JPS63299233A

JPS63299233A - 処理装置

Info

Publication number: JPS63299233A
Application number: JP13404487A
Authority: JP
Inventors: Toshiharu Kinami; 木浪　俊治
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1987-05-29
Filing date: 1987-05-29
Publication date: 1988-12-06

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、半導体、フォトマスクの現像、エツチング、
洗浄等に用いて好適な処理装置に関するものである。

〔従来の技術〕

従来、この種の処理装置としては第３図に示すスプレィ
プロセス装置が知られている。すなわち、このスゲレイ
プロセス装置１は、現像液等の処理液２を収容する容器
３と、被処理物４が設置される試料台５を備えた処理室
６と、前記容器３よシ配管Ｔを通って送られてくる処理
液２を前記被処理物４に向けて霧状に噴出する吐出手段
としてのノズルＳと、配管７の途中に設けられたポンプ
９、流量調整パルプ１０人、ＩＯＢ、フィルタ１１およ
びストップパルプ１２等で概ね構成されている。試料台
５社被処理物４の処理中において、図示を省略し九モー
タ等の駆動源によって定速回転される。

ノズル８よシ被処理物４に向けて噴出された霧状の処理
液および反応生成物（例ニレジストと現像液との反応に
よるもの）は処理室６外部への飛散を防止され、排出口
１３よシ排出される。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、この□ような従来のスプレィプロセス装
置１においては、被処理瞼４の処理に際して、ノズル８
から噴出された霧状の処理液および反応生成物がノズル
８に付着すると、次の処理の際、その付着物がノズル８
から噴出され九処理液内に混入して処理に悪影餐を及ぼ
すという欠点があった。ちなみに現像装置においては欠
陥と呼ばれる微小な現像むらを生じさせる原因となる。

また、ノズル８の汚染は処理回数が多くなるにしたがっ
て著しくなシ、しかも多くの場合処理間隔があくと、ノ
ズル８が乾燥し、パーティクル量（異物粒子量）が−気
に増大する。これは乾燥が進むと、ノズル先端に付着し
た処理液が固形化してノズル８に堆積し、同時に前記し
た反応生成物等もノズル８に堆積するためである。

また、処理間隔が長くおいて、処理液が配管Ｔ内に長く
停滞すると、配管内処理液ＯｐＨ値が変化して塩を形成
する現象が起シ、この塩は配管内壁に付着してパーティ
クル源となる。

そこで、このような問題を回避するためＫは処理間隔を
短かくするか、やむを得ず処理間隔が長くなる場合はそ
の間処理液出しく処理液ランニング）を行う必要があっ
た。

しかし、処理液出しは処理液２を処理室６に無駄に廃棄
するものであるため、処理液２が高価なもの（例：現像
液）のときは、不経済で、生産コストを著しく高めると
いう欠点を有している。

したがって、本発明では上述したような欠点を解決し、
ノズルよシ処理液を収容する容器に対して処理液ランニ
ングを行うことによシ、処理液の消費量を最少限に留め
、ノズル、配管内での処理液の停滞、乾燥ならびに塩等
の生成、堆積を防止し得る処理装置を提供しようとする
ものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は上記目的を達成するために、処理液を収容する
容器に処理液回収部を設け、容器から送られてくる処理
液を吐出する吐出手段を回動手段によって回動させるこ
とによシ、前記処理液を被処理物に対して吐出する第１
の吐出位置または前記処理液回収部に対して吐出する第
２の吐出位置に選択的に設定保持するように構成したも
のである。

〔作用〕

本発明においては吐出手段を第２の吐出位置に設定する
ことによシ、容器の処理液回収部に対して処理液ランニ
ングを行うことができる。

〔実施例〕

以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。

第１図は本発明をスプレィプロセス装置に適用した場合
の一実施例を示す概略構成図、第２図は平面図である。

なお、図中第３図と同一構成部品。

部分に対しては同一符号を以って示し、その説明を省略
する。これらの図において、２０は容器３の１闇中央に
突設された筒状の処理液回収部で、この回収部２０と処
理室６との中間位置に、スイングアーム２１を保持する
支持具２２が立設配置されている。スイングアーム２１
は略コ字状に折曲形成され九パイプからなシ、その一端
部２１ｍが前記支持具２２によシ保持されると共に配管
７の先端に接続され、他端部２１ｂの先端には吐出手段
としてのノズル８が取付けられている。そして、前記配
管７の先端部分、すなわちフィルタ１１からスイングア
ーム２１の一端部２１凰までの配管部分子＆は可撓性を
有し、かつ上方に伸長し得るようたるみを付与されてい
る。

前記支持具２２は、回動手段としてのモータ２４によシ
所定角度（１８０’）回動され、これによシ前記スイン
グアーム２１を、前記ノズル８が被処理物４に対して処
理液を噴出する第１の吐出位置（第１図実線位置）また
は前記ノズル８が前記処理液回収部２０に対して処理液
を噴出する第２の吐出位置（第１図工点鎖線位置）に選
択的に設定保持するようにしている。また、支持具２２
はエアシリンダ２５によって上下動されるように構成さ
れている。これはノズル８を処理室６および処理液回収
部２０内に挿入したシ、引出したシするためのものであ
る。２６はノズル８を定期的もしくは不定期に洗浄する
ノズル洗浄槽で、この洗浄槽２６は超音波発生器２Ｔを
備え、前記スイングアーム２１の回動範囲内で前記容器
３の近傍に設置されている。そして、ノズル８の洗浄に
際して、スイングアーム２１は第２図一点鎖線で示す洗
浄位置に設定保持される。

なお、２８は制御装置で、これによシ試料台５を回転さ
せる不図示のモータ、ポンプ９、ストップパルプ１２、
モータ２４、エアシリンダ２５、超音波発生器２７等が
駆動制御される。

その他の構成は第３図に示した従来装置と同様である。

このような構成からなるスプレィプロセス装置において
、被処理物４の処理は、従来装置と同様、第１図に示す
ようにノズル８を処理室６に挿入し、容器３から配管７
およびスイングアーム２１を通って送られてくる処理液
２を被処理物４に向けて霧状に一定時間噴出するととく
よシ行われる。

被処理物４の処理が終了すると、スイングアーム２１は
必要に応じて第２図一点鎖線で示すノズル洗浄位置に移
動し、ここでノズル８の超音波洗浄を行う。このノズル
洗浄は、エアシリンダ２５でスイングアーム２１を所定
距離だけ上昇させてノズル８を処理室６よシ抜き出した
後、モータ２４の駆動によシ支持具２２を第２図時計方
向に所定角度回動させてノズル８をノズル洗浄槽２６の
上方に位置させ、しかる後エアシリンダ２５によシスイ
ングアーム２１を所定距離だけ下降させてノズル８を洗
浄槽２６の洗浄液に浸漬することで可能とされる。そし
て、ノズル洗浄が終了すると、スイングアーム２１を第
１図および第２図工点鎖線で示す第２の吐出位置に移動
させ、次の被処理物の処理開始まで、処理液回収部２０
に対して処理液ランニングを行い、配管７、スイングア
ーム２１、ノズル８内での処理液２の停滞、乾燥、ｐＨ
値の変化、塩の形成、管内壁への付着等を防止する。こ
の時、容器３内の処理液２は容器３．配管７、スイング
アーム２１および処理液回収部２０によって形成された
閉ループ中を循環するため、無駄に廃棄されることがな
く、処理液ランニングを経済的に行うことができる。そ
して、次の被処理物の処理を行う場合は、スイングアー
ム２１を再び第１図実線で示す第１の吐出位置に戻す。

なお、ストップパルプ１２は、スイングアーム２１を第
１の吐出位置からノズル洗浄位置へ移動させ、ノズル８
の洗浄を行った後筒２の吐出位置に移動させ、処理液ラ
ンニングを行うまでの開閉止され、また処理液ランニン
グ後筒２の吐出位置から再び第１の吐出位置へ戻される
まで閉止される。

なお、上記実施例は処理液２を被処理物４に対して霧状
に噴出するスプレィプロセス装置に適用したが、本発明
はこれに全く特定されるものではなく、被処理物４上に
処理液シを滴下させる滴下装置（例えばレジスト塗布装
置）にもそのまま実施し得ることは勿論である。

また、上記実施例はスイングアーム２１を上下動させる
ようにしたが、ノズル８を処理室６と処理液回収部２０
の上面開口部に臨ませるだけで、　　−その中に挿入し
ない場合は上下動させる必要がない。

さらに、上記実施例はノズル洗浄槽２６を設けた例を示
したが、省略してもよく、定期的もしくは不定期にノズ
ル８をスイングアーム２１から取シ外し、洗浄液にて洗
浄するようにしてもよい。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明に係る処理装置は、吐出手段
を回動手段によって回動させることによシ、該吐出手段
を、被処理物に対して処理液を吐出する第１の吐出位置
または容器に設けた処理液回収部に対して処理液を吐出
する第２の吐出位置に選択的に設定保持するように構成
したので、処理液を一滴も無駄に廃棄することなく処理
液２ンニングを行うことができ、経済的効果が頻る大で
あるばかシか処理液の停滞がないため配管、吐出手段等
の内部での処理液の乾燥、ｐＨ値の変化、塩等の析出、
付着等を効果的に防止でき、被処理物の処理精度を向上
させる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明をスプレィプロセス装置に実施した場合
の一実施例を示す概略構成図、第２図は同装置の平面図
、第３図はスプレィプロセス装置の従来例を示す概略構
成図である。２・・・・処理液、３・・・・容器、４・・・・被処理
物、５・・・・試料台、６・・・・処理室、７・・・・
配ｆ、８・・−・ノズル、１２・・・・ストップパルプ
、２０・・・・処理液回収部、２１・・・・スインファ
ーム、２２・・・・支持具、２４・・・・モータ、２５
・・・・エアシリンダ、２６・・・・ノズル洗浄槽。

Claims

【特許請求の範囲】

処理液回収部を有して処理液を収容する容器と、被処理
物が設置される処理室と、前記容器から送られてくる前
記処理液を吐出する吐出手段とを備え、この吐出手段は
回動手段によつて回動されることにより、前記処理液を
前記被処理物に対して吐出する第１の吐出位置または前
記処理液回収部に対して吐出する第２の吐出位置に選択
的に設定保持されることを特徴とする処理装置。