JPS63285724A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はビデオテープ、オーディオテープ、コンピュー
ターテープ等の磁気記録媒体の製造方法に関するもので
ある。
ターテープ等の磁気記録媒体の製造方法に関するもので
ある。
現在、一般に広く使用されている磁気記録媒体は、結合
剤として塩酢ビ系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹脂、
セルロース系樹脂、アセタール樹脂、ウレタン樹脂、ア
クリロニトリルブタジェン樹脂などの熱可塑性樹脂を単
独あるいは混合して用いる方法があるが、この方法では
、磁性層の耐摩耗性が劣り磁気テーレの走行経路を汚し
てしまうと言う欠点を有していた。
剤として塩酢ビ系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹脂、
セルロース系樹脂、アセタール樹脂、ウレタン樹脂、ア
クリロニトリルブタジェン樹脂などの熱可塑性樹脂を単
独あるいは混合して用いる方法があるが、この方法では
、磁性層の耐摩耗性が劣り磁気テーレの走行経路を汚し
てしまうと言う欠点を有していた。
又メラミン樹脂、尿素樹脂等の熱硬化性樹脂を用いる方
法或いは上記熱可塑性樹脂に化学反応による架橋性の結
合性、たとえばイソシアネート化合物、エポキシ化合物
などを添加する方法が知られている。しかし、架橋性の
結合剤を用いると、■磁性体を分散させた樹脂溶液の貯
蔵安定性が悪い。即ち、ポットライフが短いと言う欠点
を有し磁性塗液物性の均一性、ひいては、磁気テープの
均質性が保てないと言う欠点及び、■塗布乾燥後に塗膜
の硬化の為に熱処理工程が必要であり、製品化までに長
時間を要すると言う大きな欠点を有していた。
法或いは上記熱可塑性樹脂に化学反応による架橋性の結
合性、たとえばイソシアネート化合物、エポキシ化合物
などを添加する方法が知られている。しかし、架橋性の
結合剤を用いると、■磁性体を分散させた樹脂溶液の貯
蔵安定性が悪い。即ち、ポットライフが短いと言う欠点
を有し磁性塗液物性の均一性、ひいては、磁気テープの
均質性が保てないと言う欠点及び、■塗布乾燥後に塗膜
の硬化の為に熱処理工程が必要であり、製品化までに長
時間を要すると言う大きな欠点を有していた。
これらの欠点を防止する為、アクリル酸エステル系のオ
リゴマーとモノマーを結合剤として用い乾燥後に電子線
照射によって硬化せしめる磁気材料の製造方法が特公昭
≠7−/21A2J号、特開昭4c7−/J4j5’号
、特開昭47−171014号、特開昭jO−77≠3
3号、特開昭!6−2!231号等の各公報に開示され
ている。しかしながら、上記特許公報に開示された製造
方法では高度な電磁変換特性と耐久性を有する磁気記録
媒体は得られなかった。
リゴマーとモノマーを結合剤として用い乾燥後に電子線
照射によって硬化せしめる磁気材料の製造方法が特公昭
≠7−/21A2J号、特開昭4c7−/J4j5’号
、特開昭47−171014号、特開昭jO−77≠3
3号、特開昭!6−2!231号等の各公報に開示され
ている。しかしながら、上記特許公報に開示された製造
方法では高度な電磁変換特性と耐久性を有する磁気記録
媒体は得られなかった。
磁気記録媒体の磁性材料として、Fe、Ni。
Co等を主成分とする強磁性金属(または合金、以下同
様に)粉末が用いられるようになった。
様に)粉末が用いられるようになった。
一般に、この様な強磁性金属粉末(以下金属磁性粉末と
よぶ)を用いたときは、酸化物系仏性体を用いたときよ
り高密度記録に適する。しかし、金属性粉末は酸化物系
磁性体に比べ空気中で酸化され易い欠点を有している。
よぶ)を用いたときは、酸化物系仏性体を用いたときよ
り高密度記録に適する。しかし、金属性粉末は酸化物系
磁性体に比べ空気中で酸化され易い欠点を有している。
このため磁気記録媒体として用いられた時、保存中等に
金属磁性粉末が酸化され磁気記録媒体の飽和磁束密度が
低下し、出力が低下する。またビデオテープにおいては
特性向上の為磁性体の微粒子化が不可欠であるが、微粒
子化するほどこの種の金属磁性粉末は酸化され易(なり
、記録媒体での飽和磁束密度の低下も大きくなる。
金属磁性粉末が酸化され磁気記録媒体の飽和磁束密度が
低下し、出力が低下する。またビデオテープにおいては
特性向上の為磁性体の微粒子化が不可欠であるが、微粒
子化するほどこの種の金属磁性粉末は酸化され易(なり
、記録媒体での飽和磁束密度の低下も大きくなる。
この為、従来より何等かの酸化安定化処理を施した金属
磁性粉末を磁気記録媒体に用いることが試みられている
。金属磁性粉末の酸化安定化処理方法としては、有機溶
剤中で酸素含有ガスを通気する方法、不活性ガス中に徐
々に酸素含有ガスを通気する方法などが知られている。
磁性粉末を磁気記録媒体に用いることが試みられている
。金属磁性粉末の酸化安定化処理方法としては、有機溶
剤中で酸素含有ガスを通気する方法、不活性ガス中に徐
々に酸素含有ガスを通気する方法などが知られている。
しかしこれらの方法では酸化安定性に対して充分な金属
磁性粉末を得ることは出来なかった。
磁性粉末を得ることは出来なかった。
近年磁気記録媒体の高画質化が要求され、このためには
磁性層表面とビデオヘッド及びオーディオヘッドとの間
により密な接触が必要である。このため磁気記録媒体の
表面の平滑性とともに、異物を除くことが必要である。
磁性層表面とビデオヘッド及びオーディオヘッドとの間
により密な接触が必要である。このため磁気記録媒体の
表面の平滑性とともに、異物を除くことが必要である。
磁性層表面の異物の多(は、工程中あるいは走行中に支
持体から剥離した磁性層粉で、この発生を防ぐためには
磁性層と支持体の接着力を強くしなければならない。さ
らに磁性層表面が平滑になればなるほどビデオテープレ
コーダー内の走行系での摩擦は太き(なり、走行テンシ
ョンが高くなって、磁気記録媒体にはますます苛酷な走
行耐久性が要求されるのである。
持体から剥離した磁性層粉で、この発生を防ぐためには
磁性層と支持体の接着力を強くしなければならない。さ
らに磁性層表面が平滑になればなるほどビデオテープレ
コーダー内の走行系での摩擦は太き(なり、走行テンシ
ョンが高くなって、磁気記録媒体にはますます苛酷な走
行耐久性が要求されるのである。
このため、従来の磁気記録媒体での製造方法ではこれら
の表面の平滑性、支持体と磁性層との接着力および走行
耐久性をかねそなえた磁気記録媒体は得られていない。
の表面の平滑性、支持体と磁性層との接着力および走行
耐久性をかねそなえた磁気記録媒体は得られていない。
本発明者等は熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる方法
、及び化学反応による架橋性の結合剤を添加する方法、
更に電子線架橋による硬化性結合剤を用いる方法、磁性
粉末として金属磁性粉末を用いる方法などの従来技術の
欠点を改良するため鋭意研究を重ねた結果本発明に到達
したものである。
、及び化学反応による架橋性の結合剤を添加する方法、
更に電子線架橋による硬化性結合剤を用いる方法、磁性
粉末として金属磁性粉末を用いる方法などの従来技術の
欠点を改良するため鋭意研究を重ねた結果本発明に到達
したものである。
本発明の目的は、第1に、走行耐久性の優れた磁気記録
媒体を提供することであり、第2に、金属磁性粉末を用
い酸化安定性に丁ぐれた磁気記録媒体を提供することで
あり、第3に、電磁変換特性の優れた磁気記録媒体を提
供することであり、第≠に、塗膜の硬化のための熱処理
工程が不要な磁気記録媒体を提供することである。
媒体を提供することであり、第2に、金属磁性粉末を用
い酸化安定性に丁ぐれた磁気記録媒体を提供することで
あり、第3に、電磁変換特性の優れた磁気記録媒体を提
供することであり、第≠に、塗膜の硬化のための熱処理
工程が不要な磁気記録媒体を提供することである。
本発明の上記目的は、以下に述べる本発明によって達成
される。
される。
すなわち、本発明は非磁性支持体上に放射線により架橋
または重合可能な化合物と強磁性粉末とを含む磁性層を
設けてなる磁気記録媒体において、該強磁性粉末は結晶
子サイズが300A以下の鉄を主体とする金属(もしく
は合金)粉末であり、該強磁性金属(もしくは合金)粉
末表面の鉄に対する酸素の原子比が/、4〜3.0であ
り、かつ該磁性層が放射線照射されていることを特徴と
する磁気記録媒体である。
または重合可能な化合物と強磁性粉末とを含む磁性層を
設けてなる磁気記録媒体において、該強磁性粉末は結晶
子サイズが300A以下の鉄を主体とする金属(もしく
は合金)粉末であり、該強磁性金属(もしくは合金)粉
末表面の鉄に対する酸素の原子比が/、4〜3.0であ
り、かつ該磁性層が放射線照射されていることを特徴と
する磁気記録媒体である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明で用いる非磁性支持体の素材としては、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンλ。
レンテレフタレート、ポリエチレンλ。
≦−ナフタレートなどのポリエステル類;ポリエチレン
、ポリプロビレ/などのポリオレフィン類、セルロース
トリアセテートなどのセルロース誘導体、ポリカーボネ
ート、ポリイミド、ポリアミドイミドなどのプラスチッ
クフィルムが使用される。
、ポリプロビレ/などのポリオレフィン類、セルロース
トリアセテートなどのセルロース誘導体、ポリカーボネ
ート、ポリイミド、ポリアミドイミドなどのプラスチッ
クフィルムが使用される。
本発明において特に好ましくはポリエチレンテレフタレ
ートが用いられる。
ートが用いられる。
支持体の厚さは3〜iooμm以下、好ましくは5〜3
0μmである。
0μmである。
表面粗さくRa)はo、orμm以下、好ましくは0.
02μm以下、更に好ましくは0.011μrn〜0.
0014μmであり、本発明ハ% ニo 。
02μm以下、更に好ましくは0.011μrn〜0.
0014μmであり、本発明ハ% ニo 。
02μm以下の平滑性を有する支持体を用いた場合に効
果が犬である。
果が犬である。
本発明の放射線硬化可能な磁性層に用いられるバインダ
ーとしてはすでに公知な放射線照射により重合可能な化
合物を用いればよい。例えば極性基及び炭素−炭素不飽
和結合を有するポリ塩化ビニル系樹脂、セルロース系(
メタ)アクリレート、極性基を含むウレタン(メタ)ア
クリレート及びビニル系モノマー等を単独もしくは混合
して用いればよい。
ーとしてはすでに公知な放射線照射により重合可能な化
合物を用いればよい。例えば極性基及び炭素−炭素不飽
和結合を有するポリ塩化ビニル系樹脂、セルロース系(
メタ)アクリレート、極性基を含むウレタン(メタ)ア
クリレート及びビニル系モノマー等を単独もしくは混合
して用いればよい。
本発明において用いられる極性基及び炭素−炭素不飽和
結合を含むポリ塩化ビニル系樹脂とじては(以下アクリ
レートおよびメタクリレートを総称して(メタ)アクリ
レート、アクリロイル基およびメタアクリロイル基を総
称して(メタ)アクリロイル基という。)、極性基とし
てCO□H1OH,803H,803Na、 0PO
3H2,0PO3Na2基を含む塩化ビニル−酢酸ビニ
ル系共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル系共重
合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル系共重合体などであ
る。
結合を含むポリ塩化ビニル系樹脂とじては(以下アクリ
レートおよびメタクリレートを総称して(メタ)アクリ
レート、アクリロイル基およびメタアクリロイル基を総
称して(メタ)アクリロイル基という。)、極性基とし
てCO□H1OH,803H,803Na、 0PO
3H2,0PO3Na2基を含む塩化ビニル−酢酸ビニ
ル系共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル系共重
合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル系共重合体などであ
る。
極性基として好ましいものは、−CO□H1−S 03
N aであり、さらに好ましくはC02H基である。
N aであり、さらに好ましくはC02H基である。
極性基がCO□I(基のとき、C02H含有量として酸
価でl〜30程度含むものが好ましく、更に好ましくは
3〜20である。この範囲を外れると強磁性微粉末の分
散性が不良となり、また電磁変換特性も大幅に低下する
。
価でl〜30程度含むものが好ましく、更に好ましくは
3〜20である。この範囲を外れると強磁性微粉末の分
散性が不良となり、また電磁変換特性も大幅に低下する
。
炭素−炭素不飽和結合の平均含有おとしては、1分子あ
たり/、j〜20であり好ましくはコ〜10である。こ
の範囲を外れると硬化性が不良になったりあるいは耐久
性が悪くなったりする。
たり/、j〜20であり好ましくはコ〜10である。こ
の範囲を外れると硬化性が不良になったりあるいは耐久
性が悪くなったりする。
これらの化合物は、ベースとなるポリ塩化ビニル系重合
体として、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル、塩化ビニル
−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−マレイン酸−ビニルアルコール共重合体、塩化
ビニル−プロピオン酸ビニル−マレイン酸ビニル共重合
体、塩化ビニル−プロピオン酸ヒニルービニルアルコー
ル共重合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル−マレイン酸
共重合体、塩化ビニリデン−プロピオン酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−アク
リル酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ヒニルーアクリル酸
−ビニルアルコール共重合体などの塩化ビニル系共重合
体、およびこれらの共重合体を鹸化して用いてもよい。
体として、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル、塩化ビニル
−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−マレイン酸−ビニルアルコール共重合体、塩化
ビニル−プロピオン酸ビニル−マレイン酸ビニル共重合
体、塩化ビニル−プロピオン酸ヒニルービニルアルコー
ル共重合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル−マレイン酸
共重合体、塩化ビニリデン−プロピオン酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−アク
リル酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ヒニルーアクリル酸
−ビニルアルコール共重合体などの塩化ビニル系共重合
体、およびこれらの共重合体を鹸化して用いてもよい。
炭素−炭素不飽和結合の導入法としては、これらの共重
合体のヒドロキシル基もしくはカルボキシル基の一部を
、あるいは鹸化することによって生じたヒドロキシル基
の一部を多官能イソシアネート(例えば、’I ”−)
リレンジイソシアネート、λ、6−ドリレンジインシア
ネート、/、3−キシレンジイソシアネート、l9μm
キシリレンジイソシアネート、l、!−ナフタレ/ジイ
ソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−
フェニレンジイソシアネート、3.3−ジメチルフェニ
レンジイソシアネート、≠、≠−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、3.3−ジメチル−q、≠−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、インホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシル
メタンジイソシアネート、トリメチロールプロパンのト
リレンジイソシアネート3付加物等)の7個のNCO基
と反応させ、残るNCO基を(メタ)アクリロイル基を
もつ活性水素化合物(例えばアクリル酸、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート、λ−ヒドロキシプロピルアクリ
レート、メタクリル酸、コーヒドロキシエチルメタクリ
レート、コーヒドロキシブロピルメタクリレートなどの
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類、アクリル
アミド、N−メチロールアクリルアミドなと)と反応さ
せる方法あるいは特開昭7./、104/、0夕号公報
に開示される方法などによって得ることができろ。
合体のヒドロキシル基もしくはカルボキシル基の一部を
、あるいは鹸化することによって生じたヒドロキシル基
の一部を多官能イソシアネート(例えば、’I ”−)
リレンジイソシアネート、λ、6−ドリレンジインシア
ネート、/、3−キシレンジイソシアネート、l9μm
キシリレンジイソシアネート、l、!−ナフタレ/ジイ
ソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−
フェニレンジイソシアネート、3.3−ジメチルフェニ
レンジイソシアネート、≠、≠−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、3.3−ジメチル−q、≠−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、インホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシル
メタンジイソシアネート、トリメチロールプロパンのト
リレンジイソシアネート3付加物等)の7個のNCO基
と反応させ、残るNCO基を(メタ)アクリロイル基を
もつ活性水素化合物(例えばアクリル酸、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート、λ−ヒドロキシプロピルアクリ
レート、メタクリル酸、コーヒドロキシエチルメタクリ
レート、コーヒドロキシブロピルメタクリレートなどの
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類、アクリル
アミド、N−メチロールアクリルアミドなと)と反応さ
せる方法あるいは特開昭7./、104/、0夕号公報
に開示される方法などによって得ることができろ。
また極性基を導入する方法とし【は、例えば次のよ、う
な方法を挙げることができる。上記のは−スとなる共重
合体のヒドロキシル基もしくはカルボキレル基の一部を
、あるいは鹸化することによって生じたヒドロキシル基
の一部を多官能イソシアネートの1個のNCO基と反応
させ、残るNCO基をCO□H基、803 N a基、
0PO3H2基、0PO3Na2基等を含有するヒドロ
キシル化合物を反応させることによって得ることができ
る。
な方法を挙げることができる。上記のは−スとなる共重
合体のヒドロキシル基もしくはカルボキレル基の一部を
、あるいは鹸化することによって生じたヒドロキシル基
の一部を多官能イソシアネートの1個のNCO基と反応
させ、残るNCO基をCO□H基、803 N a基、
0PO3H2基、0PO3Na2基等を含有するヒドロ
キシル化合物を反応させることによって得ることができ
る。
あるいは極性基と(メタ)アクリロイル基を両方有する
化合物を用いてもよい。これらの基の導入方法は前述の
方法に限定されるものではない。
化合物を用いてもよい。これらの基の導入方法は前述の
方法に限定されるものではない。
本発明で用いられる極性基を含むウレタン(メタ)アク
リレートとしては、主鎖の骨格がポリエステル、ポリエ
ーテル、ポリエステルエーテルいずれでも良く、これら
に用いられる二塩基酸の具体例としてはしゆう酸、マロ
ン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸
、ドデカン1酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、
トリメチルアジピン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラ
ヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、ナフタリンジカルボン酸などが使用できる。二価の
アルコールとしては、エチレングリコール、トリメチレ
ングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチ
レングリコール、ヘキサメチレングリコール、オクタメ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、コ、コージ
メチルブロパンーi、3−ジオール、2,2−ジェf
ルソC1/(! 7− / 、 3− ジオール、シク
ロヘキサy−i、3−ジオール、シクロヘキサン−l、
≠−ジオール、シクロヘキサン−l1μmジメタツール
、シクロヘキサン−l、3−ジメタツール、コ、2−ビ
ス(≠−ヒドロキシエトキシーシクロヘキシル)プロパ
ン、2..2−ビス(弘−ヒドロキシエトキシ−フェニ
ル)プロパン、λ、2−ビス(μmヒドロキシエトキシ
エトキシ−フェニル)プロパンなどが使用できる。また
、r−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、C−カプ
ロラクトyなどによるラクトン系のポリエステル骨格を
用いることも可能である。ウレタン結合を形成するイソ
シアネートとしては、コ、≠−トリレンジイソシアネー
ト、2.A−)リレンジイソシアネート、/、3−キシ
リレンジインシアネート、1.μmキシリレンジイソシ
アネート、l、!−ナフタレンジイソシアネート、m−
フ二二レンジインシアネート、p−フ二二レンジインシ
アネート、3.3−ジメチルフェニレンジインシアネー
ト、μ2μmジフェニルメタンジイソシアネート、3゜
3−ジメチル−1A、<z−ジフェニルメタンジインシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、インホロ
ンジインシアネート、ジシクロヘキシルメタンジインシ
アネート、トリメチロールプロパンのトリレンジインシ
アネート3付加物などの多価インシアネートを使用でき
る。また前記二塩基酸、二価アルコールの一部を3価以
上の酸及びアルコールに置き替えてもよい。C02H基
及びアクリロイル基はポリウレタンの末端にあっても側
鎖にあってもよい。
リレートとしては、主鎖の骨格がポリエステル、ポリエ
ーテル、ポリエステルエーテルいずれでも良く、これら
に用いられる二塩基酸の具体例としてはしゆう酸、マロ
ン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸
、ドデカン1酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、
トリメチルアジピン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラ
ヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、ナフタリンジカルボン酸などが使用できる。二価の
アルコールとしては、エチレングリコール、トリメチレ
ングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチ
レングリコール、ヘキサメチレングリコール、オクタメ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、コ、コージ
メチルブロパンーi、3−ジオール、2,2−ジェf
ルソC1/(! 7− / 、 3− ジオール、シク
ロヘキサy−i、3−ジオール、シクロヘキサン−l、
≠−ジオール、シクロヘキサン−l1μmジメタツール
、シクロヘキサン−l、3−ジメタツール、コ、2−ビ
ス(≠−ヒドロキシエトキシーシクロヘキシル)プロパ
ン、2..2−ビス(弘−ヒドロキシエトキシ−フェニ
ル)プロパン、λ、2−ビス(μmヒドロキシエトキシ
エトキシ−フェニル)プロパンなどが使用できる。また
、r−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、C−カプ
ロラクトyなどによるラクトン系のポリエステル骨格を
用いることも可能である。ウレタン結合を形成するイソ
シアネートとしては、コ、≠−トリレンジイソシアネー
ト、2.A−)リレンジイソシアネート、/、3−キシ
リレンジインシアネート、1.μmキシリレンジイソシ
アネート、l、!−ナフタレンジイソシアネート、m−
フ二二レンジインシアネート、p−フ二二レンジインシ
アネート、3.3−ジメチルフェニレンジインシアネー
ト、μ2μmジフェニルメタンジイソシアネート、3゜
3−ジメチル−1A、<z−ジフェニルメタンジインシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、インホロ
ンジインシアネート、ジシクロヘキシルメタンジインシ
アネート、トリメチロールプロパンのトリレンジインシ
アネート3付加物などの多価インシアネートを使用でき
る。また前記二塩基酸、二価アルコールの一部を3価以
上の酸及びアルコールに置き替えてもよい。C02H基
及びアクリロイル基はポリウレタンの末端にあっても側
鎖にあってもよい。
これらの基の導入の方法としては、リ 3価以上の酸、
アルコール、インシアネートの一種以上をウレタン骨格
に組み込み、側鎖にC02H基、OH基もしくはNCO
基を残留するウレタンに、これらの基と反応しうるカル
ボン酸化合物およびアクリロイル化合物を反応させたり
、2)末端にイソシアネート基な有するウレタンにC0
2H基とアクリロイル基およびOH基をそれぞれ1つ以
上有する活性水素化合物を反応させたりすることによっ
て得られる。
アルコール、インシアネートの一種以上をウレタン骨格
に組み込み、側鎖にC02H基、OH基もしくはNCO
基を残留するウレタンに、これらの基と反応しうるカル
ボン酸化合物およびアクリロイル化合物を反応させたり
、2)末端にイソシアネート基な有するウレタンにC0
2H基とアクリロイル基およびOH基をそれぞれ1つ以
上有する活性水素化合物を反応させたりすることによっ
て得られる。
本発明で用いるウレタン(メタコアクリレートの好まし
い酸価としては1〜30であり、より好ましくは3〜2
0であり更に好ましくは!〜izである。分子量として
は/、000−100,000であり、好ましくは2,
00OS、−10,000特に好ましくはJ、000〜
j(7,000である。酸価がこの範囲を外れると強磁
性微粉末の分散性が悪く、電磁変換特性の低下を招いた
り、耐久性が悪化したりする。また(メタ)アクリロイ
ル基の平均含有量としては1分子あたり/、j〜10で
あり好ましくはコ〜?である。
い酸価としては1〜30であり、より好ましくは3〜2
0であり更に好ましくは!〜izである。分子量として
は/、000−100,000であり、好ましくは2,
00OS、−10,000特に好ましくはJ、000〜
j(7,000である。酸価がこの範囲を外れると強磁
性微粉末の分散性が悪く、電磁変換特性の低下を招いた
り、耐久性が悪化したりする。また(メタ)アクリロイ
ル基の平均含有量としては1分子あたり/、j〜10で
あり好ましくはコ〜?である。
分子量が1000未満の場合、得られた磁気記録媒体の
磁性層が強くなりすぎ、折曲げたときに割れがはいった
り、また電子線照射後硬化収縮により磁気記録媒体がカ
ールするという問題が発生しゃ丁い。一方分子量がio
o、oooを越えるとウレタン(メタ)アクリレートの
溶剤への溶解性が不良となりや丁(、取扱いに不便とな
るのみでなく、磁性体の分散性が悪化したり硬化に多大
なエネルギーを必要とするので好ましくない。
磁性層が強くなりすぎ、折曲げたときに割れがはいった
り、また電子線照射後硬化収縮により磁気記録媒体がカ
ールするという問題が発生しゃ丁い。一方分子量がio
o、oooを越えるとウレタン(メタ)アクリレートの
溶剤への溶解性が不良となりや丁(、取扱いに不便とな
るのみでなく、磁性体の分散性が悪化したり硬化に多大
なエネルギーを必要とするので好ましくない。
更に本発明にはビニル系モノマーを添加することがでキ
ル。ビニル系モノマーとしては、放射線照射により重合
可能な化合物であって、炭素−炭素不飽和結合を分子中
に1個以上有する化合物であり、アクリル酸エステA/
類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、メタクリ
ル酸エステル類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビ
ニルエステル類、ビニル異節環化合物、N−ビニル化合
物、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸類、イタコン酸類、オレフィン酸類等が例としてあげ
られる。これらのうち好ましいものとしてアクリロイル
基またはメタクリロイル基を2個以上含む下記の化合物
があげられる。具体的には、ジエチレングリコールジア
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレートなどのポリエ
チレングリコールのアクリレート類、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールはンタアクリレート、ジ
はンタエリスリトールへキサアクリレート、ジエチレン
グリコールジメタクリレート、トリエチレングリコール
ジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート
、インタエリスリトールテトラメタクリレート、トリス
(β−アクリロイロキシエチルンインシアヌレート、ビ
ス(β−アクリロイロキシエチル)インシアヌレート、
あるいはポリインシアネート(2゜μ−トリレンジイソ
シアネート、2.t−トリレンジインシアネート、I、
3−キシリレンジイソシアネート、/、4t−キシリレ
ンジインシアネー)、’+ r−ナフタレンジインシア
ネート、m−フェニレンジインシアネート、p−フェニ
レンジイソシアネート、3.3−ジメチルフェニン/ジ
イソシアネート、≠、l−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、3,3−ジメチル−弘、u−ジフェニルメタン
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジインシアネート、
インホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン
ジイソシアネート、トリメチロールプロパンのトリレン
ジイソシアネートの3付加物)と、ヒドロキシアクリレ
ート化合物(β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−
ヒドロキシプロピルアクリレートなど)との反応化合物
、あるいはその他の2官能化上のポリアクリレート類な
どがある。これらのモノマーは1種でもよく、また2種
以上用いてもよい。
ル。ビニル系モノマーとしては、放射線照射により重合
可能な化合物であって、炭素−炭素不飽和結合を分子中
に1個以上有する化合物であり、アクリル酸エステA/
類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、メタクリ
ル酸エステル類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビ
ニルエステル類、ビニル異節環化合物、N−ビニル化合
物、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸類、イタコン酸類、オレフィン酸類等が例としてあげ
られる。これらのうち好ましいものとしてアクリロイル
基またはメタクリロイル基を2個以上含む下記の化合物
があげられる。具体的には、ジエチレングリコールジア
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレートなどのポリエ
チレングリコールのアクリレート類、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールはンタアクリレート、ジ
はンタエリスリトールへキサアクリレート、ジエチレン
グリコールジメタクリレート、トリエチレングリコール
ジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート
、インタエリスリトールテトラメタクリレート、トリス
(β−アクリロイロキシエチルンインシアヌレート、ビ
ス(β−アクリロイロキシエチル)インシアヌレート、
あるいはポリインシアネート(2゜μ−トリレンジイソ
シアネート、2.t−トリレンジインシアネート、I、
3−キシリレンジイソシアネート、/、4t−キシリレ
ンジインシアネー)、’+ r−ナフタレンジインシア
ネート、m−フェニレンジインシアネート、p−フェニ
レンジイソシアネート、3.3−ジメチルフェニン/ジ
イソシアネート、≠、l−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、3,3−ジメチル−弘、u−ジフェニルメタン
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジインシアネート、
インホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン
ジイソシアネート、トリメチロールプロパンのトリレン
ジイソシアネートの3付加物)と、ヒドロキシアクリレ
ート化合物(β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−
ヒドロキシプロピルアクリレートなど)との反応化合物
、あるいはその他の2官能化上のポリアクリレート類な
どがある。これらのモノマーは1種でもよく、また2種
以上用いてもよい。
本発明で使用する金回磁性粉末としては、鉄粉末或いは
鉄と他の金属(たとえば、Tt%v1Cr、Mn、Co
、Ni、Cu、Zn、S i。
鉄と他の金属(たとえば、Tt%v1Cr、Mn、Co
、Ni、Cu、Zn、S i。
A)、P、Mo、Sn、Sb、Allなど)との合金粉
末がある。これらの金属磁性粉末は次の方法で製造する
ことができる。これらの方法は当業界でよく知られてい
る。
末がある。これらの金属磁性粉末は次の方法で製造する
ことができる。これらの方法は当業界でよく知られてい
る。
(1)強磁性金属の有機酸塩を加熱分解し、還元性気体
で還元する方法。
で還元する方法。
(2)針状オキシ水酸化物もしくは、これらに他金属を
含有せしめたもの、あるいはこれらのオキシ水酸化物を
加熱して得た針状酸化鉄を、還元性ガス中で還元する方
法。
含有せしめたもの、あるいはこれらのオキシ水酸化物を
加熱して得た針状酸化鉄を、還元性ガス中で還元する方
法。
(3) 金属カルボニル化合物を熱分解する方法。
(4) 強磁性金属を低圧の不活性ガス中で蒸発させ
る方法。
る方法。
(5)強磁性体を作り得る金属の塩の水溶液中で還元性
物質(水素化ホウ素化合物、次亜リン酸塩あるいはヒド
ラジy等)を用いて還元して強磁性金属粉末を得る方法
。
物質(水素化ホウ素化合物、次亜リン酸塩あるいはヒド
ラジy等)を用いて還元して強磁性金属粉末を得る方法
。
(6)水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電析させたのち
水銀と分離する方法。
水銀と分離する方法。
本発明では上記いずれの方法で製造された金属磁性粉末
でも使用し得るが、磁性特性とコストの両面から、(2
]の方法が特に好ましい。
でも使用し得るが、磁性特性とコストの両面から、(2
]の方法が特に好ましい。
これ等の方法により得た金属粉末は空気に接すると急速
酸化を生じ、好ましくない。従って徐酸化により表面に
酸化物の層を形成せしめ安定化する。
酸化を生じ、好ましくない。従って徐酸化により表面に
酸化物の層を形成せしめ安定化する。
徐酸化の方法には不活性ガス中で該金属粉末を有機溶剤
に浸漬せしめた後溶剤を空気中で蒸発乾燥する方法、不
活性ガス中に、酸素分圧の低い酸素と不活性ガスの混合
ガスを通じ酸素分圧を徐々に増してゆき、最終的に空気
を流す方法などがある。
に浸漬せしめた後溶剤を空気中で蒸発乾燥する方法、不
活性ガス中に、酸素分圧の低い酸素と不活性ガスの混合
ガスを通じ酸素分圧を徐々に増してゆき、最終的に空気
を流す方法などがある。
しかしながら、上記の徐酸化な行っただけでは通常オー
ジェ電子分光法で測定される磁性体表面の鉄に対する酸
素の原子比は7.4未満であり、耐酸化安定性に劣る。
ジェ電子分光法で測定される磁性体表面の鉄に対する酸
素の原子比は7.4未満であり、耐酸化安定性に劣る。
(以下0/Fe原子比と略す)0/Fe原子比1に/、
4以上とするためには、(1)徐酸化終了后金属粉末を
酸素含有ガス中で加熱処理する方法、(2]有機溶媒を
使用して徐酸化する場合に於ては、溶媒を蒸発乾燥する
際に加熱する、(3)有機溶媒を使用しない徐酸化の場
合には、酸素分圧を徐々に増す過程中に加熱処理する、
等の方法が知られている。このうち(1)の方法が、徐
酸化処理を行った金属粉末に対して加熱するため、処理
中の急速酸化の危険性がもつとも少なく、好ましい。
4以上とするためには、(1)徐酸化終了后金属粉末を
酸素含有ガス中で加熱処理する方法、(2]有機溶媒を
使用して徐酸化する場合に於ては、溶媒を蒸発乾燥する
際に加熱する、(3)有機溶媒を使用しない徐酸化の場
合には、酸素分圧を徐々に増す過程中に加熱処理する、
等の方法が知られている。このうち(1)の方法が、徐
酸化処理を行った金属粉末に対して加熱するため、処理
中の急速酸化の危険性がもつとも少なく、好ましい。
金属磁性粉末の結晶子サイズは、大きいと全域にわたっ
てノイズレベルが増加し、C/Nが低下し好ましくない
。充分なC/ N ?:確保するためにであるのが好ま
しい。丈に200A以下であるのが好ましい。
てノイズレベルが増加し、C/Nが低下し好ましくない
。充分なC/ N ?:確保するためにであるのが好ま
しい。丈に200A以下であるのが好ましい。
分散、磁性塗液の塗布に用いる有機溶剤としては、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン系;酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸クリコールモノエチ
ルエーテル等のエステル系;エチルエーテル、グリコー
ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系;ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、ffi!(t
J[、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロ
ルベンゼンなどの塩素化炭化水素等が選択して使用でき
る。
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン系;酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸クリコールモノエチ
ルエーテル等のエステル系;エチルエーテル、グリコー
ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系;ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、ffi!(t
J[、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロ
ルベンゼンなどの塩素化炭化水素等が選択して使用でき
る。
また、本発明の磁性塗液には、潤滑剤、研磨剤、分散剤
、帯電防止剤、防錆剤等の添加剤を加えてもよい。特に
潤滑剤は、炭素数i2以上の飽和及び不飽和の高級脂肪
酸、脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、高級アルコー
ルおよび、シリコーンオイル、鉱油、植物油、フッソ系
化合物等があり、これらは磁性塗液調製時に添加しても
よく、また乾燥後あるいは放射線照射後に有機溶剤に溶
解して、あるいはそのまま磁性層表面に塗布あるいは、
噴霧してもよい。
、帯電防止剤、防錆剤等の添加剤を加えてもよい。特に
潤滑剤は、炭素数i2以上の飽和及び不飽和の高級脂肪
酸、脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、高級アルコー
ルおよび、シリコーンオイル、鉱油、植物油、フッソ系
化合物等があり、これらは磁性塗液調製時に添加しても
よく、また乾燥後あるいは放射線照射後に有機溶剤に溶
解して、あるいはそのまま磁性層表面に塗布あるいは、
噴霧してもよい。
また非磁性支持体の形態はフィルム、テープ、シート、
ディスク、カード、ドラムなどいずれでもよ(、形態に
応じて種々の材料が必要に応じて選択される。
ディスク、カード、ドラムなどいずれでもよ(、形態に
応じて種々の材料が必要に応じて選択される。
また本発明の支持体は帯電防止、転写防止、ワウフラッ
タ−防止、磁気記録媒体の強度向上、パック面のマット
化等の目的で、磁性層を設けた側の反対の面(バック面
)にいわゆるバックコートがなされてもよい。
タ−防止、磁気記録媒体の強度向上、パック面のマット
化等の目的で、磁性層を設けた側の反対の面(バック面
)にいわゆるバックコートがなされてもよい。
パック層は例えばカーボンブラックとモース硬度!以上
の無機充填材粒子が分散されたバインダーからなる厚さ
0,4μm以下の薄膜層であり、公知の方法により得る
ことができる。バインダーとしては前述の放射線照射に
より重合可能なバインダーあるいは熱硬化系バインダー
が用いられる。
の無機充填材粒子が分散されたバインダーからなる厚さ
0,4μm以下の薄膜層であり、公知の方法により得る
ことができる。バインダーとしては前述の放射線照射に
より重合可能なバインダーあるいは熱硬化系バインダー
が用いられる。
パック層に用いるバインダーの例としては、塩化ビニル
系共重合体(例、塩化ビニル、酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニルおよび酢酸ビニルと、ビニルアルコール、無水
マレイン酸あるいはアクリル酸などの単量体との共重合
体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
・アクリロニトリル共重合体、スルホン酸基などの極性
基を有する塩化ビニル系共重合体)、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合体、ニトロセルロース樹脂などのセルロース
誘導体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポ
リビニルブチ2−ル樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹
脂、ポリウレタン系樹脂(例、通常のポリウレタン樹脂
、ポリエステルポリウレタン樹脂、スルホン酸基などの
極性基を有するポリウレタン樹脂、ポリカニボネートポ
リウレタン樹脂)を挙げることができる。樹脂成分は単
独で使用することもできるが、通常は、塩化ビニル系樹
脂とポリウレタン系樹脂、あるいはセルロース誘導体と
ポリウレタン系樹脂のように二種以上の樹脂を組み合わ
せて使用する。
系共重合体(例、塩化ビニル、酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニルおよび酢酸ビニルと、ビニルアルコール、無水
マレイン酸あるいはアクリル酸などの単量体との共重合
体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
・アクリロニトリル共重合体、スルホン酸基などの極性
基を有する塩化ビニル系共重合体)、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合体、ニトロセルロース樹脂などのセルロース
誘導体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポ
リビニルブチ2−ル樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹
脂、ポリウレタン系樹脂(例、通常のポリウレタン樹脂
、ポリエステルポリウレタン樹脂、スルホン酸基などの
極性基を有するポリウレタン樹脂、ポリカニボネートポ
リウレタン樹脂)を挙げることができる。樹脂成分は単
独で使用することもできるが、通常は、塩化ビニル系樹
脂とポリウレタン系樹脂、あるいはセルロース誘導体と
ポリウレタン系樹脂のように二種以上の樹脂を組み合わ
せて使用する。
従来の如(、単に非磁性支持体の一方の面に磁性層を他
方の面にバック層を設けた構成の磁気記録媒体において
は、磁性層及びバック層が高物性化され、ヤング率の増
加、Tgの高温化が進み、一方では非磁性支持体の表面
平滑化により該支持体と磁性層及びバック層の密着力が
低下し、走行耐久性(ドロップアウト、磁気ヘッドの目
詰り等)に問題を生じている。その為、非磁性支持体に
下塗り層を設け、あるいは非磁性支持体の表面に電子線
照射処理、コロナ放電処理等の表面改質を行ない、密着
を保持する対策が講じられている。
方の面にバック層を設けた構成の磁気記録媒体において
は、磁性層及びバック層が高物性化され、ヤング率の増
加、Tgの高温化が進み、一方では非磁性支持体の表面
平滑化により該支持体と磁性層及びバック層の密着力が
低下し、走行耐久性(ドロップアウト、磁気ヘッドの目
詰り等)に問題を生じている。その為、非磁性支持体に
下塗り層を設け、あるいは非磁性支持体の表面に電子線
照射処理、コロナ放電処理等の表面改質を行ない、密着
を保持する対策が講じられている。
本発明は非磁性支持体の両面に磁性層を設けた構成の磁
気記録媒体においても有効である。
気記録媒体においても有効である。
磁性層を塗布した後、必要により磁場配向しつつ乾燥す
る。しかるのちスーパーカレンダーにより平滑化処理を
行い、更に放射線照射処理を行う。
る。しかるのちスーパーカレンダーにより平滑化処理を
行い、更に放射線照射処理を行う。
次いで所定の巾にスリットされる。
本発明では上記のように磁性塗料を塗布し、カレンダー
処理を施した後に放射線を照射することが好ましいが、
照射した後カレンダー処理することも可能である。ある
いは更にもう一度放射線照射することも可能である。
処理を施した後に放射線を照射することが好ましいが、
照射した後カレンダー処理することも可能である。ある
いは更にもう一度放射線照射することも可能である。
本発明の磁性層に照射する放射線としては、電子線、r
線、β線、紫外線などを使用できるが、好ましくは電子
線である。電子線加速器としてはスキャニング方式、ダ
ブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式、ブ
ロードビームカーテン方式などが採用できる。
線、β線、紫外線などを使用できるが、好ましくは電子
線である。電子線加速器としてはスキャニング方式、ダ
ブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式、ブ
ロードビームカーテン方式などが採用できる。
電子線としては、加速電圧が100〜ioo。
KV1好’!!L、(ハ/ j O〜J 00Kvであ
り、吸収線量としてt−2o M r a d s好ま
しくは3から/1Mradである。加速電圧が100K
v以下の場合は、エネルギーの透過量が不足し、100
0KVを越えると重合に使われるエネルギー効率が低下
し経済的でない。吸収fa量として、/Mrad以下で
は硬化反応が不充分で出性層強度が得られず、20Mr
ad以上になると、硬化に使用されるエネルギー効率が
低下したり、被照射体が発熱し、特にプラスティック支
持体が変形するので好ましくない。
り、吸収線量としてt−2o M r a d s好ま
しくは3から/1Mradである。加速電圧が100K
v以下の場合は、エネルギーの透過量が不足し、100
0KVを越えると重合に使われるエネルギー効率が低下
し経済的でない。吸収fa量として、/Mrad以下で
は硬化反応が不充分で出性層強度が得られず、20Mr
ad以上になると、硬化に使用されるエネルギー効率が
低下したり、被照射体が発熱し、特にプラスティック支
持体が変形するので好ましくない。
次に、本発明の実施例および比較例を示す。なお、実施
例および比較例中の「部」との表示は、「重量部」を示
すものである。
例および比較例中の「部」との表示は、「重量部」を示
すものである。
(実施例1)
Niを夕atm%含有し、Siを4’atm%被着させ
た針状α−FeOCH(長さo、4cμ、針状比/j)
を窒素気流中J−200Cで加熱脱水し針状α−Fe2
03粉末とした後、水素気流中≠10”(:で!時間還
元して金属磁性粉末を得た。
た針状α−FeOCH(長さo、4cμ、針状比/j)
を窒素気流中J−200Cで加熱脱水し針状α−Fe2
03粉末とした後、水素気流中≠10”(:で!時間還
元して金属磁性粉末を得た。
この金属磁性粉末を空気に触れぬ様にしてトルエンに浸
漬し、空気中にてトルエンを蒸発させ、更に空気中μo
OCにて該粉末を!時間加熱処理し、空気中で安定な金
属磁性粉末を得た。(金属磁性粉末 lとする。ン (実施例2) ZnをJatm%含有し、Aノをjatm%被着させた
針状α−FeOOH(長さ0.tμ、針状比λQ)を窒
素気流中j000Cで加熱脱水し針状α−Fe 203
粉末とした後、水素気流中μりOoCで6時間還元して
金属磁性粉末を得た。
漬し、空気中にてトルエンを蒸発させ、更に空気中μo
OCにて該粉末を!時間加熱処理し、空気中で安定な金
属磁性粉末を得た。(金属磁性粉末 lとする。ン (実施例2) ZnをJatm%含有し、Aノをjatm%被着させた
針状α−FeOOH(長さ0.tμ、針状比λQ)を窒
素気流中j000Cで加熱脱水し針状α−Fe 203
粉末とした後、水素気流中μりOoCで6時間還元して
金属磁性粉末を得た。
還元後、容器内を窒素置換し、室温まで冷却した後、窒
素ガス中に徐々に酸素ガスを加えて酸素濃度を上げ、6
時間かけて空気と同じ酸素濃度になる様にし、空気中で
安定な金JpAa性粉末を得た。
素ガス中に徐々に酸素ガスを加えて酸素濃度を上げ、6
時間かけて空気と同じ酸素濃度になる様にし、空気中で
安定な金JpAa性粉末を得た。
この粉末を空気中jO°Cで2時間加熱処理した6(金
属磁性粉末 −とする。) 会鼻iス、 Ni?:jatm%含有し、SiをJatm%被着させ
た針状α−Fe00H粉末(長さo、rμ針状比20)
を窒素気流中z000Cで加熱脱水して針状α−Fe2
Q3粉末とした後、水素気流中4Lμ0°Cで6時間還
元して金属磁性粉末を得た。
属磁性粉末 −とする。) 会鼻iス、 Ni?:jatm%含有し、SiをJatm%被着させ
た針状α−Fe00H粉末(長さo、rμ針状比20)
を窒素気流中z000Cで加熱脱水して針状α−Fe2
Q3粉末とした後、水素気流中4Lμ0°Cで6時間還
元して金属磁性粉末を得た。
還元後、容器内を窒素置換し、室温まで冷却した後、窒
素ガス中に徐々に酸素ガスを加えて酸素濃度を上げ、6
時間かけて空気と同じ酸素濃度になる様にし、空気中で
安定な金属磁性粉末を得た。
素ガス中に徐々に酸素ガスを加えて酸素濃度を上げ、6
時間かけて空気と同じ酸素濃度になる様にし、空気中で
安定な金属磁性粉末を得た。
この粉末を空気中ψ□QCでψ時間加熱処理した。(金
属磁性粉末 3とする。) (比較例1) Ni′f!:tatm%含有し、Stを4’atm%被
着させた針状α−FeOOH(長さ0.μμ、針状比2
0)を窒素気流中j000Cで加熱脱水し針状α−Fe
203粉末とした後、水素気流中≠70c′Cで6時
間還元して金属磁性粉末を得た。
属磁性粉末 3とする。) (比較例1) Ni′f!:tatm%含有し、Stを4’atm%被
着させた針状α−FeOOH(長さ0.μμ、針状比2
0)を窒素気流中j000Cで加熱脱水し針状α−Fe
203粉末とした後、水素気流中≠70c′Cで6時
間還元して金属磁性粉末を得た。
この金属磁性粉末を空気に触れぬ様にしてトルエンに浸
漬し、空気中にてトルエンを蒸発させ、空気中で安定な
金属磁性粉末を得た。(金Mffi性粉末 弘とする。
漬し、空気中にてトルエンを蒸発させ、空気中で安定な
金属磁性粉末を得た。(金Mffi性粉末 弘とする。
)
(比較例2)
Niをjatm%含有し、Siを2atm%被着させた
針状α−FeOOH粉末(長さo、rμ針状比20)を
窒素気流中j000Cで加熱脱水して針状α−Fe 2
03粉末とした後、水素気流中μμ0c′Cで6時間還
元して金属磁性粉末を得た。この金属磁性粉末を空気に
触れぬ様にしてトルエンに浸漬し、空気中にてトルエン
を蒸発させ、空気中で安定な金属磁性粉末を得た。(金
属磁性粉末 よとする。) (磁気テープの製造) 上記金属磁性粉末/−jを用いて下記の方法で磁気テー
プを製造した。
針状α−FeOOH粉末(長さo、rμ針状比20)を
窒素気流中j000Cで加熱脱水して針状α−Fe 2
03粉末とした後、水素気流中μμ0c′Cで6時間還
元して金属磁性粉末を得た。この金属磁性粉末を空気に
触れぬ様にしてトルエンに浸漬し、空気中にてトルエン
を蒸発させ、空気中で安定な金属磁性粉末を得た。(金
属磁性粉末 よとする。) (磁気テープの製造) 上記金属磁性粉末/−jを用いて下記の方法で磁気テー
プを製造した。
j11遣二乳!
金属磁性粉末 100部塩化ビニ
ル共重合体系アクリレート (酸価3、分子f1120,000 アクリロイル基平均含有菫 コ、を個/分子) io部タウレタ
ンアクリレート酸価 1、♂、分子量io、oo。
ル共重合体系アクリレート (酸価3、分子f1120,000 アクリロイル基平均含有菫 コ、を個/分子) io部タウレタ
ンアクリレート酸価 1、♂、分子量io、oo。
アクリロイル基平均含有量
3個/分子) 6部トリメチロ
ールプロパントリ アクリレート 4部ステアリ
ン酸 2部ブチルステアレー
ト 2部AA203
4’部カーボンブラック
1部メチルエチルケトン ♂QO部
厚さtoμmで表面粗さくRa)0.00rμのポリエ
チレンテレフタレート支持体を日新ノ1イボルテージ■
製キュアトロン■にて加速電圧λ00KV、照射線′i
kjMrad、照射雰囲気は30’C,/jOppm
02濃度(N2ガスで)t−ジンの状態でl0m1分
の速度で電子線照射処理を行った。
ールプロパントリ アクリレート 4部ステアリ
ン酸 2部ブチルステアレー
ト 2部AA203
4’部カーボンブラック
1部メチルエチルケトン ♂QO部
厚さtoμmで表面粗さくRa)0.00rμのポリエ
チレンテレフタレート支持体を日新ノ1イボルテージ■
製キュアトロン■にて加速電圧λ00KV、照射線′i
kjMrad、照射雰囲気は30’C,/jOppm
02濃度(N2ガスで)t−ジンの状態でl0m1分
の速度で電子線照射処理を行った。
上記電子線照射処理により親水性化されたポリエチレン
テレフタレート支持体を用い20m7分の速度で照射面
側に乾燥膜厚3.05mとなるように磁性塗料を塗設し
た。
テレフタレート支持体を用い20m7分の速度で照射面
側に乾燥膜厚3.05mとなるように磁性塗料を塗設し
た。
磁性塗料が塗布された非磁性支持体を、磁性塗料が未乾
燥の状態で3000ガウスの磁石で磁場配向処理を行な
った。さらに乾燥後、スーパーカレンダー処理、電子線
照射処理を行ない、J’m+幅にスリットしてrミリビ
デオ用テープを製造した。
燥の状態で3000ガウスの磁石で磁場配向処理を行な
った。さらに乾燥後、スーパーカレンダー処理、電子線
照射処理を行ない、J’m+幅にスリットしてrミリビ
デオ用テープを製造した。
なお、電子線照射処理は加速電圧200KV、照射線量
!Mrad、照射雰囲気は70 ’(’ / Oppm
O□濃度の状態で10m1分の速度で実施した。
!Mrad、照射雰囲気は70 ’(’ / Oppm
O□濃度の状態で10m1分の速度で実施した。
評価結果を第1表に示す。
(測定条件)
PERKIN−ELMER社製PHIjAOにて電子ビ
ーム加速電圧 jKVビーム電流
1.0μA真空度 j
xlo−Torrスペクトルは/eV/5tep、jO
msec/5tepにて、N(E)※Fの形で得、その
後スムージング、微分処理を11点で行う。
ーム加速電圧 jKVビーム電流
1.0μA真空度 j
xlo−Torrスペクトルは/eV/5tep、jO
msec/5tepにて、N(E)※Fの形で得、その
後スムージング、微分処理を11点で行う。
結晶子サイズ・・・X線回析装置にてα−Fe(llQ
)面と(ココθ)面の回折線の ピークの半値幅より算出した。
)面と(ココθ)面の回折線の ピークの半値幅より算出した。
ΔσS ・・・磁性粉をt00c90%RH環境下
に1週間放置した前後でのσ5 (飽和磁化)の変化を下式により 求めた。
に1週間放置した前後でのσ5 (飽和磁化)の変化を下式により 求めた。
Δσ5=((初期σS−放置後σs)/初期aB)×1
00 (%)ΔBm =磁気テープをto’cy
o%RH猿境下に1週間放置した前後の I’m(飽和磁束密度)の変化を下 式により求めた。
00 (%)ΔBm =磁気テープをto’cy
o%RH猿境下に1週間放置した前後の I’m(飽和磁束密度)の変化を下 式により求めた。
ΔBm=((初期Bm−放置後Bm)AIJIABm)
xioo (%)D、O数 市販の1wmビデオレコーダ(Fujjx−tr)を使
用してビクター社製ドロップアウトカウンターDV−J
Dを用い、デツキlOQパス走行後の一分間あたりの/
jX10−6秒の10dB以上低下するドロップアウト
数をしらべた。
xioo (%)D、O数 市販の1wmビデオレコーダ(Fujjx−tr)を使
用してビクター社製ドロップアウトカウンターDV−J
Dを用い、デツキlOQパス走行後の一分間あたりの/
jX10−6秒の10dB以上低下するドロップアウト
数をしらべた。
目詰り非発生回数
市販の1wmビデオレコーダ(Fujix−1)を使用
して通常の走行速度で走行させて目詰まりの発生するま
での回数を調べた。
して通常の走行速度で走行させて目詰まりの発生するま
での回数を調べた。
C/N比
市販のt■ビデオテープレコーダー(Fujix−r)
を用いて、jMHzの信号を記録し、この信号を再生し
たときの!±/MHzの範囲内圧発生するノイズを測定
し、このノイズに対する再生信号の比を測定した。測定
は、Nv−170HD型出力レベル測定機(机下電器産
業■jR)を用いて行なった。なお、表記した値は比゛
較例コで得られた磁気記録媒体のC/N比をOdBとし
だときの値である。
を用いて、jMHzの信号を記録し、この信号を再生し
たときの!±/MHzの範囲内圧発生するノイズを測定
し、このノイズに対する再生信号の比を測定した。測定
は、Nv−170HD型出力レベル測定機(机下電器産
業■jR)を用いて行なった。なお、表記した値は比゛
較例コで得られた磁気記録媒体のC/N比をOdBとし
だときの値である。
前記評価結果かられかるように本発明による磁気記録媒
体は保存安定性に優れ、かつ走行耐久性及び電磁変換特
性にもすぐれた磁気記録媒体である。
体は保存安定性に優れ、かつ走行耐久性及び電磁変換特
性にもすぐれた磁気記録媒体である。
Claims (1)
- 非磁性支持体上に放射線照射により架橋または重合可能
な化合物と強磁性粉末とを含む磁性層を設けてなる磁気
記録媒体において、該強磁性粉末は結晶子サイズが30
0Å以下の鉄を主体とする金属もしくは合金粉末であり
、該強磁性金属もしくは合金粉末表面の鉄に対する酸素
の原子比が1.6〜3.0であり、かつ該磁性層が放射
線照射されていることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12054987A JPS63285724A (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 磁気記録媒体 |
US07/195,224 US4959263A (en) | 1987-05-18 | 1988-05-18 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12054987A JPS63285724A (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63285724A true JPS63285724A (ja) | 1988-11-22 |
Family
ID=14789055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12054987A Pending JPS63285724A (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63285724A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03189925A (ja) * | 1989-12-20 | 1991-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-05-18 JP JP12054987A patent/JPS63285724A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03189925A (ja) * | 1989-12-20 | 1991-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
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