JPS63289825A - 半導体製造装置 - Google Patents
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- JPS63289825A JPS63289825A JP62126653A JP12665387A JPS63289825A JP S63289825 A JPS63289825 A JP S63289825A JP 62126653 A JP62126653 A JP 62126653A JP 12665387 A JP12665387 A JP 12665387A JP S63289825 A JPS63289825 A JP S63289825A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上のネ11用分野〕
この発明は、半導体の製造装置、特に供給する金線のた
るみ防止に関するものである。
るみ防止に関するものである。
従来の半導体製造装置としては、その要部を斜視図で示
す第2図のようなものが用いうわている。
す第2図のようなものが用いうわている。
図において、1は、金線スプール2を具備した自動金線
供給機、3は、金線Kにバックテンシコンを加えるため
のエアAを吐出するエアテンショナ、4はタッチセンサ
、20.20は、金線Kを保持案内する金線ガイド、5
は、金線にのワイヤリングを調整する第2クランパ、6
は、同じく第1クランパ、7は、金線にを貫通保持する
キャピラリ8を装備する超音波ホーン、9は、電気トー
チ、Lは、リードフレーム、Hは、半導体素子である。
供給機、3は、金線Kにバックテンシコンを加えるため
のエアAを吐出するエアテンショナ、4はタッチセンサ
、20.20は、金線Kを保持案内する金線ガイド、5
は、金線にのワイヤリングを調整する第2クランパ、6
は、同じく第1クランパ、7は、金線にを貫通保持する
キャピラリ8を装備する超音波ホーン、9は、電気トー
チ、Lは、リードフレーム、Hは、半導体素子である。
叙上の構成となっているので、その動作について述べる
と、半導体素子HからリードフレームLに、ワイヤリン
グを行う動作において、金線には金線スプール2から必
要量なげ自動金線供給機1によフて供給される。このと
き金線Kには、エアテンショナ3から吐出されるエアA
により、常にバックテンションが加えられており、こわ
によって金線にのたるみの発生が防止されている。
と、半導体素子HからリードフレームLに、ワイヤリン
グを行う動作において、金線には金線スプール2から必
要量なげ自動金線供給機1によフて供給される。このと
き金線Kには、エアテンショナ3から吐出されるエアA
により、常にバックテンションが加えられており、こわ
によって金線にのたるみの発生が防止されている。
また、タッチセンサ4から第2クランパ5までの間は、
金線ガイド20.20により金線には保持案内されてい
る。
金線ガイド20.20により金線には保持案内されてい
る。
(発明が解決しようとする問題点)
従来の半導体製造装置は以上のように構成されているの
で、金線に十分なバックテンションがかからないばかり
か、バックテンションを加えている場所から第2クラン
パまでの距離が長く、かつ、金線ガイド等が存在するた
め、第2クランパよりも上方においてループのたるみや
金線ガイドへの引っ掛かりが発生し、これが、ワイヤボ
ンド時のルーピング不良を引き起こす主原因となってい
た。
で、金線に十分なバックテンションがかからないばかり
か、バックテンションを加えている場所から第2クラン
パまでの距離が長く、かつ、金線ガイド等が存在するた
め、第2クランパよりも上方においてループのたるみや
金線ガイドへの引っ掛かりが発生し、これが、ワイヤボ
ンド時のルーピング不良を引き起こす主原因となってい
た。
この発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、金線
に十分なバックテンションを加えることができるととも
に、第2クランパの直上において金線のたるみや引フ掛
かつか発生しない製造装置を得ることを目的とする。
に十分なバックテンションを加えることができるととも
に、第2クランパの直上において金線のたるみや引フ掛
かつか発生しない製造装置を得ることを目的とする。
この発明に係る半導体製造装置、ワイヤリングする際の
金線に第2クランパの直−ヒでバックテンションを加え
る手段を設けた構成としたものである。
金線に第2クランパの直−ヒでバックテンションを加え
る手段を設けた構成としたものである。
(作用)
この発明の半導体製造装置は、ワイヤボンド時に第2ク
ランプから金線を上方へ付勢している状態を保持するた
め、ワイヤリング不良の原因となる第2クランパからテ
ンション付加手段までの金線にたるみや引っ掛かりを生
ずることがない。
ランプから金線を上方へ付勢している状態を保持するた
め、ワイヤリング不良の原因となる第2クランパからテ
ンション付加手段までの金線にたるみや引っ掛かりを生
ずることがない。
以下、本発明の一実施例を第1図に基づいて説明する。
なお、従来例と同一の部材等は同一の符号を用い、その
説明は省略する。
説明は省略する。
本−実施例は、その要部を斜視図で示す第1図に見られ
るように、特徴とするところは、第2図に示した従来例
の金線ガイド20.20を廃し、第2クランパ7の直上
に、バックテンション付加手段として、市販の真空ガイ
ド(アダマンド工業株式会社製)10を設置し、その貫
通孔10aを通ワて金線Kを第2クランパ7の方へ導く
ようにしたことである。
るように、特徴とするところは、第2図に示した従来例
の金線ガイド20.20を廃し、第2クランパ7の直上
に、バックテンション付加手段として、市販の真空ガイ
ド(アダマンド工業株式会社製)10を設置し、その貫
通孔10aを通ワて金線Kを第2クランパ7の方へ導く
ようにしたことである。
次に、作用について述べる。
自動金線供給機1から送り出された金fiKは、タッチ
センサ4上方を通り真空ガイド10へ導かれるが、この
ときエアテンショナ3から吹き出されるエアAによ、っ
て下方へ押されているので、金線にの風圧を受けた部分
がたるんで前記タッチセンサ4に接触すると、その信号
を受けた前記供給機lは金線にの送出しを停止する。続
いて第2クランパ5により金線Kが引き下げられ、前述
のたるみ部分が浮き上ると、再び供給機1から金線にが
供給され、以上の動作が繰り返される。
センサ4上方を通り真空ガイド10へ導かれるが、この
ときエアテンショナ3から吹き出されるエアAによ、っ
て下方へ押されているので、金線にの風圧を受けた部分
がたるんで前記タッチセンサ4に接触すると、その信号
を受けた前記供給機lは金線にの送出しを停止する。続
いて第2クランパ5により金線Kが引き下げられ、前述
のたるみ部分が浮き上ると、再び供給機1から金線にが
供給され、以上の動作が繰り返される。
そして、第2クランパ7と第1クランパ8とは、共に上
昇下降を繰返しつつ、その間に交互に金線にの把持と開
放とを行うことによって該金線Kを下方へ引きFげてキ
ャピラリ8へ送り込む。
昇下降を繰返しつつ、その間に交互に金線にの把持と開
放とを行うことによって該金線Kを下方へ引きFげてキ
ャピラリ8へ送り込む。
送り込まれた金線にはキャピラリ8の下端に突出し、第
2クランパ5に把持されて上昇したとき電気トーチ9に
より金ボールが形成され、第2クランパ5とキャピラリ
8との下降により半導体素子Hに圧接される。このとき
超音波ホーン7が、その伸縮を利用して超音波振動を加
えて新生面同士の結合を促す。次いで、第2クランパ5
の開放と同時に第1クランパ6が金線にを持ち上げて開
放し、XYテーブル(不図示)が8動じてリードフレー
ムLをキャピラリ8の下に設定する。そこで該キャピラ
リ8が金線にをリードフレームしに超音波ホーン7の動
作も加えて圧着した後、電気トーチ9により金線にが金
ボールを作って切断される。モしてXYテーブルが移動
して次に半導体素子Hをキャピラリ8の下に設定する。
2クランパ5に把持されて上昇したとき電気トーチ9に
より金ボールが形成され、第2クランパ5とキャピラリ
8との下降により半導体素子Hに圧接される。このとき
超音波ホーン7が、その伸縮を利用して超音波振動を加
えて新生面同士の結合を促す。次いで、第2クランパ5
の開放と同時に第1クランパ6が金線にを持ち上げて開
放し、XYテーブル(不図示)が8動じてリードフレー
ムLをキャピラリ8の下に設定する。そこで該キャピラ
リ8が金線にをリードフレームしに超音波ホーン7の動
作も加えて圧着した後、電気トーチ9により金線にが金
ボールを作って切断される。モしてXYテーブルが移動
して次に半導体素子Hをキャピラリ8の下に設定する。
上記の動作中、真空ガイド10の貫通孔10a内では、
吸気口10sから吸気されることにより矢印M方向へ張
力が発生しており、常に金線にに対し該張力が作用して
いるため、ワイヤリング時のルーピング不良の原因とな
る第2クランパ5上品の金線にのたるみや引っ掛かりは
、全く発生しない。また、真空カイト10から上部に金
fiKのたるみがいくら存在しても、ワイヤリング時の
ルーピング特性に影響することは全くない。
吸気口10sから吸気されることにより矢印M方向へ張
力が発生しており、常に金線にに対し該張力が作用して
いるため、ワイヤリング時のルーピング不良の原因とな
る第2クランパ5上品の金線にのたるみや引っ掛かりは
、全く発生しない。また、真空カイト10から上部に金
fiKのたるみがいくら存在しても、ワイヤリング時の
ルーピング特性に影響することは全くない。
なお、面記張力は、吸気圧力を圧力計等を用いて制御す
ることにより、自在に変換可能である。
ることにより、自在に変換可能である。
以上説明したように本発明は、第2クランパの直上に真
空ガイドを設置する構成としたため、該真空ガイドを通
過した先の金線部分に常にバックテンションを加えてい
るので、第2クランパ上部の金線のたるみや引っ掛かり
の発生を阻止し、したがってワイヤポンディング時のル
ーピング不良が根絶され、高品質の製品が得られるとい
う効果がある。
空ガイドを設置する構成としたため、該真空ガイドを通
過した先の金線部分に常にバックテンションを加えてい
るので、第2クランパ上部の金線のたるみや引っ掛かり
の発生を阻止し、したがってワイヤポンディング時のル
ーピング不良が根絶され、高品質の製品が得られるとい
う効果がある。
第1図は、本発明の一実施例の要部を示す斜視図、第2
図は、従来例の第1図相当図である。 5−−−−−−第2クランプ 10・・・・・・真空ガイド K・・・・・・金線 H・−−−−・半導体素子 し・−・・・リードフレーム
図は、従来例の第1図相当図である。 5−−−−−−第2クランプ 10・・・・・・真空ガイド K・・・・・・金線 H・−−−−・半導体素子 し・−・・・リードフレーム
Claims (1)
- 半導体素子とリードフレームとを電気的に接続するワイ
ヤボンド工程において、半導体素子からリードフレーム
へとワイヤリングする際の金線に、バックテンションを
加える手段を第2クランパの直上に設けたことを特徴と
する半導体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62126653A JPS63289825A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62126653A JPS63289825A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | 半導体製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63289825A true JPS63289825A (ja) | 1988-11-28 |
Family
ID=14940539
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62126653A Pending JPS63289825A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63289825A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5031821A (en) * | 1988-08-19 | 1991-07-16 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device, method for producing or assembling same, and producing or assembling apparatus for use in the method |
US5037023A (en) * | 1988-11-28 | 1991-08-06 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for wire bonding |
-
1987
- 1987-05-21 JP JP62126653A patent/JPS63289825A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5031821A (en) * | 1988-08-19 | 1991-07-16 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device, method for producing or assembling same, and producing or assembling apparatus for use in the method |
US5037023A (en) * | 1988-11-28 | 1991-08-06 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for wire bonding |
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