JPS63300969A - 電圧検出装置 - Google Patents

電圧検出装置

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JPS63300969A
JPS63300969A JP62137055A JP13705587A JPS63300969A JP S63300969 A JPS63300969 A JP S63300969A JP 62137055 A JP62137055 A JP 62137055A JP 13705587 A JP13705587 A JP 13705587A JP S63300969 A JPS63300969 A JP S63300969A
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裕 土屋
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    • G01R15/00Details of measuring arrangements of the types provided for in groups G01R17/00 - G01R29/00, G01R33/00 - G01R33/26 or G01R35/00
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    • G01R15/242Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using light-modulating devices using electro-optical modulators, e.g. electro-absorption based on the Pockels effect, i.e. linear electro-optic effect

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、被測定物、例えば電気回路等の所定部分の電
圧を検出するための電圧検出装置に関し、特に被測定物
の所定部分の電圧によって光の偏光状態が変化すること
を利用して電圧を検出する型式の電圧検出装置に関する
〔従来の技術〕
従来、電気回路などの被測定物の所定部分の電圧を検出
するのに、種々の電圧検出装置が用いられる。この種の
電圧検出装置としては被測定物の所定部分にプローブを
接触させて、その部分の電圧を検出する型式のもの、あ
るいはプローブを接触させずに所定部分に電子ビームを
入射させることにより所定部分の電圧を検出する型式の
ものなどが知られている。
ところで、当業者間には、構造が複雑でかつ小型の集積
回路のような被測定物のWLmな部分の高速に変化する
電圧を、微細な部分の状態に影響を与えず精度良く検出
したいという強い要望がある。
しかしながら、プローブを被測定物の所定部分に接触さ
せる型式の電圧検出装置では、集積回路等の微細部分に
プローブを直接接触させることが容易でなく、またプロ
ーブを接触させることができたとしても、その電圧情報
だけに基づき集積回路の動作を適確に解析するのは困難
であった。さらにプローブを接触させることにより集積
回路内の動作状態が変化するという問題があった。
また電子ビームを用いる型式の電圧検出装置では、プロ
ーブを被測定物に接触させずに電圧を検出することがで
きるものの、測定されるべき部分が真空中に置かれかつ
露出されているものに限られ、また電子ビームにより測
定されるべき部分を損傷するという問題があった。
さらに従来の電圧検出装置では、検出器の動作速度が高
速の電圧変化に追従できず、集積回路等の高速に変化す
る電圧を精度良く検出することができないという問題が
あった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
このような問題点を解決するために、発明者等による昭
和62年5月30日付の特許出願に記載されているよう
な被測定物の所定部分の電圧によって光ビームの偏光状
態が変化することを利用して電圧を検出する型式の電圧
検出装置が開発された。
第6図は、光ビームの偏光状態が被測定物の所定部分の
電圧によって変化することを利用して被測定物の電圧を
検出する型式の電圧検出装置の構成図である。
第6図において電圧検出装置50は、光プローブ52と
、例えばレーザダイオードによる直流光源53と、直流
光源53から出力される光ビームを集光レンズ60を介
して光プローブ52に案内する光ファイバ51と、光プ
ローブ52からの参照光をコリメータ90を介して光電
変換素子55に案内する光ファイバ92と、光プローブ
52がらの出射光をコリメータ91を介して光電変換素
子58に案内する光ファイバ93と、光電変換素子55
,5.8からの光電変換された電気信号を比較する比較
回路61とから構成されている。
光プローブ52には、電気光学材料62、例えば光学的
−軸性結晶のタンタル酸リチウム(L i T a O
3)が収容されており、電気光学材料62の先端部63
は、截頭円錐形状に加工されている6光プローブ52の
外周部には、導電性電極64が設けられ、また先端部6
3には金属薄膜あるいは誘電体多IWAの反射鏡65が
被着されている。
光プローブ52内にはさらに、コリメータ94と、集光
レンズ95.96と、コリメータ94からの光ビームか
ら所定の偏光成分をもつ光ビームだけを抽出する偏光子
54と、偏光子54からの所定の偏光成分をもつ光ビー
ムを参照光と入射光とに分割する一方、電気光学材料6
2からの出射光を検光子57に入射させるビームスプリ
ッタ56とが設けられている。なお参照光、出射光は、
それぞれ集光レンズ95.96を介して光ファイバ92
.93に出力されるようになっている。
このような構成の電圧検出装置50では、検出に際して
、光プローブ52の外周部に設けられた導電性電f!6
4を例えば接地電位に保持しておく。
次いで、光プローブ52の先端部63を被測定物、例え
ば集積回路(図示せず)に接近させる。これにより、光
プローブ52の電気光学材料62の先端部63の屈折率
が変化する。より詳しくは、光学的−軸性結晶などにお
いて、光軸と垂直な平面内における常光の屈折率と異常
光の屈折率との差が変化する。
光源53から出力された光ビームは、集光レンズ60.
光ファイバ51を介して光プローブ52のコリメータ9
4に入射し、さらに偏光子54により所定の偏光成分の
強度工の光ビームとなって、ビームスプリッタ56を介
して光プローブ52の電気光学材料62に入射する。な
おビームスプリッタ56により分割された参照光、入射
光の強度はそれぞれπ/2となる。電気光学材料62の
先端部63の屈折率は上述のように被測定物の電圧によ
り変化するので、電気光学材料62に入射した入射光は
先端部63のところでその偏光状態が屈折率変化に依存
して変化し反射鏡65に達し、反射鏡65で反射され、
電気光学材料62から出射光として再びビームスプリッ
タ56に向かう。
電気光学材料62の先端部63の長さを1とすると、入
射光の偏光状態は電圧による常光と異常光との屈折率差
および長さ2Jlに比例して変化する。
ビームスプリッタ56に戻された出射光は、検光子57
に入射する。なお検光子57に入射する出射光の強度は
、ビームスプリッタ56により工/4となっている。検
光子57が例えば偏光子54の偏光成分と直交する偏光
成分の光ビームだけを通過させるように構成されている
とすると、偏光状態が変化して検光子57に入射する強
度I/4の出射光は、検光子57により、強度が(I 
/4 )sin   ((π/2)−V/Vo)となっ
て光電変換素子58に加わることになる。ここで■は被
測定物の電圧、■oは半波長電圧である。
比較回路61では、光電変換素子55において光電変換
された参照光の強度I/2と、光電変換素子58におい
て光電変換された出射光の強度・ 2 (π/4)  ・sin   ((π/2)V/V□ 
〕とが比較される。
出射光の強度(π/4)−sin2 ((π/2)v/
■o〕は、電圧変化に伴なう電気光学材料62の先端部
63の屈折率の変化によって変わるので、これに基づい
て被測定物、例えば集積回路の所定部分の電圧を検出す
ることができる。
このように第6図に示す電圧検出装置50では、光プロ
ーブ52の先端部63を被測定物に接近させることで変
化する電気光学材料62の先端部63の屈折率の変化に
基づき、被測定物の所定部分の電圧を検出するようにし
ているので、特に接触させることが困難で、また接触さ
せることにより被測定電圧に影響を与えるような集積回
路の微細部分などの電圧を、光プローブ52を接触させ
ることなく検出することができる。また光源としてパル
ス幅の非常に短かい光パルスを出力するレーザダイオー
ドなどのパルス光源を用いて、被測定物の高速な電圧変
化を非常に短かい時間幅でサンプリングするかあるいは
光源に直流光源を用い検出器にストリークカメラなどの
高速応答検出器を用いて被測定物の高速な電圧変化を高
い時間分解能で測定することにより、高速な電圧変化を
も精度良く検出することが可能となる。
ところで、第6図の電圧検出装置50の光プローブ52
内の電気光学材料62は、自然複屈折を有するものが多
い0例えば、光学的−軸性結晶のタンタル酸リチウム(
L i T a 03 )では、常光の屈折率n0と異
常光の屈折率n6との差に比例した自然複屈折による位
相差が生ずる。この自然複屈折による位相差は、光学的
−軸性結晶に電圧が印加されていない場合でも生じ、こ
の位相差により偏光状態が変化することになる。従って
、電圧を印加したときの屈折率変化による偏光状態の変
化だけを抽出し、被測定物の電圧を精度良く抽出しよう
とする際、自然複屈折による位相差を相殺する手段を設
ける必要がある。
また被測定物の所定部分の電圧を感度良く検出するため
に検光子57からの出射光から直流成分を取除く必要が
ある。
より詳しくは、所定部分の被測定電圧が直流電圧に重畳
した高速に変化する電圧である場合に、高速に変化する
電圧成分のみを検出したいので、直流電圧に依存する偏
光状態の変化を取除く必要がある。
すなわち検光子57が偏光子54と直交して配置されて
いる場合の電圧Vに対する出射光の光強度Iの変化を示
す第7図において、動作点P1のところでは、出射光の
強度変化Δ11が電圧変化Δ■1に対して線形となるよ
うに設定されるが、この場合には出射光の光強庇上には
直流成分工。。
が含まれるために、検出器において出射光の強度変化Δ
11だけを感度良く検出することができない、従って、
動作点P2で示すように出射光の強度変化ΔI2が電圧
変化Δv2に対しては線形ではないが、出射光の光強庇
上に直流成分I。Cが含まれないように検光子57から
の出射光強度を変換する必要がある。
これらの目的のため、第8図に示すような構造の電圧検
出装置70が発明者等により提案された。
第8図の電圧検出装置70の光プローブ17内・には、
第6図に示す光プローブ52と比べて、ビームスプリッ
タ56と電気光学材料62との間にさらに位相補償器1
6が設けられている。
このような構成の電圧検出装置70では、ビームスプリ
ッタ56と、電気光学材料62との間に位相補償器16
が設けられているので、この位相補償器16を調節する
ことによって、電気光学材料62から出力される出射光
の偏光状態の変化を電気光学材料62に印加される電圧
によるもののみにすることができる。すなわち、被測定
物の所定部分の電圧を検出するに際し、電気光学材料6
2に電圧を印加していない状態で、例えば電気光学材料
62から出力される出射光の偏光状態が入射光の偏光成
分と直交する向きとなり、検光子57から出力される出
射光の強度が最小のものとなるよう、位相補償器16を
調節することで、電気光学材料62の自然複屈折による
位相差に基づく出射光の偏光状態の変化を相殺すること
ができる。
このような位相補償器16としては、機械的に調節する
ものとしてソレイユ補償器を用いても良いし、あるいは
光ビームの径が小さいときにはバビネ補償器を用いても
良い。ソレイユ補償器には光プローブ17の外部から調
節可能な摺動型式の調節機構が設けられており、被測定
物の所定部分の電圧検出を開始するに先立ち、電気光学
材料62に電圧が印加されていない状態にして調節機構
を例えば手動で調節することにより、自然複屈折による
位相差の影響を取除くようにしていた。
また位相補償器16が電圧により調節する型式のもので
ある場合には、位相補償器16に所定の電圧を加え、動
作点を第7図に動作点P2として示すものとなるよう手
動で調節することにより、検光子57からの出射光強度
から直流成分I。0を取除くことができる。
しかしながら、電気光学材料62の自然複屈折による位
相差は、温度依存性があり、光プローブ17すなわち電
気光学材料62の用いられる環境の温度の変化により、
変化する。また第7図の動作点P2における出射光強度
も温度の変化により変動し、特に動作点P2のところで
は出射光強度の変化は非線形なものであるため、温度変
化による出射光強度の変動は電圧検出精度に大きく影響
する。従って、第8図の電圧検出装置70において、電
圧検出開始時に位相補償器16を所定の調節値に手動で
調節したとしても、その後の温度変化によって電圧検出
開始時に設定された調節値は適当なものでなくなり、正
確な検出結果を電圧検出の全期間にわたって得ることが
できないという問題があった。
本発明は、温度変化などに追従し、温度変化などによる
影響を取除き、被測定物の所定部分の電圧を常に精度良
くかつ感度良く検出することの可能な簡単な構造の電圧
検出装置を提供することを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、被測定物の所定部分の電圧によって屈折率が
変化する電気光学材料を用いた型式の電圧検出装置を改
良するものである。
第1の発明は、被測定物の所定部分の電圧の影響を受け
る第1の電気光学材料と、該第1の電気光学材料の自然
複屈折による位相差を補償するように配置されている第
2の電気光学材料とを備え、前記第2の電気光学材料は
、前記第1の電気光学材料と同じ材料で形成されかつ前
記第1の電気光学材料と光軸方向に同じ長さをもち光軸
に沿って整列されていることを特徴とするものである。
第2の発明は、さらに前記第1の電気光学材料と前記第
2の電気光学材料との間に設けられた第1の透明電極と
、前記第2の電気光学材料の前記第1の透明電極が設け
られている側とは反対の側に設けられた第2の透明電極
とを備えていることを特徴とするものである。
〔作用〕
本発明では、被測定物、例えば集積回路の所定部分の電
圧の影響を受ける第1の電気光学材料の他に、第1の電
気光学材料の自然複屈折による位相着を補償するように
配置された第2の電気光学材料が設けられている。第1
の電気光学材料と第2の電気光学材料とを同じ材料でか
つ光軸方向に同じ長さに形成し、これらの光学軸が互い
に直交するように配置する。このような構成では、例え
ば第2の電気光学材料に所定の偏光成分をもつ入射光が
入射すると、第2の電気光学材料内では、自然複屈折に
よる位相差によってその偏光状態が変化する0次いでこ
の入射光が第1の電気光学材料に入射すると、第1の電
気光学材料内では、自然複屈折による位相差によってそ
の偏光状態が第2の電気光学材料とは反対の向きに変化
し、さらに被測定物の所定部分の電圧によりその偏光状
態は変化する。これにより、自然複屈折による位相差に
基づく偏光状態の変化は相殺され、偏光状態は被測定物
の所定部分の電圧だけによって変化する。
また第1の電気光学材料と第2の電気光学材料との間に
第1の透明電極を設け、この第1の透明電極を例えば接
地電位に保持し、第2の電気光学材料の第1の透明電極
が設けられている側とは反対の側に第2の透明電極を設
け、この第2の透明電極に例えば所定の可変電圧を加え
る。このような構成では、第2の電気光学材料は、第1
の電気光学材料における自然複屈折による位相差の影響
を常に補償すると同時に、第2の透明電極に電圧を印加
することにより、第1の電気光学材料の出射光の偏光状
態から直流成分を取除き、さらには温度変化に追従して
第2の透明電極の電圧を可変にすることにより、直流成
分の取除かれた出射光の偏光状態が温度変化によって変
動しないよう常に補償している。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は、本発明に係る電圧検出装置の第1の実施例の
構成図である。第1図において第6図、第8図と同様の
箇所には同じ符号を付して説明を省略する。
第1図の電圧検出装置1では、光プローブ2内に第6図
、第8図に示す光プローブ52.17と同様、コリメー
タ94.s光レンズ95.96と、偏光子54と、ビー
ムスプリッタ56と、検光子57とが実装されている。
さらに電圧検出装置1の光プローブ2内には、第6図、
第8図に示す光プローブ52.17内の電気光学材料6
2のかわりに、2つの電気光学材料21.22が配置さ
れている。電気光学材料21.22は、全く同じ材料(
光学的−軸性結晶)で形成されており、また光軸方向の
長さが互いに等しくなっているが、電気光学材料21の
光学軸と電気光学材料22の光学軸とが互いに直交する
ように配置されている。
電気光学材料21の外周部と電気光学材料22の外周部
の一部とには、導電性電極23が設けられており、電気
光学材料22の先端部には金属薄膜あるいは誘電体多R
膜の反射鏡24が被着されている。また、導電性電極2
3は接地電位に保持されている。これにより、電気光学
材料21内には電界が存在していないので、電気光学材
料21の屈折率は、被測定物の所定部分の電圧によって
は変化しないようになっている。従って、電気光学材料
21内を進む光ビームの偏光状態は、電気光学材料21
の自然複屈折による位相差によってのみ変化する。
一方、電気光学材料22は、被測定物の所定部分の電圧
により反射鏡24に誘導される電位と、導電性電極23
の接地電位との電位差により屈折率が変化するようにな
っている。従って電気光学材料22内を進む光ビームの
偏光状態は、被測定物の所定部分の電圧によって変化す
るとともに、自然複屈折による位相差によって変化する
なお、電気光学材料21の光学軸と電気光学材料22の
光学軸とは、前述のように互いに直交しいるので、電気
光学材料21における光ビームの偏光状態の自然複屈折
に基づく変化と電気光学材料22における光ビームの偏
光状態の自然複屈折に基づく変化とは、互いに反対の向
きになる。
このような構成の電圧検出装置1では、偏光子54から
出力される所定の偏光成分の光ビームは、ビームスプリ
ッタ56を介して電気光学材料21に入射光として入射
する。電気光学材料21に入射した入射光は、その偏光
状態が電気光学材料21の自然複屈折による位相差によ
り変化して電気光学材料21から電気光学材料22に入
射する。
ところで電気光学材料21と電気光学材料22との光軸
方向の長さは、前述のように互いに等しいので、電気光
学材料22に入射しな入射光はその偏光状態が電気光学
材料22の自然複屈折による位相差により電気光学材料
21内とは反対の方向に変化するとともに、反射鏡24
の電位に基づく屈折率の変化により偏光状態が変化する
。従って、入射光が反射鏡24に達した時点で、入射光
の偏光状態は、被測定物の所定部分の電圧に基づく電気
光学材料22の屈折率変化に対応して変化しており、自
然複屈折による位相差の影響は取除かれる。
また入射光が反射鏡24で反射され出射光として電気光
学材料22.電気光学材料21を戻るときにも、全く同
様にして、自然複屈折による位相差に基づく偏光状態の
変化は相殺され、出射光の偏光状態は、被測定物の電圧
に基づく電気光学材料22の屈折率変化に対応してさら
に変化する。
従って、検光子57に入射する出射光の偏光状態は、ビ
ームスプリッタ56で分割される入射光の偏光状態から
変化しており、この変化には電気光学材料の自然複屈折
による位相差による効果は何ら含まれていない。
このように、第1の実施例では、被測定物の所定部分の
電圧の影響を受ける電気光学材料22の他に、これと全
く同じ材料で形成された光軸方向に同じ長さの電気光学
材料21をその光学軸が電気光学材料22の光学軸と直
交するように配置し、さらに電気光学材料21内に電界
が存在しないようにすることで、これら電気光学材料2
1.22の自然複屈折による位相差に基づく光ビームの
偏光状態の変化を互いに相殺することができて、検光子
57に入射する出射光の偏光状態を電気光学材料22に
加わる電圧だけに依存した量だけ入射光の偏光状態に対
し変化させることができる。
これにより、第8図に示す電圧検出袋f70のように電
圧検出開始時に位相補償器16を調節するという煩雑な
操作を何ら必要とせず、また環境の温度が変化した場合
でも電気光学材料21と電気光学材料22との自然複屈
折による位相差は全く同じ変化をするので、自然複屈折
による位相差に基づく偏光状態の変化を常に相殺するこ
とができる。
第2図は、第1図の電圧検出袋w1の変形例を示してい
る。
第2図の電圧検出装置30では、光プローブ31内に、
2つの電気光学材料22.32とλ/2板34とが配置
されている。電気光学材料32は、第1図の電圧検出袋
W1における電気光学材料21と同様の材料(光学的−
軸性結晶)で形成されており、また光軸方向の長さが互
いに等しくなっているが、電気光学材料32は電気光学
材料22に対して光学軸が互いに平行となるよう配置さ
れている。λ/2板34は、電気光学材料32と電気光
学材料22との間に設けられており、電気光学材料32
からの入射光の偏光状態を位相差πだけ変化させて電気
光学材料22に入射させる一方、電気光学材料22から
の出射光の偏光状態を位相差πだけ変化させて電気光学
材料32に入射させるようになっている。すなわち、第
2図の電圧検出装置30では、電気光学材料32と電気
光学材料22の光学軸を互いに直交させるかわりに、λ
/2板34を設けたものである。
なお、電気光学材料32.λ/2板34の外周部と電気
光学材料22の外周部の一部とには、導電性電極35が
設けられている。第1図の電圧検出装置1と同様に、導
電性電極35は接地電位に保持され、電気光学材料32
内には電界が存在していない。
このような構成の電圧検出装置30では、電気光学材料
32に入射した入射光は、その偏光状態が電気光学材料
32の自然複屈折による位相差により変化して電気光学
材料32からλ/2板34に入射し、λ/2板34で偏
光状態が位相差πだけ変化して電気光学材料22に入射
する。λ/2板34で偏光状態を位相差πだけ変化させ
て電気光学材料22に入射させるので、電気光学材料2
2に入射した入射光はその偏光状態が電気光学材料22
の自然複屈折による位相差により電気光学材料32内と
は反対の方向に変化し、さらに被測定物の電圧に基づく
屈折率の変化により偏光状態が変化する。従って、入射
光が反射鏡24に達した時点で、入射光の偏光状態は、
被測定物の電圧に基づく電気光学材料22の屈折率変化
に対応して変化しており、自然複屈折による位相差の影
響は取除かれる。
また入射光が反射鏡24で反射され出射光として電気光
学材料22.電気光学材料32を戻るときにも、全く同
様にして、自然複屈折による位相差に基づく偏光状態の
変化は相殺され、出射光の偏光状態は被測定物の電圧に
基づく電気光学材料22の屈折率変化に対応してさらに
変化する。従って、検光子57に入射する出射光の偏光
状態は、入射光の偏光状態に対して変化しており、この
偏光状態の変化には電気光学材料の自然複屈折による位
相差による効果は何ら含まれていない。
このように、第2図の電圧検出装置30では、光学軸が
同じ方向に配置された電気光学材料32゜22の間に、
偏光状態を位相差πだけ変化させるλ/2板34を設け
ているので第1図の電圧検出装置1と同様、電気光学材
料32.22の自然複屈折による位相差に基づく光ビー
ムの偏光状態の変化を互いに相殺することができて、検
光子57に入射する出射光の偏光状態を電気光学材料2
2に加わる電圧だけに依存して参照光の偏光状態に対し
変化させることができる。
これにより、何らの操作をも必要とすることなく、また
環境の温度が変化した場合でも複屈折による位相差の影
響を常に相殺することができて、被測定物の所定部分の
電圧を精度良く検出することができる。
第3図は、本発明に係る電圧検出装置の第2の実施例の
部分構成図である。
第3図の電圧検出装置37では、光プローブ38内に、
第1図の電圧検出装置1と同様にして光軸方向の長さが
互いに等しく光学軸を直交させた配置の2つの電気光学
材料21.22が設けられており、さらに2つの電気光
学材料21.22の間には透明電極40が設けられ、電
気光字材料21の透明電極40か設けられている側とは
反対の側には透明電極41が設けられている。
透明電極40.41は、電気光学材料21゜22への入
射光、および電気光字材料22.21からの出射光を透
過させるようになっており、使用に際し、透明型11i
40は接地電位に保持され、透明電極41には可変電圧
V、が加わるようになっている。すなわち、電気光学材
料22は被測定物の電圧と透明?を極40の接地電位と
の電位差により、屈折率が変化し、電気光学材料21は
透明電極41に加わる可変電圧■8と透明を極40の接
地電位との電位差により屈折率が変化するようになって
いる。なお、透明電極40は、反射鏡24と平行に配置
されており、被測定物から反射gA24を介しての電気
力線が電気光学材料22内で電気光学材料22の中心軸
線と平行となるようにしている。これにより、電気光学
材料22内の全ての位置で屈折率変化を均一なものとし
ている。
同様にして、透明型&41も透明電極40と平行に配置
されているので、電気光学材料21内での電気力線は電
気光学材料21の中心軸線と平行になり、これにより、
電気光学材料21内の全ての位置で屈折率変化を均一な
ものとしている。
このような構成の電圧検出装置37では、第1図の電圧
検出装置1と同様に電気光学材料21の長さを電気光学
材料22の長さと同じにし、また電気光学材料22と電
気光学材料21との光学軸を互いに直交させているので
、環境温度が変化しても自然複屈折による位相差を常に
相殺することができる。また、透明電極41に所定の電
圧v8を加え、電気光学材料21に所定の屈折率変化を
生じさせておくことにより、動作点を第7図に示す動作
点P1から動作点P2に移行させ、電気光学材料22か
らの出射光の偏光状態から直流成分を取除くことができ
る。さらに温度が変化するとそれに伴なって動作点P2
における出射光強度が変動するが、温度変化に追従し電
圧V、を自動的に変化させて、動作点P2を少しずらす
ことにより、環境温度の変化による出射光強度の変動を
補償している。すなわち、電圧v6を温度変化に伴ない
自動的に変化させ電気光学材料21の屈折率を変化させ
ることにより、出射光強度が温度により変動しないよう
にしている。
このように第2の実施例によれば、電気光学材料21は
自然複屈折による位相差を常に相殺することができると
同時に、透明電極41に可変電圧v8を印加することに
より、出射光強度から直流成分が取除かれるよう動作点
を設定し、さらに直流成分の取除かれた出射光強度が温
度変化によって変動しないよう常に補償することができ
る。
第4図は第3図の電圧検出装置37のより具体的な実施
例の全体構成図である。
第4図において、比較回路61からの電気信号出力は、
動作点設定回路71に加わるようになっている。動作点
設定回路71では、温度変化によって比較回路61から
の電気信号出力が変化すると、その変化を検出し、バイ
アス電圧発生回路72においてその変化を打消すような
電圧を透明電極41に印加する。また、出射光強度に直
流成分が重畳している場合、動作点を設定し直すために
、バイアス電圧発生回路72において直流成分を除去す
るような電圧を透明電極41に印加する。
このような帰還制御によって、直流成分の取除かれかつ
温度変化により変動しない出射光強度を得ることができ
る。
第5図は第3図、第4図に示す電圧検出装置37の変形
例である。
この変形例では、第3図、第4図の截頭円錐形状の電気
光学材料22のかわりに、電気光学材料21と同じ円筒
形状の電気光学材料44が用いられ、電気光学材料44
の先端には金属薄膜あるいは誘電体多層膜の反射鏡45
が形成されている。
このような構成では、入射光は、全て反射鏡45により
反射されるので、出射光強度を入射光強度とほぼ同じ強
度にすることができる。なお・第5図に示すように入射
光と出射光との光路を異なるものとし、ビームスプリッ
タを用いずども出射光を取出せるようにしても良い。
なお、第3図乃至第5図において第1図と同様に2つの
電気光学材料をこれらの光学軸が互いに直交するように
配置したが、第2図のようにλ/2板をさらに介在させ
て2の電気光学材料の光学軸を互いに平行に配置しても
良い。
また上述した実施例において光プローブ2゜31.38
.43はこれらの内壁に入射する光ビームの散乱を防止
するため黒塗りされているのが良い。
〔発明の効果〕
以上に説明したように、本発明によれば、被測定物の所
定部分の電圧の影響を受ける第1の電気光学材料の他に
自然複屈折による位相差補償用の第2の電気光学材料を
設けているので、位相差を補償するのに何らの操作をも
必要とすることなく、また環境の温度が変化した場合で
も常に位相差を補償して被測定物の電圧を精度良く測定
することができる。さらに、第1の電気光学材料と第2
の電気光学材料との間に第1の透明電極を設け、第2の
電気光学材料の第1の透明電極が設けられている側とは
反対側に第2の透明電極を設け、第2の透明電極に例え
ば可変電圧を印加することで、出射光強度から直流成分
を取除き、さらに直流成分の取除かれた出射光強度が温
度変化によって変動しないよう補償し、被測定物の電圧
を高精度かつ高感度に検出することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る電圧検出装置の第1の実施例の構
成図、第2図は第1図の電圧検出装置の変形例の部分構
成図、第3図は本発明に係る電圧検出装置の第2の実施
例の部分構成図、第4図は第3図の電圧検出装置のより
具体的な実施例の全体構成図、第5図は第3図および第
4図の電圧検出装置の変形例の部分構成図、第6図は従
来の電圧検出装置の構成図、第7図は出射光強度の電圧
依存性を説明するための図、第8図は位相補償板を用い
た電圧検出装置の構成図である。 1.30,37.42・・・電圧検出装置、2.31,
38.43・・・光プローブ、21.22.32.44
・・・電気光学材料、34・・・λ/2板、40.41
・・・透明電極、PL、P2・・・動作点 特許出願人   浜松ホトニクス株式会社代理人  弁
理士  植 本 雅 治 第2図 第3図 第5図 第7図 第8図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)被測定物の所定部分の電圧の影響を受ける第1の電
    気光学材料と、該第1の電気光学材料の自然複屈折によ
    る位相差を補償するように配置されている第2の電気光
    学材料とを備え、前記第2の電気光学材料は、前記第1
    の電気光学材料と同じ材料で形成されかつ前記第1の電
    気光学材料と光軸方向に同じ長さをもち光軸に沿つて整
    列されていることを特徴とする電圧検出装置。 2)前記第2の電気光学材料は、その光学軸が前記第1
    の電気光学材料の光学軸と直交するように配置されてい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の電圧
    検出装置。 3)前記第2の電気光学材料は、その光学軸が前記第1
    の電気光学材料の光学軸と平行となるように配置され、
    前記第2の電気光学材料と前記第1の電気光学材料との
    間には光の偏光成分を90°回転させる手段が設けられ
    ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    電圧検出装置。 4)前記第2の電気光学材料は、接地電位に保持されて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の電
    圧検出装置。 5)前記第1の電気光学材料および前記第2の電気光学
    材料は光プローブ内に収容されており、該光プローブは
    黒塗りされていることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項に記載の電圧検出装置。 6)被測定物の所定部分の電圧の影響を受ける第1の電
    気光学材料と、該第1の電気光学材料の自然複屈折によ
    る位相差を補償するように配置されている第2の電気光
    学材料と、前記第1の電気光学材料と前記第2の電気光
    学材料との間に設けられた第1の透明電極と、前記第2
    の電気光学材料の前記第1の透明電極が設けられている
    側とは反対の側に設けられた第2の透明電極とを備えて
    いることを特徴とする電圧検出装置。 7)前記第1の透明電極は接地電位に保持され、前記第
    2の透明電極には、第1の電気光学材料からの出射光の
    偏光状態から直流成分を取除いた出射光が前記第2の電
    気光学材料から出力されるよう電圧が印加されることを
    特徴とする特許請求の範囲第6項に記載の電圧検出装置
    。 8)前記第1の透明電極は接地電位に保持され、前記第
    2の透明電極には、第1の電気光学材料かの出射光の偏
    光状態から直流成分を取除きかつ温度変化による第1の
    電気光学材料からの出射光の偏光状態の変化を補償した
    反射光が前記第2の電気光学材料から出力されるよう可
    変電圧が印加されることを特徴とする特許請求の範囲第
    6項に記載の電圧検出装置。 9)前記第1の透明電極と前記第2の透明電極とは、こ
    れらの面が光軸に対して垂直となるよう互いに平行に配
    置されていることを特徴とする特許請求の範囲第6項に
    記載の電圧検出装置。 10)前記第1および第2の電気光学材料と前記第1お
    よび第2の透明電極とは、光プローブ内に収容されてお
    り、該光プローブは黒塗りされていることを特徴とする
    特許請求の範囲第6項に記載の電圧検出装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0427843A (ja) * 1989-08-02 1992-01-30 Hamamatsu Photonics Kk レーザダイオードを用いた低ノイズパルス光源及びこの光源を用いた電圧検出装置
US5153667A (en) * 1989-11-30 1992-10-06 Hamamatsu Photonics K. K. Apparatus for detecting the change of light intensity
JPH0593743A (ja) * 1991-10-01 1993-04-16 Chubu Electric Power Co Inc 交流電圧検出装置
JP2013003072A (ja) * 2011-06-21 2013-01-07 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光センサ及び光センサ感度変動抑制方法

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4975635A (en) * 1987-11-05 1990-12-04 Hironori Takahashi Voltage detector using a sampling type high-speed photodetector
US5036270A (en) * 1989-08-15 1991-07-30 Victor Company Of Japan, Ltd. Apparatus for detecting electrostatic surface potential
US5434698A (en) * 1989-11-13 1995-07-18 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Potential sensor employing electrooptic crystal and potential measuring method
US5274325A (en) * 1991-03-18 1993-12-28 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Method and apparatus for electro-optic sampling measurement of electrical signals in integrated circuits
EP0541139B1 (en) * 1991-08-05 2003-01-22 Koninklijke Philips Electronics N.V. Electro-optic measurement device for the measurement of an electrical signal in an electronic component
DE4202185A1 (de) * 1992-01-28 1993-07-29 Hilti Ag Verfahren zur faseroptischen kraftmessung
JP2802868B2 (ja) * 1992-12-22 1998-09-24 大日本スクリーン製造株式会社 半導体ウエハの非接触電気測定用センサおよびその製造方法、並びに、そのセンサを用いた測定方法
US6081499A (en) * 1997-05-05 2000-06-27 Seagate Technology, Inc. Magneto-optical data storage system having an optical-processing flying head
US5940549A (en) * 1996-07-30 1999-08-17 Seagate Technology, Incorporated Optical system and method using optical fibers for storage and retrieval of information
US6850475B1 (en) 1996-07-30 2005-02-01 Seagate Technology, Llc Single frequency laser source for optical data storage system
US6034938A (en) * 1996-07-30 2000-03-07 Seagate Technology, Inc. Data storage system having an optical processing flying head
US5850375A (en) * 1996-07-30 1998-12-15 Seagate Technology, Inc. System and method using optical fibers in a data storage and retrieval system
DE19634251A1 (de) * 1996-08-26 1998-03-05 Abb Patent Gmbh Spannungswandler
KR100381937B1 (ko) 1998-03-30 2003-04-26 시게이트 테크놀로지 엘엘씨 스퓨리어스 반사로 인한 잡음을 감소시키기 위한 수단을가지는 광학 데이터 저장 시스템
US6298027B1 (en) 1998-03-30 2001-10-02 Seagate Technology Llc Low-birefringence optical fiber for use in an optical data storage system
US6574015B1 (en) 1998-05-19 2003-06-03 Seagate Technology Llc Optical depolarizer
US6859467B2 (en) * 2001-05-03 2005-02-22 The Regents Of The University Of California Electro-optic modulator material
US6894519B2 (en) * 2002-04-11 2005-05-17 Solid State Measurements, Inc. Apparatus and method for determining electrical properties of a semiconductor wafer
US9121872B2 (en) * 2011-09-26 2015-09-01 Beijing Aerospace Times Optical-Electronic Technology Co. Ltd. Electro-optic effect based optical voltage transformer
EP3271734B1 (en) * 2015-03-19 2019-10-23 ABB Schweiz AG Assembly of gas-tight compartment and optical voltage sensor
US10234501B2 (en) * 2016-02-26 2019-03-19 Tektronix, Inc. Active noise suppression for optical voltage sensor
JP6989852B2 (ja) * 2019-01-22 2022-02-03 横河電機株式会社 電界センサ

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57168167A (en) * 1981-04-10 1982-10-16 Meidensha Electric Mfg Co Ltd Electric field/voltage detector
JPS58137768A (ja) * 1982-02-09 1983-08-16 Mitsubishi Electric Corp 光電圧電界センサ
JPS58120974U (ja) * 1982-02-10 1983-08-17 三菱電機株式会社 光電圧電界検出装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5155273A (en) * 1974-11-09 1976-05-14 Eto Goro Hikarihenseigatakendenki
US4446425A (en) * 1982-02-12 1984-05-01 The University Of Rochester Measurement of electrical signals with picosecond resolution
JPS5918923A (ja) * 1982-07-23 1984-01-31 Toshiba Corp 複屈折測定装置
US4603293A (en) * 1984-03-27 1986-07-29 University Of Rochester Measurement of electrical signals with subpicosecond resolution
US4618819A (en) * 1984-03-27 1986-10-21 The University Of Rochester Measurement of electrical signals with subpicosecond resolution
EP0197196A1 (en) * 1985-03-08 1986-10-15 The University Of Rochester Electro-electron optical oscilloscope system for time-resolving picosecond electrical waveforms

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57168167A (en) * 1981-04-10 1982-10-16 Meidensha Electric Mfg Co Ltd Electric field/voltage detector
JPS58137768A (ja) * 1982-02-09 1983-08-16 Mitsubishi Electric Corp 光電圧電界センサ
JPS58120974U (ja) * 1982-02-10 1983-08-17 三菱電機株式会社 光電圧電界検出装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0427843A (ja) * 1989-08-02 1992-01-30 Hamamatsu Photonics Kk レーザダイオードを用いた低ノイズパルス光源及びこの光源を用いた電圧検出装置
US5153667A (en) * 1989-11-30 1992-10-06 Hamamatsu Photonics K. K. Apparatus for detecting the change of light intensity
JPH0593743A (ja) * 1991-10-01 1993-04-16 Chubu Electric Power Co Inc 交流電圧検出装置
JP2013003072A (ja) * 2011-06-21 2013-01-07 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光センサ及び光センサ感度変動抑制方法

Also Published As

Publication number Publication date
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