4−ジヒドロ−2H−ピラ
ン(2,1741)とトリエチルアミン(5,31m1
)のベンゼン(45ml )溶液を氷水浴中で冷却し
、メタンスルホニル=クロ!J )’ (2,21r:
l )を加えた。室温で1時間攪拌した後、反応液を水
洗、乾燥、濃縮し、油状の残渣(3,229)を得た。
(m/e) : 331.330 (M++1 )1元
系分析: Cl8H5405として 計算値: C,65,42; )1,10.37実測値
: C,65,04; H,10,08参考例8゜ 6−ヒドロキシメチル−3,4−ジヒドロ−2H−ピラ
ン(2,1741)とトリエチルアミン(5,31m1
)のベンゼン(45ml )溶液を氷水浴中で冷却し
、メタンスルホニル=クロ!J )’ (2,21r:
l )を加えた。室温で1時間攪拌した後、反応液を水
洗、乾燥、濃縮し、油状の残渣(3,229)を得た。
水素化ナトリウム(0,152f )とジメチルホルム
アミド(10g/)の混合物中に、参考例7の化合物(
1,049F ) のジメチルホルムアミド(10ml
)溶液を水冷下で加えた。室温で1時間攪拌した後、上
記の残dをジメチルホルムアミド(15ml)に溶かし
て加えた。室温で19時間慣拌後、反応液を水(350
rat )中に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出した。抽出
液を水洗、乾燥、濃縮して残渣をシリカゲル(60y
) を用いたカラムクロマトグラフィーにかげた。ヘ
キサン−酢酸エチル(9:1)で溶出される分画を集め
て表記の化合物(0,9341)を無色油状物として得
た。
アミド(10g/)の混合物中に、参考例7の化合物(
1,049F ) のジメチルホルムアミド(10ml
)溶液を水冷下で加えた。室温で1時間攪拌した後、上
記の残dをジメチルホルムアミド(15ml)に溶かし
て加えた。室温で19時間慣拌後、反応液を水(350
rat )中に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出した。抽出
液を水洗、乾燥、濃縮して残渣をシリカゲル(60y
) を用いたカラムクロマトグラフィーにかげた。ヘ
キサン−酢酸エチル(9:1)で溶出される分画を集め
て表記の化合物(0,9341)を無色油状物として得
た。
NMRスペクトル(60MH2,cDcg) pI)m
:1.0〜2.3 (26H,m)、 3.1〜4
.2 (11H。
:1.0〜2.3 (26H,m)、 3.1〜4
.2 (11H。
m )、 4.35〜4.95 (31(、m )ヘ
キサン−酢酸エチル(1:4〜1:1)で溶出される分
画より参考例7の化合物(0,295ダ)が回収された
。
キサン−酢酸エチル(1:4〜1:1)で溶出される分
画より参考例7の化合物(0,295ダ)が回収された
。
#前例9゜
参考例8の化合物(0,9341) のテトラヒドロ
フラン(3厘/ )溶液に、ポランの1Mテトラヒドロ
フラン溶g、(1,46ml )を水冷下で滴下した。
フラン(3厘/ )溶液に、ポランの1Mテトラヒドロ
フラン溶g、(1,46ml )を水冷下で滴下した。
4.5時間室温で攪拌した後、30〜40 ℃で10
%水酸化ナトリウム水溶g(0,80cl ) と30
%過酸化水素水溶液(0,60ml )を順次加え、室
温で1時間攪拌した。反応徹を水(5(1m7)で稀釈
し、酢酸エチルで2回佃出した。佃出液を7X洸、乾燥
、濃うして残渣をシリカゲル(20y)を用いたカラム
クロマトグラフィー、次いでコーバーBカラムを用いた
中圧液体クロマトグラフィー1(かげて精成した。ヘキ
サン−酢酸エチル(7:3)で溶出される分1を集めて
、表記の化合物(0,6159) を無色の油状物と
して得た。
%水酸化ナトリウム水溶g(0,80cl ) と30
%過酸化水素水溶液(0,60ml )を順次加え、室
温で1時間攪拌した。反応徹を水(5(1m7)で稀釈
し、酢酸エチルで2回佃出した。佃出液を7X洸、乾燥
、濃うして残渣をシリカゲル(20y)を用いたカラム
クロマトグラフィー、次いでコーバーBカラムを用いた
中圧液体クロマトグラフィー1(かげて精成した。ヘキ
サン−酢酸エチル(7:3)で溶出される分1を集めて
、表記の化合物(0,6159) を無色の油状物と
して得た。
NMRスペクトル(90MHz、 cnc13) pp
m :1.1〜2.5 (27H,m )、 2.8〜
4.2 (IQH。
m :1.1〜2.5 (27H,m )、 2.8〜
4.2 (IQH。
m ) 、 4.4 = 5.0 (2H,m )マ
ススペクトル(mle) : 445.444(M+)
。
ススペクトル(mle) : 445.444(M+)
。
参考例10゜
ステアリンk(0,94g)、ジフェニルホスホリルア
ジド(Q、71 cl ) mよびトリエチルアミン(
0,46πt)のベンゼン(20sol )溶液を3時
間加熱還流し、冷後反応液を雄和炭酸水紫す) IJウ
ム水溶液(20nl )と水で洗った。溶媒を溜去し、
残J (0,901)と参考例9の化合物(0,418
6Q )をトルエン(15耐)中に溶かし、トリエチル
アミン(0,46ml )を加えて、100℃の油浴上
で88時間加熱還流した。浴法を溜去し、残渣をシリカ
ゲル(20f )を用いたカラムクロマトグラフィーに
かけた。ヘキサン−酢酸エチル(3: 17〜1:4)
で浴出される分1を集め、得られた旧状物(0,695
2)をメタノール(15+w/)に溶かした。 p−)
ルエンスルホンk(55Q)を加えて1時間加熱還流し
、今後炭酸水素す) IJウム(121■)を加えて溶
退を溜去した。残漬に酢酸エチルを加え、不溶物をF去
した後濃縮した。残渣をシリカゲル(12f )を用い
たカラムクロマトグラフィーにかげ、ヘキサン−酢酸エ
チル(2:3〜1:4)で溶出される分1を系めて表記
の化合物(0,4819)を得た。mp67〜68℃
(エーテル−ヘキサン) NMRスペクトル(90MHz、 CDCl3 ) p
pm :Q、Z 〜2.3 (47H,m )、 2
.13 (2H,m。
ジド(Q、71 cl ) mよびトリエチルアミン(
0,46πt)のベンゼン(20sol )溶液を3時
間加熱還流し、冷後反応液を雄和炭酸水紫す) IJウ
ム水溶液(20nl )と水で洗った。溶媒を溜去し、
残J (0,901)と参考例9の化合物(0,418
6Q )をトルエン(15耐)中に溶かし、トリエチル
アミン(0,46ml )を加えて、100℃の油浴上
で88時間加熱還流した。浴法を溜去し、残渣をシリカ
ゲル(20f )を用いたカラムクロマトグラフィーに
かけた。ヘキサン−酢酸エチル(3: 17〜1:4)
で浴出される分1を集め、得られた旧状物(0,695
2)をメタノール(15+w/)に溶かした。 p−)
ルエンスルホンk(55Q)を加えて1時間加熱還流し
、今後炭酸水素す) IJウム(121■)を加えて溶
退を溜去した。残漬に酢酸エチルを加え、不溶物をF去
した後濃縮した。残渣をシリカゲル(12f )を用い
たカラムクロマトグラフィーにかげ、ヘキサン−酢酸エ
チル(2:3〜1:4)で溶出される分1を系めて表記
の化合物(0,4819)を得た。mp67〜68℃
(エーテル−ヘキサン) NMRスペクトル(90MHz、 CDCl3 ) p
pm :Q、Z 〜2.3 (47H,m )、 2
.13 (2H,m。
−O)り、 2.9〜4.2 (12H,m)、 4
.4〜5.0(2H! m ) IRスペクトル(CHCJ3) CM−’ : 345
0t 171GマススペクトルCm/e) : 557
(M+ )、 456元紫分析: C52H6xNO
6として計算1@: C,6B、90 ; H,11,
38; N、2.51芙演り1@ : C,68,
45; H,11,75; N、2.69参考例1
1゜ 参考例10の化合物(0,4581)、トリエチルアミ
ン(0,27ttrl )および4−ジメチルアミノピ
リジン(5ff1iF )をメチレンクロリド(10s
+t)に溶かし、水冷下でp−)ルニンスルホニル=ク
フリド(o、1sa f )を加えた後、室温で14時
間攪拌した。反応液を水洗、乾燥、濃縮し、残玉をシリ
カゲル(121)を用いたカラムクロマトグラフィーお
よびローパーBカラムを用いた中圧液体クロマトグラフ
ィーにかげて積設した。ヘキサン−酢酸エチル(3:2
〜1:1)で浴出される分画を興めて表記の化合物(0
,492g)を白色ロウ状物として得た。
.4〜5.0(2H! m ) IRスペクトル(CHCJ3) CM−’ : 345
0t 171GマススペクトルCm/e) : 557
(M+ )、 456元紫分析: C52H6xNO
6として計算1@: C,6B、90 ; H,11,
38; N、2.51芙演り1@ : C,68,
45; H,11,75; N、2.69参考例1
1゜ 参考例10の化合物(0,4581)、トリエチルアミ
ン(0,27ttrl )および4−ジメチルアミノピ
リジン(5ff1iF )をメチレンクロリド(10s
+t)に溶かし、水冷下でp−)ルニンスルホニル=ク
フリド(o、1sa f )を加えた後、室温で14時
間攪拌した。反応液を水洗、乾燥、濃縮し、残玉をシリ
カゲル(121)を用いたカラムクロマトグラフィーお
よびローパーBカラムを用いた中圧液体クロマトグラフ
ィーにかげて積設した。ヘキサン−酢酸エチル(3:2
〜1:1)で浴出される分画を興めて表記の化合物(0
,492g)を白色ロウ状物として得た。
NMRスペクトル(90MH2,CDCj!3) pp
m :0.8 〜2.3 (47H,m)、
2.45 (3H,S )。
m :0.8 〜2.3 (47H,m)、
2.45 (3H,S )。
2.50 (IH,m、 −OH) 、 3.0〜
4.9 (8H。
4.9 (8H。
m)、 4.03 (2H,t、 J=7Hz )、
4.4〜5.0 (2H’、m)、 7.37
(2H,d、 J=9Hz )17−8j (2J
dt J==9Hz )マススペクトル(m/e
) : 712 (M”+1 ) 。
4.4〜5.0 (2H’、m)、 7.37
(2H,d、 J=9Hz )17−8j (2J
dt J==9Hz )マススペクトル(m/e
) : 712 (M”+1 ) 。
元素分析: C3qH6qNOBSとして計算値: C
,65,79; H,9,γ7 ; N、1.97 :
S、4.50 実測値: C,65,76; H,9,87; N、1
.97 ;S、4.50 参考例12゜ イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例11の化合物(0,3111)とトリエチルアミ
ン(0,09tie )のベンゼン(6舅l)溶液にア
セチル=クロリド(0,04ml )を水冷下で加えた
。
,65,79; H,9,γ7 ; N、1.97 :
S、4.50 実測値: C,65,76; H,9,87; N、1
.97 ;S、4.50 参考例12゜ イル=N−ヘプタデシルカルバメート 参考例11の化合物(0,3111)とトリエチルアミ
ン(0,09tie )のベンゼン(6舅l)溶液にア
セチル=クロリド(0,04ml )を水冷下で加えた
。
室温で3時間攪拌した後、反応液を水洗、乾燥、a帰し
て残渣をシリカゲル(10f ) を用いたカラムク
ロマトグラフィーおよびローパーBカラムを用いた中圧
液体クロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチ
ル(3:1)で溶出さ几る分画より表記の化合物の一つ
の異性体(163f9、異性体重とする)がロウ状物と
して得られた。博層クロマトグラフィー(シリカゲル、
溶媒系、ヘキサン−酢酸エチル、1:1): Rf
O,59 NMRスペクトル(60MHz、 CDCJ3) pp
m :o、7〜2.6 (47H,m)、 2.05
(3H,s )。
て残渣をシリカゲル(10f ) を用いたカラムク
ロマトグラフィーおよびローパーBカラムを用いた中圧
液体クロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチ
ル(3:1)で溶出さ几る分画より表記の化合物の一つ
の異性体(163f9、異性体重とする)がロウ状物と
して得られた。博層クロマトグラフィー(シリカゲル、
溶媒系、ヘキサン−酢酸エチル、1:1): Rf
O,59 NMRスペクトル(60MHz、 CDCJ3) pp
m :o、7〜2.6 (47H,m)、 2.05
(3H,s )。
2.46 (3H,S )、 2.8〜4.0 (9
H,mL4.00 (2H,t、 J=6Hz
) 、 4.2〜5.2(3H,m )、 7.3
6 (2H,d、 J:9H2)。
H,mL4.00 (2H,t、 J=6Hz
) 、 4.2〜5.2(3H,m )、 7.3
6 (2H,d、 J:9H2)。
7.82 (2H,d、J=9Hz )!Rスペク
トル(CHc15)α−1: 3460.1720次い
で、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出される分画
な集めてもう一つの異性体(72■、異性体■とする)
を油状物として得た。薄層クロマトグラフィー(前記と
同一条件):Rf O,45゜ NMRスペクトル(60MH2,cDcxs) ppm
:0.7〜2.6 (47H,m)、 2.27
(3H+ 5 )+2.45 (3H,S )、 2
.8〜4.0 (9H,m)。
トル(CHc15)α−1: 3460.1720次い
で、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出される分画
な集めてもう一つの異性体(72■、異性体■とする)
を油状物として得た。薄層クロマトグラフィー(前記と
同一条件):Rf O,45゜ NMRスペクトル(60MH2,cDcxs) ppm
:0.7〜2.6 (47H,m)、 2.27
(3H+ 5 )+2.45 (3H,S )、 2
.8〜4.0 (9H,m)。
4.00 (2H,t 、 J=6H2) 、 4.
2〜5.3(3H,m )、 7.37 (zH,
a、 J二8Hz )t7.82 (2H,d、 J=
8Hz )IRスペクト/l/ (CHC15) Cm
−1: 3460.1720゜参考例13゜ トリオール 大野らの方法(Chem、 Pharm、 Bull
、 、 33゜572 (1985) )に従って合成
した。2R,3R−3−0−ベンジル−1,2−0−イ
ソプロピリデンスレイトール(57,00f/ )とト
リエチルアミン(44,10ml )のベンゼン(11
)溶液にメタンスルホニルクロリド(21,00txt
)のベンゼン(100r=l )を氷冷下滴下した。
2〜5.3(3H,m )、 7.37 (zH,
a、 J二8Hz )t7.82 (2H,d、 J=
8Hz )IRスペクト/l/ (CHC15) Cm
−1: 3460.1720゜参考例13゜ トリオール 大野らの方法(Chem、 Pharm、 Bull
、 、 33゜572 (1985) )に従って合成
した。2R,3R−3−0−ベンジル−1,2−0−イ
ソプロピリデンスレイトール(57,00f/ )とト
リエチルアミン(44,10ml )のベンゼン(11
)溶液にメタンスルホニルクロリド(21,00txt
)のベンゼン(100r=l )を氷冷下滴下した。
亘温で1時間攪拌後、反応液を水洗、乾燥・J鰯して2
R,3B−2−ベンジルオキシ−3,4−イソプロビリ
デンジオキシプチル=メタンスルホネー) (74,8
0g)を無色の油状物として得た。
R,3B−2−ベンジルオキシ−3,4−イソプロビリ
デンジオキシプチル=メタンスルホネー) (74,8
0g)を無色の油状物として得た。
NMRスペクトル(cpcg) ppm :2.92
(3H1St 0−302 CH5)3.4〜
4.5 (6H,m ) 46s (2HI Sl ca2ph
)7.25 (5H,m、−Ph )上言
亡メタンスルホネート(74,80f ’)、炭酸水系
ナトリウム(113,92ダ)およびヨウ化ナトリウム
(169,391)を、アセトン(1,I J )中で
12時賀加熱還流した。放冷後反応液をセライトろ過し
不溶物を除いた。溶媒を溜去後残渣を水で希釈し酢酸エ
チルで3回抽出した。抽出液を不況・乾燥・濃縮し油状
の残渣をシリカゲ 、ル(600f )を用いたカラム
クロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(
95; 5 )で溶出される分画な集めて表記の化合物
(75,64y)を無色の油状物として得た。
(3H1St 0−302 CH5)3.4〜
4.5 (6H,m ) 46s (2HI Sl ca2ph
)7.25 (5H,m、−Ph )上言
亡メタンスルホネート(74,80f ’)、炭酸水系
ナトリウム(113,92ダ)およびヨウ化ナトリウム
(169,391)を、アセトン(1,I J )中で
12時賀加熱還流した。放冷後反応液をセライトろ過し
不溶物を除いた。溶媒を溜去後残渣を水で希釈し酢酸エ
チルで3回抽出した。抽出液を不況・乾燥・濃縮し油状
の残渣をシリカゲ 、ル(600f )を用いたカラム
クロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(
95; 5 )で溶出される分画な集めて表記の化合物
(75,64y)を無色の油状物として得た。
bp、 130−150 rニア1 m)(g、 C
α)o+8.40°(C=1.25゜cHc13) NMRスペクトル(CDCJ3) pl)m :3、”
57 (LH,ddd、 J=7.5. 5H2,C
13l−H)4.33 (II(、dt、 J=6.5
.5Hz C(21−H)4.74 (2H,ABq、
J=12Hz、 −CH2Ph)7.40 (5N
(、m、 −Ph)■RススベクトルCHCl5) c
M−’ : 51B (−I)?ススベクトル(mle
) : 362(M+)、 347(M+−cHb) 元素分析: C14H4905Iとして計算値: C,
46,22; H,5,29; I、35.04実d逼
り値 : C,46,47; H,5,18;
I、35.11参考例14゜ トリオール 大野らの方法(Chem、 Pharm、 Bull、
、 33゜572 (1985) )に従って合成した
2S、3S−3−0−ベンジル−1,2−0−イソプロ
ピリデンスレイトール(48,459)、トリエチルア
ミン(37,50ml )およびメタンスルホニルクロ
リド(17,80ml )から、参考例13と同様にし
て2S。
α)o+8.40°(C=1.25゜cHc13) NMRスペクトル(CDCJ3) pl)m :3、”
57 (LH,ddd、 J=7.5. 5H2,C
13l−H)4.33 (II(、dt、 J=6.5
.5Hz C(21−H)4.74 (2H,ABq、
J=12Hz、 −CH2Ph)7.40 (5N
(、m、 −Ph)■RススベクトルCHCl5) c
M−’ : 51B (−I)?ススベクトル(mle
) : 362(M+)、 347(M+−cHb) 元素分析: C14H4905Iとして計算値: C,
46,22; H,5,29; I、35.04実d逼
り値 : C,46,47; H,5,18;
I、35.11参考例14゜ トリオール 大野らの方法(Chem、 Pharm、 Bull、
、 33゜572 (1985) )に従って合成した
2S、3S−3−0−ベンジル−1,2−0−イソプロ
ピリデンスレイトール(48,459)、トリエチルア
ミン(37,50ml )およびメタンスルホニルクロ
リド(17,80ml )から、参考例13と同様にし
て2S。
3S−2−ベンジルオキシ−3,4−イソプロピリデン
ジオキシブチル=メタンスルホネート(63,45ダ)
を得た。更に、上記メタンスルホネート、炭酸水系ナト
リウム(96,8Of! ) ’Aよびヨウ化ナトリウ
ム(143,909)から参考例13と同様にして表記
の化合物(66J79 )を得た。 〔α] D
B−40’ (c =1.00. CHCl5 )参考
例15゜ シヘキサン翫エチル マロン酸ジエチル(40,009)のジメチルホルムア
ミド(200nl )溶液を水素化ナトリウム(55%
鉱油懸濁物、12.00 f )とジメチルホルムアミ
ド(600ml)の混合物中に5〜8℃で滴下した。室
温で1時間攪拌した後、参考例13の化合物(75,3
B ’I )のジメチルホルムアミド(300ul )
溶液を5〜8℃で滴下した。ioo℃で2時間加熱攪拌
し、放冷後反応液を2!の水中に注いで酢酸エチルで3
回抽出した。抽出液を水洗・乾燥・a縮し油状の残渣を
シリカゲル(1kg)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかげた。ヘキサン−酢酸エチル(9:1)で溶出さ
れる分画を集めて表記の化合物(6B、92g)を無色
の油状物として得た。bp、 170−180’C/1
正Hgo Cα)D+39.1°(c=1.oo、
CHCl5 )NMRスペクトル(CDCJ5) pp
m :2.01 (2H,t、 J:6.5H2,
C+3+−Hz)3.4〜4.4 (5H,m) 4.15 (4H,m、−CH2−CJX2)4.6
8 (2H,ABC,J=12Hz、−CH2Ph)
7.38 (5H,m、 −Ph) IRスペクトル(CHCl5)α−1: 1730 (
−o−co−)マススペクトル(m/e) : 378
(M+−CH5)元素分析: C21H3007として 計算値: C,63,94; !(,7,67実測値:
C,63,66; H,7,49参考例16゜ シヘキサン酸エチル マロン酸ジエチル(35,481) 、 水素化ナト
リウム(55%鉱油懸濁物、10.63 II )およ
び参考例14の化合物から参考例15と同様にして表記
の化合物(58,409)を得た。〔α〕26−39.
5゜((=1.QQ、 CHCl3) 参考例17、 参考例15の化合物(68,701’)、 塩化ナトリ
ウム(12,209)、水(6,51厘l)をジメチル
スルホキシド(1,11)中でi足台し、210’cの
油浴上で2時間加熱還流した。放冷後反応液を2.51
の水中に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出した。抽出液を水
洗・乾燥・濃縮し、油状の残渣をシリカゲル(1−)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかげた。ヘキサン−
酢酸エチル(95: 5 )で溶出される分画な集めて
表記の化合物(41,79y )を無色の油状物として
得た。
ジオキシブチル=メタンスルホネート(63,45ダ)
を得た。更に、上記メタンスルホネート、炭酸水系ナト
リウム(96,8Of! ) ’Aよびヨウ化ナトリウ
ム(143,909)から参考例13と同様にして表記
の化合物(66J79 )を得た。 〔α] D
B−40’ (c =1.00. CHCl5 )参考
例15゜ シヘキサン翫エチル マロン酸ジエチル(40,009)のジメチルホルムア
ミド(200nl )溶液を水素化ナトリウム(55%
鉱油懸濁物、12.00 f )とジメチルホルムアミ
ド(600ml)の混合物中に5〜8℃で滴下した。室
温で1時間攪拌した後、参考例13の化合物(75,3
B ’I )のジメチルホルムアミド(300ul )
溶液を5〜8℃で滴下した。ioo℃で2時間加熱攪拌
し、放冷後反応液を2!の水中に注いで酢酸エチルで3
回抽出した。抽出液を水洗・乾燥・a縮し油状の残渣を
シリカゲル(1kg)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかげた。ヘキサン−酢酸エチル(9:1)で溶出さ
れる分画を集めて表記の化合物(6B、92g)を無色
の油状物として得た。bp、 170−180’C/1
正Hgo Cα)D+39.1°(c=1.oo、
CHCl5 )NMRスペクトル(CDCJ5) pp
m :2.01 (2H,t、 J:6.5H2,
C+3+−Hz)3.4〜4.4 (5H,m) 4.15 (4H,m、−CH2−CJX2)4.6
8 (2H,ABC,J=12Hz、−CH2Ph)
7.38 (5H,m、 −Ph) IRスペクトル(CHCl5)α−1: 1730 (
−o−co−)マススペクトル(m/e) : 378
(M+−CH5)元素分析: C21H3007として 計算値: C,63,94; !(,7,67実測値:
C,63,66; H,7,49参考例16゜ シヘキサン酸エチル マロン酸ジエチル(35,481) 、 水素化ナト
リウム(55%鉱油懸濁物、10.63 II )およ
び参考例14の化合物から参考例15と同様にして表記
の化合物(58,409)を得た。〔α〕26−39.
5゜((=1.QQ、 CHCl3) 参考例17、 参考例15の化合物(68,701’)、 塩化ナトリ
ウム(12,209)、水(6,51厘l)をジメチル
スルホキシド(1,11)中でi足台し、210’cの
油浴上で2時間加熱還流した。放冷後反応液を2.51
の水中に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出した。抽出液を水
洗・乾燥・濃縮し、油状の残渣をシリカゲル(1−)を
用いたカラムクロマトグラフィーにかげた。ヘキサン−
酢酸エチル(95: 5 )で溶出される分画な集めて
表記の化合物(41,79y )を無色の油状物として
得た。
bp、 150−160℃/””go CCDっ÷4
7.6°(c=1.32. MeOH) NMRスペクトル(CDCJ5) ppm :1.23
(31(、t、 J=7.5Hz、 −CH2CH3
)1.6〜2.0 (2H,m、 Cf3l−Hz )
2.43 (2J t、 J=7.5)Iz、 Cf2
l−Hz )3.3〜3.6 CIH,m) 3−6〜4−4 (3H+ m ) 4.10 (2H,q、 J=7.5Hz、 −CH2
−CH3)4−69 (2H+ ABq t J=12
Hz I CH2F h )7.38 (5H,
s、−ph) IRスペクト# (cHc13)tyx−1: 173
0(−〇−Co−)マススペクトル(mle) : 3
22(M+)、 307(M+−CH5) 元素分析: 018H2605として 計算値: C,67,06; H,8,13実測値:
C,67,06; H,8,13参考例18゜ 参考例16の化合物(58,681) 、塩化す) I
Jウム(10,431)および水(5,56ml )か
ら参考例17と同様にして表記の化合物(41,799
)を得た。 〔α)D−47,4°(C=1.30.
CHc43 )参考例19゜ プロピリデンジオキシヘキサン−1−オール参考例17
の化合物(J7.65 f )のテトラヒドロフラン(
251ml )溶液を、 水素化リチウムアルミニウム
(6,759)のテトラヒト−フラン(750g/)懸
濁液に5〜8℃で制子した。反応液を室温で2時間攪拌
した後、4%水酸化ナトリウム水浴液(27,1llO
Fil )を4〜7℃で滴下した。!&濁物をセライト
を用いて濾過し、濃縮・、乾固した。残渣をシリカゲル
(goo f )を用いたカラムクロマトグラフィーに
かげ、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出される分
iを集めて表記の化合物(37,341)を無色の油状
物として得た。bp、 15G−160℃/1順Hg、
CCD。+41.8° (c=1.06. CHCl
5 )NMRスペクトル(cDci5) ppm :1
.5−1.8 (4H,m、 Cl2)−H2,C
f3l−H2)1.71 (IH,S、−0H) 3.4〜3.8 (4H,m) 4.02 (IH,dt、 J=7.5. 6Hz、
c(4)−H)4.25 (IH,dt、 J=
7.5.6Hz、 C15l−H)4.71 (2H
,ABQ、J=12Hz、−CH2Ph)7、38
(sH+ m、 pH)IH7,ペクト# (CH(
43)c7R−1: 3450(−OH)マススペクト
ル(mle) : 280(M+)、 265(M+−
CJ) 元素分析: C16H2404として 計算値: C,6a、55 ; H,El、63笑測値
: C,68,23; H,8,58参考例20゜ 参考例1Bの化合物(41,00y ) mよび水素化
リチウムアルミニウム(5,789)から、参考例19
と同様にして表記の化合物(32,159)を無色の油
状物として得た。 〔α〕D−42,5°(c=1.1
0; C1(C/3 ) 参考例21゜ 参考例19の化合物(19,27g )およびイミダゾ
ール(10,29fl )のジメチルホルムアミド(3
00vl)7B液に、t−ブチルジフェニルシリルクロ
リド(20,771)のジメチルホルムアミド(90m
l )溶液を5〜7℃で滴下した。室温で3時間攪拌し
た後、反応液を2!の水中に注ぎ、酢酸エチルで3回佃
出した。抽出液を水洗・乾燥・1媚し油状の残渣をシリ
カゲル(700f )を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかげた。ヘキサン−酢酸エチル(98: 2〜95
: 5 )で溶出される分画を果めで表記の化合物(
32,8011)を無色の油状物として得た。 〔α:
]甘+せ1..+。
7.6°(c=1.32. MeOH) NMRスペクトル(CDCJ5) ppm :1.23
(31(、t、 J=7.5Hz、 −CH2CH3
)1.6〜2.0 (2H,m、 Cf3l−Hz )
2.43 (2J t、 J=7.5)Iz、 Cf2
l−Hz )3.3〜3.6 CIH,m) 3−6〜4−4 (3H+ m ) 4.10 (2H,q、 J=7.5Hz、 −CH2
−CH3)4−69 (2H+ ABq t J=12
Hz I CH2F h )7.38 (5H,
s、−ph) IRスペクト# (cHc13)tyx−1: 173
0(−〇−Co−)マススペクトル(mle) : 3
22(M+)、 307(M+−CH5) 元素分析: 018H2605として 計算値: C,67,06; H,8,13実測値:
C,67,06; H,8,13参考例18゜ 参考例16の化合物(58,681) 、塩化す) I
Jウム(10,431)および水(5,56ml )か
ら参考例17と同様にして表記の化合物(41,799
)を得た。 〔α)D−47,4°(C=1.30.
CHc43 )参考例19゜ プロピリデンジオキシヘキサン−1−オール参考例17
の化合物(J7.65 f )のテトラヒドロフラン(
251ml )溶液を、 水素化リチウムアルミニウム
(6,759)のテトラヒト−フラン(750g/)懸
濁液に5〜8℃で制子した。反応液を室温で2時間攪拌
した後、4%水酸化ナトリウム水浴液(27,1llO
Fil )を4〜7℃で滴下した。!&濁物をセライト
を用いて濾過し、濃縮・、乾固した。残渣をシリカゲル
(goo f )を用いたカラムクロマトグラフィーに
かげ、ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出される分
iを集めて表記の化合物(37,341)を無色の油状
物として得た。bp、 15G−160℃/1順Hg、
CCD。+41.8° (c=1.06. CHCl
5 )NMRスペクトル(cDci5) ppm :1
.5−1.8 (4H,m、 Cl2)−H2,C
f3l−H2)1.71 (IH,S、−0H) 3.4〜3.8 (4H,m) 4.02 (IH,dt、 J=7.5. 6Hz、
c(4)−H)4.25 (IH,dt、 J=
7.5.6Hz、 C15l−H)4.71 (2H
,ABQ、J=12Hz、−CH2Ph)7、38
(sH+ m、 pH)IH7,ペクト# (CH(
43)c7R−1: 3450(−OH)マススペクト
ル(mle) : 280(M+)、 265(M+−
CJ) 元素分析: C16H2404として 計算値: C,6a、55 ; H,El、63笑測値
: C,68,23; H,8,58参考例20゜ 参考例1Bの化合物(41,00y ) mよび水素化
リチウムアルミニウム(5,789)から、参考例19
と同様にして表記の化合物(32,159)を無色の油
状物として得た。 〔α〕D−42,5°(c=1.1
0; C1(C/3 ) 参考例21゜ 参考例19の化合物(19,27g )およびイミダゾ
ール(10,29fl )のジメチルホルムアミド(3
00vl)7B液に、t−ブチルジフェニルシリルクロ
リド(20,771)のジメチルホルムアミド(90m
l )溶液を5〜7℃で滴下した。室温で3時間攪拌し
た後、反応液を2!の水中に注ぎ、酢酸エチルで3回佃
出した。抽出液を水洗・乾燥・1媚し油状の残渣をシリ
カゲル(700f )を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかげた。ヘキサン−酢酸エチル(98: 2〜95
: 5 )で溶出される分画を果めで表記の化合物(
32,8011)を無色の油状物として得た。 〔α:
]甘+せ1..+。
(C=1.11 ; CHC13)NMRスペクト
ル(CDCJ5) : ppm1.04 (9H,S
、(CH3)3−C−5i )1.4〜1.8 (4
H,m) 3.3〜3.8 (4H,m) 4.00 (IH,dt、J=7.5.6Hz、C(
31−1()4.20 (IH,dt、J=7.5.
6Hz、Cf2)−H)4.66 (2H,ABq、
J=12Hz、−CH2Ph)7.2−7.8 (1
5H,m、−PhX3)IRスペクトル(CHC15’
) On ” : 1100 (Si−0)マススペク
トル(m/e) : 503 (M”−CH3)元素分
析:C32H4204Siとして計算値: C,74,
09; H,8,16実(貝j4+i : C,7
4,20; H,8,18参考例22゜ 参考例20の化合物(18,009’)、イミダゾール
(9,629)およびt−ブチルジフェニルシリルクロ
リド(19,41fl )から参考例21と同様にして
表記の化合物(30,979) を無色の油状物とし
て得た。 〔α〕甘せ20.8°(c=1.25. C
H+J3)参考例23. 1.2−ジオール φ 参考例21の化合物(32,499)を、酢酸(300
rxl )およびX(30ml )に溶かし、室温で1
7時間、更に50℃で2時間攪拌した。放冷後、浴法を
溜去し、残渣をシリカゲル(soo I )を用いたカ
ラムクロマトグラフィーにかけた。酢酸エチルーヘキサ
ン(1:2)で溶出される分画を集めて表記の化合物(
27,40g) を無色の油状物として得た。 〔α
〕甘せ20.4°(c=1.12゜cHctt5) NMR、’、ペクト# (cpcz3) ppm :1
−O5(9H5S、(CJ)3 C5t)ts 〜1.
9 (4H,m) 1.9〜2.3 (IH,m、−0H)2.3〜2.
65 (IH,m、−0H)3.4〜3.9 (6
H,m) 4.53 (2H,ABQ、J=12Hz)7.2〜
7.8 (15H,m、PhX3)IRスペクトル(
cHc13)α−” : 3590.3460(−OH
)、1100 (Si−0)マススペクトル(m/e
) : 479 (M++1 )参考例24゜ 1.2−ジオール 参考例22の化合物(30,489) 、酢酸(300
vl )および不(30tel )から参考例23と同
様にし゛〔表記の化合物(26,159) を黒色の
油秋物として得た。〔α)、+20.6°(c=1.1
5 、 CHCl3)参考例25゜ フェニルメトキシ−ヘキサン−2−オール参考例23の
化合物(26,221)とトリエチルアミン(18,4
0yt )のトルエン(500txl )溶液にトリフ
ェニルメチルクロリド(1B、33 y ) を加え
、3時間那熱還流した。放冷後、反応液を水で希釈し酢
酸エテルで3回抽出した。抽出液を、頃次水、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗い、乾燥後
溶媒を1去した。
ル(CDCJ5) : ppm1.04 (9H,S
、(CH3)3−C−5i )1.4〜1.8 (4
H,m) 3.3〜3.8 (4H,m) 4.00 (IH,dt、J=7.5.6Hz、C(
31−1()4.20 (IH,dt、J=7.5.
6Hz、Cf2)−H)4.66 (2H,ABq、
J=12Hz、−CH2Ph)7.2−7.8 (1
5H,m、−PhX3)IRスペクトル(CHC15’
) On ” : 1100 (Si−0)マススペク
トル(m/e) : 503 (M”−CH3)元素分
析:C32H4204Siとして計算値: C,74,
09; H,8,16実(貝j4+i : C,7
4,20; H,8,18参考例22゜ 参考例20の化合物(18,009’)、イミダゾール
(9,629)およびt−ブチルジフェニルシリルクロ
リド(19,41fl )から参考例21と同様にして
表記の化合物(30,979) を無色の油状物とし
て得た。 〔α〕甘せ20.8°(c=1.25. C
H+J3)参考例23. 1.2−ジオール φ 参考例21の化合物(32,499)を、酢酸(300
rxl )およびX(30ml )に溶かし、室温で1
7時間、更に50℃で2時間攪拌した。放冷後、浴法を
溜去し、残渣をシリカゲル(soo I )を用いたカ
ラムクロマトグラフィーにかけた。酢酸エチルーヘキサ
ン(1:2)で溶出される分画を集めて表記の化合物(
27,40g) を無色の油状物として得た。 〔α
〕甘せ20.4°(c=1.12゜cHctt5) NMR、’、ペクト# (cpcz3) ppm :1
−O5(9H5S、(CJ)3 C5t)ts 〜1.
9 (4H,m) 1.9〜2.3 (IH,m、−0H)2.3〜2.
65 (IH,m、−0H)3.4〜3.9 (6
H,m) 4.53 (2H,ABQ、J=12Hz)7.2〜
7.8 (15H,m、PhX3)IRスペクトル(
cHc13)α−” : 3590.3460(−OH
)、1100 (Si−0)マススペクトル(m/e
) : 479 (M++1 )参考例24゜ 1.2−ジオール 参考例22の化合物(30,489) 、酢酸(300
vl )および不(30tel )から参考例23と同
様にし゛〔表記の化合物(26,159) を黒色の
油秋物として得た。〔α)、+20.6°(c=1.1
5 、 CHCl3)参考例25゜ フェニルメトキシ−ヘキサン−2−オール参考例23の
化合物(26,221)とトリエチルアミン(18,4
0yt )のトルエン(500txl )溶液にトリフ
ェニルメチルクロリド(1B、33 y ) を加え
、3時間那熱還流した。放冷後、反応液を水で希釈し酢
酸エテルで3回抽出した。抽出液を、頃次水、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗い、乾燥後
溶媒を1去した。
油状の残渣をテトラヒドロフラン(270gJ)に溶か
し、雄釦炭酸水素ナトリウム水溶液(90πl )を加
えて、室温で1時間攪拌した。上記と同家に後処理を行
なって得られた油状物(40g)を1.シリカゲル(5
00ダ)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
し、雄釦炭酸水素ナトリウム水溶液(90πl )を加
えて、室温で1時間攪拌した。上記と同家に後処理を行
なって得られた油状物(40g)を1.シリカゲル(5
00ダ)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
ヘキサン−酢酸エチル(95: 5〜9:1)で溶出さ
れる分画を集めて表記の化合物(37,019) を
無色油状物として得た。 〔α:]D−3.55°(C
=1.03. CH(J3 )NMRスペクトル(cD
cI!5) I)pm :1.05 (9H,S、 (
CJ)5C8i)1.4〜1.8 (4H,m) 2.30 (IH,d、 J=6H2,−0I()3.
22 (2H,d、 J=6H2,C(1)−H2)3
.5〜3.9 (4H,m) 4.45 (2H,ABq、 J=12Hz、 −CH
2Ph)7.1〜7.8 (30H,m、 −PhX6
)工Rスヘクトル(CHCl5) c′!n−1: 3
5BG (−oH)tlloo (o−3i) マススペクトル(m/e) : 4γ7 (M+−uc
(cax)5)元素分析:C48H5204SIとして
計算値: c、79.96 ; H,7,27災測値:
C,79,71; H,7,11参考例26 Φ 参考例24の化合物(25,961)、トリエチルアミ
ン(18,20πl)およびトリフェニルメチルクロリ
ド(1s、119 )から参考例25と同様にして表記
の化合物(36,509)を無色の油状物として得た。
れる分画を集めて表記の化合物(37,019) を
無色油状物として得た。 〔α:]D−3.55°(C
=1.03. CH(J3 )NMRスペクトル(cD
cI!5) I)pm :1.05 (9H,S、 (
CJ)5C8i)1.4〜1.8 (4H,m) 2.30 (IH,d、 J=6H2,−0I()3.
22 (2H,d、 J=6H2,C(1)−H2)3
.5〜3.9 (4H,m) 4.45 (2H,ABq、 J=12Hz、 −CH
2Ph)7.1〜7.8 (30H,m、 −PhX6
)工Rスヘクトル(CHCl5) c′!n−1: 3
5BG (−oH)tlloo (o−3i) マススペクトル(m/e) : 4γ7 (M+−uc
(cax)5)元素分析:C48H5204SIとして
計算値: c、79.96 ; H,7,27災測値:
C,79,71; H,7,11参考例26 Φ 参考例24の化合物(25,961)、トリエチルアミ
ン(18,20πl)およびトリフェニルメチルクロリ
ド(1s、119 )から参考例25と同様にして表記
の化合物(36,509)を無色の油状物として得た。
〔α葦+3.56 (C=1.01. CHCl5
)参考例27゜ 参考例25の化合物(36,89’;/ )とトリエチ
ルアミン(156シl)のメチレンクロリド(500+
yl)溶液にメタンスルホニルクロリド(4,75訂l
)を水冷下(5″C)滴下した。室温で1時間S!を拌
後、反応液を水中に注いだ。有様層を飽和食塩水で洗っ
た後、乾燥・濃縮して(2R,3R’) −3−ベンジ
ルオキシ−6−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)
−1−)リフェニルメト午シー2−へキシル=メタンス
ルホネー) c 40.91 y )を無色の油状物と
して得た。
)参考例27゜ 参考例25の化合物(36,89’;/ )とトリエチ
ルアミン(156シl)のメチレンクロリド(500+
yl)溶液にメタンスルホニルクロリド(4,75訂l
)を水冷下(5″C)滴下した。室温で1時間S!を拌
後、反応液を水中に注いだ。有様層を飽和食塩水で洗っ
た後、乾燥・濃縮して(2R,3R’) −3−ベンジ
ルオキシ−6−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)
−1−)リフェニルメト午シー2−へキシル=メタンス
ルホネー) c 40.91 y )を無色の油状物と
して得た。
NMRスペクトル(cDc13) ppm =101
(9J S、 (CH3)3Si )1.3〜1.8
(4H,m) 2−96 (3H,S 、 −〇−5O2−CH3)3
.0〜3.9 (su、 rn) 4.50 (2H,s、 −CH2−Ph)4.6〜4
.9 (IH,m、 −cH(oso2cas) −)
乙1 〜r、a (30H,m、−phx3)上記メ
タンスルホネート(40,!H! ) のテトラヒド
ロフラン(500zl ) :@:夜に、1Nテトラフ
゛チルアンモニウムフルオリド(テトラヒドロフラン)
溶液(614ml )を、水冷下(5℃)滴下した。室
温で14時間攪拌した後、反応液を′水で希釈し酢酸エ
チルで3回抽出した。抽出液を水洗・丸燥・7Jk帰し
、残渣をシリカゲル(700f)を用いたカラムクロマ
トグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(4:1
〜2:1)で溶出される分画を集めて辰記の化合物(2
6、j5y)を無色の油状物として得た。
(9J S、 (CH3)3Si )1.3〜1.8
(4H,m) 2−96 (3H,S 、 −〇−5O2−CH3)3
.0〜3.9 (su、 rn) 4.50 (2H,s、 −CH2−Ph)4.6〜4
.9 (IH,m、 −cH(oso2cas) −)
乙1 〜r、a (30H,m、−phx3)上記メ
タンスルホネート(40,!H! ) のテトラヒド
ロフラン(500zl ) :@:夜に、1Nテトラフ
゛チルアンモニウムフルオリド(テトラヒドロフラン)
溶液(614ml )を、水冷下(5℃)滴下した。室
温で14時間攪拌した後、反応液を′水で希釈し酢酸エ
チルで3回抽出した。抽出液を水洗・丸燥・7Jk帰し
、残渣をシリカゲル(700f)を用いたカラムクロマ
トグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(4:1
〜2:1)で溶出される分画を集めて辰記の化合物(2
6、j5y)を無色の油状物として得た。
〔α)25+21.7°(c=1.22. CHCJ3
)NMRスペクト# ((+oC13)ppm :1.
37 (IH,S、 −0H) 1.4〜1、f3 (4H,m) 3.00 (3H+ S、 08O2CH5)3.3
0 (IJ dd、J=IL+ 6Hz、 C(61H
)3.4〜3.6 (2H,m) 3.60 (IH,dd、 J:11.3Hz、 Cf
6)−H)3.6〜3.9 (IH,m) 4.56 (2H,s 、 −CH2Ph )4.82
(IH,ddd、 J=6.6.3Hz、 Cf5l
−H)7.2〜7.6 (20H,m、 −PhX4
)IRスペクトル(CDCJ5) Cur−’ :
3500 (OH”)+1360.1170 (−3
O2−)マススペクトル(mle) : 483 (M
+−06H5)。
)NMRスペクト# ((+oC13)ppm :1.
37 (IH,S、 −0H) 1.4〜1、f3 (4H,m) 3.00 (3H+ S、 08O2CH5)3.3
0 (IJ dd、J=IL+ 6Hz、 C(61H
)3.4〜3.6 (2H,m) 3.60 (IH,dd、 J:11.3Hz、 Cf
6)−H)3.6〜3.9 (IH,m) 4.56 (2H,s 、 −CH2Ph )4.82
(IH,ddd、 J=6.6.3Hz、 Cf5l
−H)7.2〜7.6 (20H,m、 −PhX4
)IRスペクトル(CDCJ5) Cur−’ :
3500 (OH”)+1360.1170 (−3
O2−)マススペクトル(mle) : 483 (M
+−06H5)。
46B (M+ −C6H5CH5)参考例28゜
キンル=メタンスルホネート
きiS
参考例26の化合物(35,6Of )を用い、参考例
27と同様にして表記の化合物(25,189’)を無
色の油状物として得た。 〔α]D−21.7°(c=
1.23.CHCJ5 ) 参考例29゜ 参考例27の化合物(26,08f )のt−ブタノー
ル(290s+l)溶液を、カリウムt−ブトキシド(
7,019)のt−ブタノール(250ηl)溶ン仮に
25℃で滴下した。40℃で4時間攪拌した。
27と同様にして表記の化合物(25,189’)を無
色の油状物として得た。 〔α]D−21.7°(c=
1.23.CHCJ5 ) 参考例29゜ 参考例27の化合物(26,08f )のt−ブタノー
ル(290s+l)溶液を、カリウムt−ブトキシド(
7,019)のt−ブタノール(250ηl)溶ン仮に
25℃で滴下した。40℃で4時間攪拌した。
反応液に酢酸(0,56xl )を加えた後、 溶媒を
1去した。残渣を水で希釈し酢酸エチルで3回畑出した
。佃出徹を飽和炭酸水素ナトリウム水溶)反?よび砲和
食塩累で尻って、乾燥・a鰯し、9’Jをシリカゲル(
430y )を用いたカラムクコマドグラフィーにかげ
た。ヘキサン−酢酸エチル(95: 5 )で浴出され
る分画を果めて表記の化合物(21,04g )を結晶
として得た。
1去した。残渣を水で希釈し酢酸エチルで3回畑出した
。佃出徹を飽和炭酸水素ナトリウム水溶)反?よび砲和
食塩累で尻って、乾燥・a鰯し、9’Jをシリカゲル(
430y )を用いたカラムクコマドグラフィーにかげ
た。ヘキサン−酢酸エチル(95: 5 )で浴出され
る分画を果めて表記の化合物(21,04g )を結晶
として得た。
mp86、O〜88.0℃(MeOH) −(α:1D
−32,8°(c=1.01.cHC13) NMRスペクトル(270MH2,CCDC15)pp
:1.41 (IH,dddd、 J=12.3Hz
、 10.9Hz。
−32,8°(c=1.01.cHC13) NMRスペクトル(270MH2,CCDC15)pp
:1.41 (IH,dddd、 J=12.3Hz
、 10.9Hz。
9.3Hz、 6.7Hz、 C+4l−Hax、 )
1.70 (2H,m、 C[5)−H2)2.2
6 (IH,ddddd、J=12.3Hz、4.2
Hz、3.9Hz。
1.70 (2H,m、 C[5)−H2)2.2
6 (IH,ddddd、J=12.3Hz、4.2
Hz、3.9Hz。
3.9I(Z 、 〜II(z、 C(4)−Heq
、 )3.20 (IH,dd、 J=9.8Hz、
5、OH2,−CH−oTr)3.37 (IH
,ddd、J=9.3Hz、5.0Hz、2.0Hz。
、 )3.20 (IH,dd、 J=9.8Hz、
5、OH2,−CH−oTr)3.37 (IH
,ddd、J=9.3Hz、5.0Hz、2.0Hz。
C(2)−H)
3.39 (IH,ddd、J:11.4Hz、9.
3Hz、5.3Hz。
3Hz、5.3Hz。
C(6)−Hax)
3.48 (IH,dd、J=9.8Hz、2.0H
z、−CH−0Tr)3.49 (IH,ddd、J
=10.9Hz、9.3Hz、4.2Hz。
z、−CH−0Tr)3.49 (IH,ddd、J
=10.9Hz、9.3Hz、4.2Hz。
Cf3l−H)
4.00 (IJ dadd、J=11.4Hz、
2.9Hz、2.9Hz。
2.9Hz、2.9Hz。
〜IHz、 cfsl−Heq、 )438 (2
H,ABq、J==11.5Hz、 −CH2Ph)7
−0〜7.5 (20Ht mt PhX4 )r
Rスペクトル(cgCl 3 )菌−1: 1595.
1in。
H,ABq、J==11.5Hz、 −CH2Ph)7
−0〜7.5 (20Ht mt PhX4 )r
Rスペクトル(cgCl 3 )菌−1: 1595.
1in。
1450 (06H5)+ 1090+ 1070
(COC)マススペクトル(mle) : 387
(M+−C6H5)。
(COC)マススペクトル(mle) : 387
(M+−C6H5)。
373 (M+−C7H7)
元素分析: C52H3203として
計算値: C,82,73; H,6,94英測僅:C
,82,56;H,6゜83参考例3θ。
,82,56;H,6゜83参考例3θ。
参考例28の化合物(24,98y )およびカリウム
t−ブトキシド(6,069)から参考例29 と同様
にして表記の化合物(20,121)を4晶として得た
。 mp、 86.5−88.5℃ 〔α)、+33.
0((=1.QQ、 CHCJ3 ) 参考例31゜ 参考例29の化合物(3,5131)のエタノール(1
20111)溶液に、10%パラジウム炭素(1,85
29)を加え、パールの装置中室温下4気圧で30時間
水素と振とうした。触媒をr去した後、溶媒を溜去し、
残渣をシリカゲル(90y)を用いたカラムクロマトグ
ラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(7:1)で
溶出される分画な集めて表記の化合物(2,557y
)を無色の油状物として得た。 〔α]、−!−38,
2゜(c=1.07. CHCJg) NMRスペクトル(CDCJ3) ppm :1.2〜
1.El (3H,m) 1.9〜2.3 (IH,m) 3.00 (IH,S、 −OH) 3.1〜3.7 (5H,m) 3.75〜4.O5(IHt rn) 7.2〜7.7 (15H,m、 phx3)IRスペ
クトル(CHCJ 3 )α−’ : 350G (O
H)。
t−ブトキシド(6,069)から参考例29 と同様
にして表記の化合物(20,121)を4晶として得た
。 mp、 86.5−88.5℃ 〔α)、+33.
0((=1.QQ、 CHCJ3 ) 参考例31゜ 参考例29の化合物(3,5131)のエタノール(1
20111)溶液に、10%パラジウム炭素(1,85
29)を加え、パールの装置中室温下4気圧で30時間
水素と振とうした。触媒をr去した後、溶媒を溜去し、
残渣をシリカゲル(90y)を用いたカラムクロマトグ
ラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(7:1)で
溶出される分画な集めて表記の化合物(2,557y
)を無色の油状物として得た。 〔α]、−!−38,
2゜(c=1.07. CHCJg) NMRスペクトル(CDCJ3) ppm :1.2〜
1.El (3H,m) 1.9〜2.3 (IH,m) 3.00 (IH,S、 −OH) 3.1〜3.7 (5H,m) 3.75〜4.O5(IHt rn) 7.2〜7.7 (15H,m、 phx3)IRスペ
クトル(CHCJ 3 )α−’ : 350G (O
H)。
1600、1490.1450(−Ph)、 1090
(C−0−C)マススペクトル(mle) : 37
4 (M+)、 297(M+−06H5) 参考例32゜ 参考例;30の化合物(2,835! )および10
%パラジウム炭素(1,499F )を甲い、参考例3
1と同様;(シて表記の化合物(2,0759)を無色
の油状物として得た。 〔α〕D−38,0°(c=1
.12゜CHCj!3) 参考例33゜ ステアリンE&(4,7829)、 ジフェニルホス
ホリルアジド(3,62ml )およびトリエチルアミ
ン(2,34hl )のベンゼン(1nOg/)溶液を
3時間加熱還流した。放冷後、反応液を酢酸エチルで希
釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗った。乾燥後
、溶媒を溜去し、残渣をトルエン(25ml )に溶か
した。トリエチルアミン(2,34m1 )および参考
例31の化合物(2,5181)のトルエン(25yl
)溶液を加えて100″Cで90時間加熱し、放冷後
、反応液を應和炭酸水紫す) IJウム水溶液中に注い
だ。酢酸エチルで3回抽出し、抽出液を乾燥、濃縮し、
油状の残渣をシリカゲル(1201)を用いたカラムク
ロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(T
:1)で浴出される分画な集めて表記の化合物(3,1
31f )を無色の油状物として得た。
(C−0−C)マススペクトル(mle) : 37
4 (M+)、 297(M+−06H5) 参考例32゜ 参考例;30の化合物(2,835! )および10
%パラジウム炭素(1,499F )を甲い、参考例3
1と同様;(シて表記の化合物(2,0759)を無色
の油状物として得た。 〔α〕D−38,0°(c=1
.12゜CHCj!3) 参考例33゜ ステアリンE&(4,7829)、 ジフェニルホス
ホリルアジド(3,62ml )およびトリエチルアミ
ン(2,34hl )のベンゼン(1nOg/)溶液を
3時間加熱還流した。放冷後、反応液を酢酸エチルで希
釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗った。乾燥後
、溶媒を溜去し、残渣をトルエン(25ml )に溶か
した。トリエチルアミン(2,34m1 )および参考
例31の化合物(2,5181)のトルエン(25yl
)溶液を加えて100″Cで90時間加熱し、放冷後
、反応液を應和炭酸水紫す) IJウム水溶液中に注い
だ。酢酸エチルで3回抽出し、抽出液を乾燥、濃縮し、
油状の残渣をシリカゲル(1201)を用いたカラムク
ロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(T
:1)で浴出される分画な集めて表記の化合物(3,1
31f )を無色の油状物として得た。
〔α]D−28,5°((=1.Q4. CHCl、
)NMRスペクトル(CDCJ3) ppm :o、y
〜2.4 (37H,m) 2.8〜3.6 C6H9m) 3.8−4.1 (IH,m) 4.2〜4.8 (2H,m) 7.1 〜7.6 (15H,m) IRスペクトル(CHCJ3) OR−’ : 346
0 (NH)+1720、 1510 (−N−Co
)マススペクトル(m/e) : 412(M”−C1
9H+5)t396 (M” C19H150)+
382 (M” C21H170)参考例34
゜ デシルカルバメート ステアリンy(3,5531)、ジフェニルホスホリル
アジド(2,69ml )と参考例32の化合物(1,
8Hf )を用い、参考例33と同様にして表記の化合
物(2,491f ) を無色の油状物として得た。
)NMRスペクトル(CDCJ3) ppm :o、y
〜2.4 (37H,m) 2.8〜3.6 C6H9m) 3.8−4.1 (IH,m) 4.2〜4.8 (2H,m) 7.1 〜7.6 (15H,m) IRスペクトル(CHCJ3) OR−’ : 346
0 (NH)+1720、 1510 (−N−Co
)マススペクトル(m/e) : 412(M”−C1
9H+5)t396 (M” C19H150)+
382 (M” C21H170)参考例34
゜ デシルカルバメート ステアリンy(3,5531)、ジフェニルホスホリル
アジド(2,69ml )と参考例32の化合物(1,
8Hf )を用い、参考例33と同様にして表記の化合
物(2,491f ) を無色の油状物として得た。
〔α] +28.8°(C=1.13. CHC
J、)参考例35゜ ルバメート 参考例33の化合物(2,753f )のメタノール(
55el )溶液にp−)ルニンスルホン酸(240,
0my )を加え、1時間調熱還流した。放冷後、炭酸
水紫ナトリウム(352,6m9 ’)を顎えた。メタ
ノールを1去し、酢酸エチルなmえて不溶物を2去した
。F−iをrawし、残玉をシリカゲル(55f )を
用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−
酢酸エチル(2:1〜1:1)で溶出される分1を集め
て表記の化合物(1,4769)を結晶として得た。m
p、 92.0−93.5℃(Et20) Cα’l
、−7,20°(c=1.oo、 cucgs)NMR
スペクトル(cDcJ3) ppm :0.7〜2.3
(37H,m) 2.6〜2.85 (IH,m、 −〇H)24〜3
.8 (6H,m) 3.8〜4.1 (IH,m) 4.4〜4.9 (2H,m) IRスペクトル(CHCJ3) a−1: 3450
(−NH。
J、)参考例35゜ ルバメート 参考例33の化合物(2,753f )のメタノール(
55el )溶液にp−)ルニンスルホン酸(240,
0my )を加え、1時間調熱還流した。放冷後、炭酸
水紫ナトリウム(352,6m9 ’)を顎えた。メタ
ノールを1去し、酢酸エチルなmえて不溶物を2去した
。F−iをrawし、残玉をシリカゲル(55f )を
用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−
酢酸エチル(2:1〜1:1)で溶出される分1を集め
て表記の化合物(1,4769)を結晶として得た。m
p、 92.0−93.5℃(Et20) Cα’l
、−7,20°(c=1.oo、 cucgs)NMR
スペクトル(cDcJ3) ppm :0.7〜2.3
(37H,m) 2.6〜2.85 (IH,m、 −〇H)24〜3
.8 (6H,m) 3.8〜4.1 (IH,m) 4.4〜4.9 (2H,m) IRスペクトル(CHCJ3) a−1: 3450
(−NH。
−0H)、1711,1510 (−NH−Co)マ
ススペクトル(m/e) : 414 (M++1)。
ススペクトル(m/e) : 414 (M++1)。
382 (M+−CH20H)
元素分析: C24H47NO4として計算値:C,6
9,69; H,11,45; N、3.39実動値:
C169,33; H,11,40; N、3.53
参考例36゜ ルバメート 参考例34の化合物(2,400f )を用い、 参考
例i3sと同様にして表記の化合物(1,305y)を
結晶として得た。 mp、 92.5−93.5℃。
9,69; H,11,45; N、3.39実動値:
C169,33; H,11,40; N、3.53
参考例36゜ ルバメート 参考例34の化合物(2,400f )を用い、 参考
例i3sと同様にして表記の化合物(1,305y)を
結晶として得た。 mp、 92.5−93.5℃。
〔α)、+7.25°(c=1.02. CHCl3)
試験例1゜ 試験動物として、イナクチン(90my/1t1g腹控
内牧与)で麻酔したウィスター今道うッート(体重35
0〜450 f )を使用した。血圧は、大腿動脈に奔
入したカニユーレより遅続的に迦」定し、薬物は、大腿
静脈に挿入したカニユーレより靜注した。まず、PAF
(1−C16:offi ) 10nf/kgを5分
間島で靜注し、その降圧反応の大ぎさが一走するまで繰
り返した。次に、gL検薬を靜注し、その1分後に再び
PAFの同じ用量を投与した。
試験例1゜ 試験動物として、イナクチン(90my/1t1g腹控
内牧与)で麻酔したウィスター今道うッート(体重35
0〜450 f )を使用した。血圧は、大腿動脈に奔
入したカニユーレより遅続的に迦」定し、薬物は、大腿
静脈に挿入したカニユーレより靜注した。まず、PAF
(1−C16:offi ) 10nf/kgを5分
間島で靜注し、その降圧反応の大ぎさが一走するまで繰
り返した。次に、gL検薬を靜注し、その1分後に再び
PAFの同じ用量を投与した。
複検渠は、累積的に投与し、七のPAF降圧作用の抑制
率より、50%抑動用量(ID50)を決定し、pAF
摺抗活性の指ブとした。尚、PAFおよび版検某は0.
25%牛血清アルブミン(BS人)を含有する生理食塩
液に溶解して使用し、この溶謀に不溶の被慣液のみ20
%エタノールを含有する生理賞塩水に溶解した。
率より、50%抑動用量(ID50)を決定し、pAF
摺抗活性の指ブとした。尚、PAFおよび版検某は0.
25%牛血清アルブミン(BS人)を含有する生理食塩
液に溶解して使用し、この溶謀に不溶の被慣液のみ20
%エタノールを含有する生理賞塩水に溶解した。
試験例2゜
ウサギより採血し、直ちに1/9容の3.8%クエン酸
ソーダと混合した。室温下に1501で15分間遠心し
、上層より多血小板血漿(PI’LP )を得た。残り
の血液を1000 fにてさらに15分間遠心し、上層
より乏血小板血粱(PPP)を得た。PRPとpppン
適量混合し、PRPの最終血小板数をμlあたり60万
:固に調整した。血小板の凝集はポーンらの方法(G、
V、 RBorn、J。
ソーダと混合した。室温下に1501で15分間遠心し
、上層より多血小板血漿(PI’LP )を得た。残り
の血液を1000 fにてさらに15分間遠心し、上層
より乏血小板血粱(PPP)を得た。PRPとpppン
適量混合し、PRPの最終血小板数をμlあたり60万
:固に調整した。血小板の凝集はポーンらの方法(G、
V、 RBorn、J。
Physiol、 62.67−68 (1962)
) によりアグリコメーターを用い透過光の増加によ
り測定した。
) によりアグリコメーターを用い透過光の増加によ
り測定した。
250μ!のRRPに被検薬浴液25μlを加えて 1
分後に25μ!のPAF(C16,終1度10→〜3×
1o−8M)を添加し、その後5分間観察し凝集抑制作
用をみた。抑制率は検液のかわりに生理食塩水を用いた
場合のPAFによる凝集をもとに求め、用量反応B線に
よりIC5Qを算出した。
分後に25μ!のPAF(C16,終1度10→〜3×
1o−8M)を添加し、その後5分間観察し凝集抑制作
用をみた。抑制率は検液のかわりに生理食塩水を用いた
場合のPAFによる凝集をもとに求め、用量反応B線に
よりIC5Qを算出した。
試1喰1および2の結果を辰に示す。
特許出原人 三共株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、lは2乃至4の整数を示し、A及びBは同一又
は異なって酸素原子又は硫黄原子を示す。R^1及びR
^2のうち一方は、炭素数10乃至22個の直鎖又は分
枝鎖アルキル基、炭素数10乃至22個の直鎖又は分枝
鎖脂肪族アシル基或いは式−CONH−R^3(II)を
有する基(式中、R^3は炭素数10乃至22個の直鎖
又は分枝鎖アルキル基を示す。)を示し、他方は、 式▲数式、化学式、表等があります▼(III) を有する基(式中、Eは、式−(CH_2)_m−を有
する基(式中、mは1乃至3の整数を示す。)又は2価
の5乃至7員複素環基を示し、nは0乃至10の整数を
示し、qは0乃至1の整数を示し、R^4は保護されて
いてもよい水酸基、置換された水酸基、保護されていて
もよいメルカプト基又は置換されたメルカプト基を示し
、Qは、式▲数式、化学式、表等があります▼(IV) を有する基(式中、R^5、R^6及びR^7は同一又
は異なって水素原子若しくは低級アルキル基を示す。)
、又は式−Gを有する基(式中、Gは5乃至7員複素環
基を示し、該基は所望により、低級アルキル基、ヒドロ
キシ低級アルキル基、低級アルコキシ基、カルバモイル
基又はハロゲン原子を置換基として1乃至3個有してい
てもよい。)を示し、Z^■はアニオンを示す。)を示
す。尚、Q基が式(IV)を有する基又は式−Gを有する
基(式中、Gは5乃至7員複素環基であって、窒素原子
上で結合している基を示す。)である場合には、nは1
乃至10の整数を示す。〕を有する環状エーテル誘導体
及び薬理上許容される塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1206688A JPH0759575B2 (ja) | 1987-01-26 | 1988-01-22 | 環状エーテル誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1548487 | 1987-01-26 | ||
JP62-15484 | 1987-01-26 | ||
JP1206688A JPH0759575B2 (ja) | 1987-01-26 | 1988-01-22 | 環状エーテル誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63301877A true JPS63301877A (ja) | 1988-12-08 |
JPH0759575B2 JPH0759575B2 (ja) | 1995-06-28 |
Family
ID=26347616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1206688A Expired - Lifetime JPH0759575B2 (ja) | 1987-01-26 | 1988-01-22 | 環状エーテル誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0759575B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2013168780A1 (ja) * | 2012-05-11 | 2016-01-07 | 積水メディカル株式会社 | 光学活性2−ビニルシクロプロパン−1,1−ジカルボン酸エステルの製造法 |
-
1988
- 1988-01-22 JP JP1206688A patent/JPH0759575B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2013168780A1 (ja) * | 2012-05-11 | 2016-01-07 | 積水メディカル株式会社 | 光学活性2−ビニルシクロプロパン−1,1−ジカルボン酸エステルの製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0759575B2 (ja) | 1995-06-28 |
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