JPS63282919A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はビデオテープ、オーディオテープ、コンピュー
ターテープ等の磁気記録媒体に関する。
ターテープ等の磁気記録媒体に関する。
現在、−iに広く使用されている磁気記録媒体は、結合
剤として塩酢ビ系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹脂、
セルロース系樹脂、アセタール樹脂、ウレタン樹脂、ア
クリロニトリルブタジェン樹脂などの熱可塑性樹脂を単
独あるいは混合して用いる方法があるが、この方法では
、磁性層の耐摩耗性が劣り磁気テープの走行経路を汚し
てしまうという欠点を有していた。
剤として塩酢ビ系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹脂、
セルロース系樹脂、アセタール樹脂、ウレタン樹脂、ア
クリロニトリルブタジェン樹脂などの熱可塑性樹脂を単
独あるいは混合して用いる方法があるが、この方法では
、磁性層の耐摩耗性が劣り磁気テープの走行経路を汚し
てしまうという欠点を有していた。
またメラミン樹脂、尿素樹脂等の熱硬化性樹脂を用いる
方法あるいは上記熱可塑性樹脂に化学反応による架橋性
の結合剤、たとえばイソシアネート化合物、エポキシ環
を有する化合物などを添加する方法が知られている。し
かし、架橋性の結合剤を用いると、1)磁性粒子を分散
させた液の貯蔵安定性に難があり、磁性塗液物性の均一
性、ひいては磁気記録媒体の均質性を保持できない、2
)塗布乾燥後塗膜の硬化のために熱処理工程が不可欠で
あり、しかも長時間を要する、などの欠点を有している
。
方法あるいは上記熱可塑性樹脂に化学反応による架橋性
の結合剤、たとえばイソシアネート化合物、エポキシ環
を有する化合物などを添加する方法が知られている。し
かし、架橋性の結合剤を用いると、1)磁性粒子を分散
させた液の貯蔵安定性に難があり、磁性塗液物性の均一
性、ひいては磁気記録媒体の均質性を保持できない、2
)塗布乾燥後塗膜の硬化のために熱処理工程が不可欠で
あり、しかも長時間を要する、などの欠点を有している
。
これらの欠点を防止する為、アクリル酸エステル系のオ
リゴマーとモノマーを結合剤として用い、乾燥後に放射
線照射によって硬化せしめる磁気記録媒体の製造方法が
特公昭47−12423号、特開昭47−13639号
、特開昭47−15104号、特開昭5.0−7743
3号、特開昭56−25231号等の各公報に開示され
ている。しかしながら、上記特許公報に開示された製造
方法では高度な電磁変換特性と耐久性を有する磁気記録
媒体は得られなかった。
リゴマーとモノマーを結合剤として用い、乾燥後に放射
線照射によって硬化せしめる磁気記録媒体の製造方法が
特公昭47−12423号、特開昭47−13639号
、特開昭47−15104号、特開昭5.0−7743
3号、特開昭56−25231号等の各公報に開示され
ている。しかしながら、上記特許公報に開示された製造
方法では高度な電磁変換特性と耐久性を有する磁気記録
媒体は得られなかった。
近年磁気記録媒体の高画質化が要求されている。
このためには磁性層表面と磁気ヘッドとの間により密に
接触させることが必要であり、磁気記録媒体の表面の平
滑性を向上させるとともに、強磁性微粉末の分散性を更
に飛躍的に向上させることが重要である。一方位性層表
面が平滑になればなるほどビデオテープレコーダー内の
走行系での摩擦は太き(なり、走行テンションが高くな
って、磁気記録媒体にはますます苛酷な走行耐久性が要
求される。このため、従来は磁性層の表面の平滑性、強
磁性微粉末の分散性、および走行耐久性をかねそなえた
磁気記録媒体は得られていなかった。
接触させることが必要であり、磁気記録媒体の表面の平
滑性を向上させるとともに、強磁性微粉末の分散性を更
に飛躍的に向上させることが重要である。一方位性層表
面が平滑になればなるほどビデオテープレコーダー内の
走行系での摩擦は太き(なり、走行テンションが高くな
って、磁気記録媒体にはますます苛酷な走行耐久性が要
求される。このため、従来は磁性層の表面の平滑性、強
磁性微粉末の分散性、および走行耐久性をかねそなえた
磁気記録媒体は得られていなかった。
本発明の目的は、1)走行耐久性の極めて優れた、2)
電磁変換特性の優れた、3)強磁性微粉末の分散性の優
れた、4)塗膜の硬化のための熱処理工程が不要な磁気
記録媒体を提供しようとするものである。
電磁変換特性の優れた、3)強磁性微粉末の分散性の優
れた、4)塗膜の硬化のための熱処理工程が不要な磁気
記録媒体を提供しようとするものである。
上記問題点は下に述べる方法によって解決することがで
きる。
きる。
即ち本発明は、非磁性支持体と主として放射線照射によ
り硬化可能な化合物を結合剤として含む磁性層とからな
る磁気記録媒体において、該磁性層が下記一般式で表わ
されるパーフルオロアルケニル基を有する非イオン系界
面活性剤 Rf −0−(C,H2110)II−Rを含有し、更
に放射線照射されていることを特徴とする磁気記録媒体
である。
り硬化可能な化合物を結合剤として含む磁性層とからな
る磁気記録媒体において、該磁性層が下記一般式で表わ
されるパーフルオロアルケニル基を有する非イオン系界
面活性剤 Rf −0−(C,H2110)II−Rを含有し、更
に放射線照射されていることを特徴とする磁気記録媒体
である。
パーフルオロアルケニル基をもつ非イオン系界面活性剤
とは具体的にはテトラフルオロエチレンやヘキサフルオ
ロプロピレンを塩基あるいはフロリドイオンの存在下極
性溶媒中でアニオン重合して得られるオリゴマー(二量
体、二量体等)から誘導されるパーフルオロアルケニル
化合物の一形態である。
とは具体的にはテトラフルオロエチレンやヘキサフルオ
ロプロピレンを塩基あるいはフロリドイオンの存在下極
性溶媒中でアニオン重合して得られるオリゴマー(二量
体、二量体等)から誘導されるパーフルオロアルケニル
化合物の一形態である。
本発明において使用される化合物はパーフルオロアルケ
ニル基をもつ非イオン系界面活性剤ならば何でもよいが
中でも比較的分子量が大きく揮発性の少ないパーフルオ
ロアルケニル基をもつ非イオン系界面活性剤が好結果を
与えることが多い。
ニル基をもつ非イオン系界面活性剤ならば何でもよいが
中でも比較的分子量が大きく揮発性の少ないパーフルオ
ロアルケニル基をもつ非イオン系界面活性剤が好結果を
与えることが多い。
前記一般式のRfは炭素数6〜12が好ましく、なかで
もC9F+7またはC6F、□のものがとくに好ましい
。
もC9F+7またはC6F、□のものがとくに好ましい
。
前記一般式〇mは1以上、平均25までのものであれば
何でも用いることができるが、好ましく−は3以上平均
10迄であり、更に好ましくは平均3.5以上、平均8
未満である。
何でも用いることができるが、好ましく−は3以上平均
10迄であり、更に好ましくは平均3.5以上、平均8
未満である。
mが1未満の場合は低湿度での耐久性が十分でなく、m
が平均25以上になると高湿度での走行性が確保できな
くなる。
が平均25以上になると高湿度での走行性が確保できな
くなる。
nは2または3のいずれでもよいがn=2の場合の方が
低い摩擦係数を与えることが多い。
低い摩擦係数を与えることが多い。
RはHまたは置換もしくは未置換の炭素数1〜8の炭化
水素基またはアシル基のいずれでもよいが、H,CHs
、CzHs、C3H7、C4H9の場合特に耐久性に
優れる。
水素基またはアシル基のいずれでもよいが、H,CHs
、CzHs、C3H7、C4H9の場合特に耐久性に
優れる。
本発明において使用するパーフルオロアルケニル基をも
つ非イオン系界面活性剤の具体例としては、以下のもの
が挙げられる。
つ非イオン系界面活性剤の具体例としては、以下のもの
が挙げられる。
CqF170(CH2CH20)3CH3C,F、70
(CH2CH20)、、CH3Cq F I 70 (
CHz CHz O) s CH’5C9F、70(C
H2CH2O)6CH3Cq F + 、0 (CHz
CH20) 7 CH3Cq F + q O(CH
z CHz O) a CH3Cq F I 70 (
CH2CHz O) q CH:+Cq F l 70
(CHz CH20) lo CH3Cq F I
T O(CHz CHz O) + s CH3Cq
F I ? O(CH2CHz O) z。CH3Cq
F I 70 (CH2CH20) z s CH3
Cq F I 70 (CHz CH20) 3 HC
q F l 70 (CH2CHz O) t HCw
F+70(CHzCHzO)sH Cq F + 70 (CHz CHz O) b H
C,F、70(CH2CH20)7H Cq F l 70 (CHz CHz O) s H
Cq F l 70 (CHz CHz O) q H
Cq F l 70 (CHz CH20) + o
HCqF170 (CHzCHzO)+sHCq F
+ 70 (CH2CH20) z。HC9F +70
(CHzCHzO)zsHC9F、□0(CH2CH2
0)3C2H5Cq F l 70 (CHz CH2
0) 4Ca HqCqF 170 (CH2CH2O
)SC3H7C9F + 70 (CHz CHz O
) b Cb H+ +Cq F I ? O(CH2
CHz O) 7 Cz H5C9F+70(CH2C
H20)llc5HI+Cq F 1q O(CHz
CHz O) q Cz HsCq F l 70 (
CHz CHz O) 1o Cb H6Cq F I
70 (CH2CHz O) r s CHz CH
= CHzCqF+’+0(CHzCHzO)z。C,
H5Cq F I 70 (CHz CHz O) z
s C3H7C6F、10(CH2CH,0)3CH
3CbF llO(CHzCHzO)4CH3Cb F
+ + O(CHz CHz O) b HC,F、
、0(CH2CH20)7H これらの非イオン系界面活性剤は内添するのが工程の簡
素化上好ましいが溶液の形で磁性層にトップコートして
用いることもできる。磁性塗布液に内添して使用される
ときの添加される量は、強磁性粉末に対し、0.01w
t%〜10.Owt%が好ましく、より好ましくは、0
.05wt%〜6wt%である。トップコート層として
用いるときは10〜500■/Mの塗布量が好ましく、
より好ましくは20から200■/耐である。
(CH2CH20)、、CH3Cq F I 70 (
CHz CHz O) s CH’5C9F、70(C
H2CH2O)6CH3Cq F + 、0 (CHz
CH20) 7 CH3Cq F + q O(CH
z CHz O) a CH3Cq F I 70 (
CH2CHz O) q CH:+Cq F l 70
(CHz CH20) lo CH3Cq F I
T O(CHz CHz O) + s CH3Cq
F I ? O(CH2CHz O) z。CH3Cq
F I 70 (CH2CH20) z s CH3
Cq F I 70 (CHz CH20) 3 HC
q F l 70 (CH2CHz O) t HCw
F+70(CHzCHzO)sH Cq F + 70 (CHz CHz O) b H
C,F、70(CH2CH20)7H Cq F l 70 (CHz CHz O) s H
Cq F l 70 (CHz CHz O) q H
Cq F l 70 (CHz CH20) + o
HCqF170 (CHzCHzO)+sHCq F
+ 70 (CH2CH20) z。HC9F +70
(CHzCHzO)zsHC9F、□0(CH2CH2
0)3C2H5Cq F l 70 (CHz CH2
0) 4Ca HqCqF 170 (CH2CH2O
)SC3H7C9F + 70 (CHz CHz O
) b Cb H+ +Cq F I ? O(CH2
CHz O) 7 Cz H5C9F+70(CH2C
H20)llc5HI+Cq F 1q O(CHz
CHz O) q Cz HsCq F l 70 (
CHz CHz O) 1o Cb H6Cq F I
70 (CH2CHz O) r s CHz CH
= CHzCqF+’+0(CHzCHzO)z。C,
H5Cq F I 70 (CHz CHz O) z
s C3H7C6F、10(CH2CH,0)3CH
3CbF llO(CHzCHzO)4CH3Cb F
+ + O(CHz CHz O) b HC,F、
、0(CH2CH20)7H これらの非イオン系界面活性剤は内添するのが工程の簡
素化上好ましいが溶液の形で磁性層にトップコートして
用いることもできる。磁性塗布液に内添して使用される
ときの添加される量は、強磁性粉末に対し、0.01w
t%〜10.Owt%が好ましく、より好ましくは、0
.05wt%〜6wt%である。トップコート層として
用いるときは10〜500■/Mの塗布量が好ましく、
より好ましくは20から200■/耐である。
本発明において用いられる放射線照射により硬化可能な
結合剤としては塩化ビニル系重合体の(メタ)アクリレ
ート化物、セルロース系(メタ)アクリレート、ウレタ
ン(メタ)アクリレート、ビニル系モノマーなど、およ
びそれらの混合物がある。
結合剤としては塩化ビニル系重合体の(メタ)アクリレ
ート化物、セルロース系(メタ)アクリレート、ウレタ
ン(メタ)アクリレート、ビニル系モノマーなど、およ
びそれらの混合物がある。
塩化ビニル系重合体の(メタ)アクリレート化物は、例
えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−マレイン酸−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニ
ル−プロピオン酸ビニル−マレイン酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル−マレイン酸共重
合体、塩化ビニリデン−プロピオン酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル
酸−ビニルアルコール共重合体などの塩化ビニル系重合
体のヒドロキシル基もしくはカルボキシル基一部を多官
能イソシアネート(たとえば、2.4−)リレンジイソ
シアネート、2゜6−ドリレンジイソシアネート、1,
3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレン
ジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネー
ト、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレン
ジイソシアネート、3,3−ジメチルフェニレンジイソ
シアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、3.3−ジメチル−4゜4−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイ
ソシアネート、トリメチロールプロパンのトリレンジイ
ソシアネート3付加物等)の1個のNCO基と反応させ
、残るNGO基を(メタ)アクリロイル基を持つ活性水
素化合物(例えば(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)
アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリ
レート類、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(
メタ)アクリルアミドなど)と反応させる方法によって
得ることができる。
えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−マレイン酸−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニ
ル−プロピオン酸ビニル−マレイン酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル−マレイン酸共重
合体、塩化ビニリデン−プロピオン酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−アクリル
酸−ビニルアルコール共重合体などの塩化ビニル系重合
体のヒドロキシル基もしくはカルボキシル基一部を多官
能イソシアネート(たとえば、2.4−)リレンジイソ
シアネート、2゜6−ドリレンジイソシアネート、1,
3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレン
ジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネー
ト、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレン
ジイソシアネート、3,3−ジメチルフェニレンジイソ
シアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、3.3−ジメチル−4゜4−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイ
ソシアネート、トリメチロールプロパンのトリレンジイ
ソシアネート3付加物等)の1個のNCO基と反応させ
、残るNGO基を(メタ)アクリロイル基を持つ活性水
素化合物(例えば(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)
アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリ
レート類、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(
メタ)アクリルアミドなど)と反応させる方法によって
得ることができる。
セルロース系(メタ)アクリレートとしては、セルロー
スナイトレート、セルロースアセテートブチレート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、セルロースジアセ
テートなどのOH基を(メタ)アクリロイル基に変性し
た樹脂が好ましい。
スナイトレート、セルロースアセテートブチレート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、セルロースジアセ
テートなどのOH基を(メタ)アクリロイル基に変性し
た樹脂が好ましい。
好ましい範囲としては、セルロースの重合度で50〜4
00、より好ましくは80〜200である。
00、より好ましくは80〜200である。
この範囲を外れると磁性塗液の粘度が高くなって分散性
が悪化して好ましくない。またベースとなるセルロース
としては、安全性の面からセルロースアセテートプロピ
オネート、セルロースアセテートブチレートが好ましい
。
が悪化して好ましくない。またベースとなるセルロース
としては、安全性の面からセルロースアセテートプロピ
オネート、セルロースアセテートブチレートが好ましい
。
これらのセルロース類の(メタ)アクリレート化合物は
、例えばセルロース類をポリイソシアネート類と反応さ
せた後、さらに2−ヒドロキシエチルアクリレートなど
の前記(メタ)アクリロイル基を有する活性水素化合物
と反応させ、OH基を(メタ)アクリロイル化すること
によって得ることができる。
、例えばセルロース類をポリイソシアネート類と反応さ
せた後、さらに2−ヒドロキシエチルアクリレートなど
の前記(メタ)アクリロイル基を有する活性水素化合物
と反応させ、OH基を(メタ)アクリロイル化すること
によって得ることができる。
ウレタン(メタ)アクリレート類としては、主鎖の骨格
がポリエステル、ポリエーテル、ポリエステルエーテル
いずれでも良く、これらに用いられる二塩基酸の具体例
としてはしゅう酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、
アジピン酸、セバシン酸、ドデカン2酸、マレイン酸、
フマル酸、イタコン酸、トリメチルアジピン酸、ヘキサ
ヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、ナフタリンジカルボン酸な
どが使用できる。二価のアルコールとしては、エチレン
グリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレン
グリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレ
ングリコール、オクタメチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、2.2−ジメチルプロパン−1,3−ジオ
ール、2,2−ジエチルプロパン−1,3−ジオール、
シクロヘキサン−1,3−ジオール、シクロヘキサン−
1,4−ジオール、シクロヘキサン−1,4−ジメタツ
ール、シクロヘキサン−1,3−ジメタツール、2,2
−ビス(4−ヒドロキシエトキシ−シクロヘキシル)プ
ロパン、2.2−ビス(4−ヒドロキシエトキシ−フェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキ
シエトキシ−フェニル)プロパンなどが使用できる。
がポリエステル、ポリエーテル、ポリエステルエーテル
いずれでも良く、これらに用いられる二塩基酸の具体例
としてはしゅう酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、
アジピン酸、セバシン酸、ドデカン2酸、マレイン酸、
フマル酸、イタコン酸、トリメチルアジピン酸、ヘキサ
ヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、ナフタリンジカルボン酸な
どが使用できる。二価のアルコールとしては、エチレン
グリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレン
グリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレ
ングリコール、オクタメチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、2.2−ジメチルプロパン−1,3−ジオ
ール、2,2−ジエチルプロパン−1,3−ジオール、
シクロヘキサン−1,3−ジオール、シクロヘキサン−
1,4−ジオール、シクロヘキサン−1,4−ジメタツ
ール、シクロヘキサン−1,3−ジメタツール、2,2
−ビス(4−ヒドロキシエトキシ−シクロヘキシル)プ
ロパン、2.2−ビス(4−ヒドロキシエトキシ−フェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキ
シエトキシ−フェニル)プロパンなどが使用できる。
また、T−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−
カプロラクトンなどによるラクトン系のポリエステル骨
格を用いることも可能である。ウレタン結合を形成する
イソシアナートとしては、2゜4−トリレンジイソシア
ネート、2,6−トリレンジイソシアネート、■、3−
キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイ
ソシアネート、1.5−ナフタレンジイソシアネート、
m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイ
ソシアネート、3,3−ジメチルフェニレンジイソシア
ネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、
3,3−ジメチル−4,4−ジフェニルメタンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシ
アネート、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシ
アネート3付加物などの多価イソシアネートを使用でき
る。
カプロラクトンなどによるラクトン系のポリエステル骨
格を用いることも可能である。ウレタン結合を形成する
イソシアナートとしては、2゜4−トリレンジイソシア
ネート、2,6−トリレンジイソシアネート、■、3−
キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイ
ソシアネート、1.5−ナフタレンジイソシアネート、
m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイ
ソシアネート、3,3−ジメチルフェニレンジイソシア
ネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、
3,3−ジメチル−4,4−ジフェニルメタンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシ
アネート、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシ
アネート3付加物などの多価イソシアネートを使用でき
る。
また前記二塩基酸、二価アルコールの一部を3価以上の
酸及びアルコールに置き替えてもよい。アクリロイル基
はポリウレタンの末端にあっても側鎖にあってもよい。
酸及びアルコールに置き替えてもよい。アクリロイル基
はポリウレタンの末端にあっても側鎖にあってもよい。
これらの基の導入の方法としては、1)3価以上の酸、
アルコール、イソシアネートの一種以上をウレタン骨格
に組み込み、側鎖にCO□H基、OH基もしくはNGO
基を残留するウレタンに、これらの基と反応しろる(メ
タ)アクリロイル化合物を反応させたり、2)末端にイ
ソシアネート基を有するウレタンに(メタ)アクリロイ
ル基およびOH基をそれぞれ1つ以上有する活性水素化
合物を反応させたりすることなどによって得られる。
アルコール、イソシアネートの一種以上をウレタン骨格
に組み込み、側鎖にCO□H基、OH基もしくはNGO
基を残留するウレタンに、これらの基と反応しろる(メ
タ)アクリロイル化合物を反応させたり、2)末端にイ
ソシアネート基を有するウレタンに(メタ)アクリロイ
ル基およびOH基をそれぞれ1つ以上有する活性水素化
合物を反応させたりすることなどによって得られる。
分子量としては1,000〜100,000であり、好
ましくは2,000〜50,000特に好ましくは3,
000〜30,000である。また(メタ)アクリロイ
ル基の平均含有量としては1分子あたり1.δ〜1oで
あり好ましくは2〜8である。
ましくは2,000〜50,000特に好ましくは3,
000〜30,000である。また(メタ)アクリロイ
ル基の平均含有量としては1分子あたり1.δ〜1oで
あり好ましくは2〜8である。
分子量が1000未満の場合、得られた磁気記録媒体の
磁性層が強くなりすぎ、折曲げたときに割れがはいった
り、また電子線照射後硬化収縮により磁気記録媒体がカ
ールするという問題が発生しやすい。一方分子量が10
0,000を越えるとウレタン(メタ)アクリレートの
溶剤への溶解性が不良となりやすく、取扱に不便となる
のみでなく、磁性体の分散性が悪化したり硬化に多大な
エネルギーを必要とするので好ましくない。
磁性層が強くなりすぎ、折曲げたときに割れがはいった
り、また電子線照射後硬化収縮により磁気記録媒体がカ
ールするという問題が発生しやすい。一方分子量が10
0,000を越えるとウレタン(メタ)アクリレートの
溶剤への溶解性が不良となりやすく、取扱に不便となる
のみでなく、磁性体の分散性が悪化したり硬化に多大な
エネルギーを必要とするので好ましくない。
更に本発明にはビニル系モノマーを添加することができ
る。ビニル系モノマーとしては、放射線照射により重合
可能な化合物であって、炭素−炭素不飽和結合を分子中
に一個以上有する化合物であり、(メタ)アクリル酸エ
ステル類、(メタ)アクリルアミド類、アリル化合物、
ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニル異節環化
合物、N−ビニル化合物、スチレン類、アクリル類、メ
タクリル酸、クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン
類等が例としてあげられる。これらのうち好ましいもの
としてメタクリロイル基を2個以上含む下記の化合物が
あげられる。具体的には、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレートなどのポリエチレングリコールの(メタ)ア
クリレート類、トリメチロールプロパントリ (メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレート、トリス(β−(メタ)アクリロイロキシエ
チル)イソシアヌレート、ビス(β−(メタ)アクリロ
イロキシエチル)イソシアヌレート、あるいはポリイソ
シアネー) (2,4−トリレンジイソシアネート、2
゜6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレン
ジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネー
ト、1.5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニ
レンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネー
ト、3.3−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4
.4−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3−ジ
メチル−4゜4−ジフェニルメタンジイソシアネート、
ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシ
アネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、
トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート3
付加物)と、ヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物(
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシプロピル(メタ)アクリレートなど)との反応化
合物、あるいはその他の2官能以上のポリ (メタ)ア
クリレート類などがある。これらのモノマーは1種でも
よく、また2種以上用いてもよい。
る。ビニル系モノマーとしては、放射線照射により重合
可能な化合物であって、炭素−炭素不飽和結合を分子中
に一個以上有する化合物であり、(メタ)アクリル酸エ
ステル類、(メタ)アクリルアミド類、アリル化合物、
ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニル異節環化
合物、N−ビニル化合物、スチレン類、アクリル類、メ
タクリル酸、クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン
類等が例としてあげられる。これらのうち好ましいもの
としてメタクリロイル基を2個以上含む下記の化合物が
あげられる。具体的には、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレートなどのポリエチレングリコールの(メタ)ア
クリレート類、トリメチロールプロパントリ (メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレート、トリス(β−(メタ)アクリロイロキシエ
チル)イソシアヌレート、ビス(β−(メタ)アクリロ
イロキシエチル)イソシアヌレート、あるいはポリイソ
シアネー) (2,4−トリレンジイソシアネート、2
゜6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレン
ジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネー
ト、1.5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニ
レンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネー
ト、3.3−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4
.4−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3−ジ
メチル−4゜4−ジフェニルメタンジイソシアネート、
ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシ
アネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、
トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート3
付加物)と、ヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物(
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシプロピル(メタ)アクリレートなど)との反応化
合物、あるいはその他の2官能以上のポリ (メタ)ア
クリレート類などがある。これらのモノマーは1種でも
よく、また2種以上用いてもよい。
前記結合剤の組成比の好ましい範囲は塩化ビニル系重合
体の(メタ)アクリレート化物および/あるいはセルロ
ース系(メタ)アクリレートとウレタン(メタ)アクリ
レートの重量比で20/80〜90/10、特に好まし
くは30/70〜80/20である。この比率からはず
れると耐久性が得られない。また、前記ビニルモノマー
の添加量は前記化合物の総和重量部に対して50重量部
以下が好ましい。この比率よりも多いと重合に必
要な電子線量が大きくなって好ましくないし、磁気記
録媒体がカールしたり、あるいは十分な耐久性かえられ
ない。
体の(メタ)アクリレート化物および/あるいはセルロ
ース系(メタ)アクリレートとウレタン(メタ)アクリ
レートの重量比で20/80〜90/10、特に好まし
くは30/70〜80/20である。この比率からはず
れると耐久性が得られない。また、前記ビニルモノマー
の添加量は前記化合物の総和重量部に対して50重量部
以下が好ましい。この比率よりも多いと重合に必
要な電子線量が大きくなって好ましくないし、磁気記
録媒体がカールしたり、あるいは十分な耐久性かえられ
ない。
本発明に用いられる強磁性微粉末としては、強磁性酸化
鉄微粉末、Coドープの強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二
酸化クロム微粉末、強磁性合金粉末、バリウムフェライ
トなどが使用できる。強磁性酸化鉄、二酸化クロムの針
状比は、2/1〜2071程度、好ましくは5/1以上
平均長は0.2〜2.0μm程度の範囲が有効である。
鉄微粉末、Coドープの強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二
酸化クロム微粉末、強磁性合金粉末、バリウムフェライ
トなどが使用できる。強磁性酸化鉄、二酸化クロムの針
状比は、2/1〜2071程度、好ましくは5/1以上
平均長は0.2〜2.0μm程度の範囲が有効である。
強磁性合金粉末は金属分が75wt%以上であり、金属
分の80wt%以上が強磁性金属(即ち、Fe、Co。
分の80wt%以上が強磁性金属(即ち、Fe、Co。
Ni、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co −Ni)
で長径が約1.0μm以下の粒子である。本発明に於て
特に効果的なのは強磁性微粉末のBET比表面積が30
rd/g以上、好ましくは45m′/g以上の微粒子の
強磁性合金粉末である。
で長径が約1.0μm以下の粒子である。本発明に於て
特に効果的なのは強磁性微粉末のBET比表面積が30
rd/g以上、好ましくは45m′/g以上の微粒子の
強磁性合金粉末である。
分散、磁性塗液の塗布に用いる有機溶剤としては、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン系;酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチ
ルエーテル等のエステル系;エチルエーテル、グリコー
ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系;ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼンなどの塩素化炭化水素等が選択して使用できる。
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン系;酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチ
ルエーテル等のエステル系;エチルエーテル、グリコー
ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系;ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼンなどの塩素化炭化水素等が選択して使用できる。
磁性塗液を塗布する支持体の素材としては、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン2,6−ナフタレート
などのポリエステル類;ポリエチレン、ポリプロピレン
などのポリオレフィン類、セルローストリアセテートな
どのセルロースtRN一体、ポリカーボネート、ポリイ
ミド、ポリアミドイミドなどプラスチック、その他に用
途に応じてアルミニウム、銅、錫、亜鉛又はこれらを含
む非磁性合金などの非磁性金属類、アルミニウムなどの
金属を蒸着したプラスチック類も使用できる。
ンテレフタレート、ポリエチレン2,6−ナフタレート
などのポリエステル類;ポリエチレン、ポリプロピレン
などのポリオレフィン類、セルローストリアセテートな
どのセルロースtRN一体、ポリカーボネート、ポリイ
ミド、ポリアミドイミドなどプラスチック、その他に用
途に応じてアルミニウム、銅、錫、亜鉛又はこれらを含
む非磁性合金などの非磁性金属類、アルミニウムなどの
金属を蒸着したプラスチック類も使用できる。
また非磁性支持体の形態はフィルム、テープ、シート、
ディスク、カード、ドラムなどいずれでもよく、形態に
応じて種々の材料が必要に応じて選択される。
ディスク、カード、ドラムなどいずれでもよく、形態に
応じて種々の材料が必要に応じて選択される。
また本発明の支持体は帯電防止、転写防止、ワウフラッ
タ−防止、磁気記録媒体の強度向上、バンク面のマント
化等の目的で、磁性層を設けた側の反対の面(ハック面
)にいわゆるバックコートがなされていてもよい。
タ−防止、磁気記録媒体の強度向上、バンク面のマント
化等の目的で、磁性層を設けた側の反対の面(ハック面
)にいわゆるバックコートがなされていてもよい。
本発明では放射線を、磁性塗料を塗布し、カレンダー処
理を施した後に照射することが好ましいが、照射した後
カレンダー処理することも可能である。あるいは更にも
う一度放射線照射することも可能である。
理を施した後に照射することが好ましいが、照射した後
カレンダー処理することも可能である。あるいは更にも
う一度放射線照射することも可能である。
本発明の磁性層に照射する放射線としては、電子線、γ
線、β線、紫外線などを使用できるが、好ましくは電子
線である。電子線加速器としてはスキャニング方式、ダ
ブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式、ブ
ロードビームカーテン方式などが採用できる。
線、β線、紫外線などを使用できるが、好ましくは電子
線である。電子線加速器としてはスキャニング方式、ダ
ブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式、ブ
ロードビームカーテン方式などが採用できる。
電子線としては、加速電圧が100〜1000KV、好
ましくは150〜300KVであり、吸収線量として1
〜20 M r a d、好ましくは3から15Mra
dである。加速電圧が100KV以下の場合は、エネル
ギーの透過量が不足し、1000KVを越えると重合に
使われるエネルギー効率が低下し経済的で無い。吸収線
量として、IMrad以下では硬化反応が不充分で磁性
層強度が得られず、20 M r a d以上になると
、硬化に使用されるエネルギー効率が低下したり、被照
射体が発熱し、特にプラスティック支持体が変形するの
で好ましくない。
ましくは150〜300KVであり、吸収線量として1
〜20 M r a d、好ましくは3から15Mra
dである。加速電圧が100KV以下の場合は、エネル
ギーの透過量が不足し、1000KVを越えると重合に
使われるエネルギー効率が低下し経済的で無い。吸収線
量として、IMrad以下では硬化反応が不充分で磁性
層強度が得られず、20 M r a d以上になると
、硬化に使用されるエネルギー効率が低下したり、被照
射体が発熱し、特にプラスティック支持体が変形するの
で好ましくない。
以下に本発明を実施例及び比較例により更に具体的に説
明する。以下の実施例及び比較例において「部」はすべ
て「重量部」を示す。
明する。以下の実施例及び比較例において「部」はすべ
て「重量部」を示す。
実施例1
下記組成の磁性塗液をボールミルで50時間混練した。
Fe合金粉末(15000e 、 B
ET表面積50m/g) 100部非イオン
系界面活性剤 C3FI70(CH2CH20)3CH35部結合剤組
成 塩ビー酢ビーマレイン酸共 重合体アクリレート化物 (分子量20 、000、アクリ ロイル基平均含有量2.8 個/分子) 60部エステル系ウレ
タンアクリ レート (分子量8 、000、アクリ ロイル基平均含有量3個 7分子) 40部ステアリン酸
2部Al2O34部 カーボンブランク 10部メチルエチル
ケトン 800部分散後1厚さ10μmのポ
リエチレンテレフタレート支持体に、ドクターブレード
を用いて乾燥膜が3μmになるように塗布しコバルト磁
石を用いて配向させたのち、溶剤を乾燥(100’CI
分間)後カレンダー処理を施した。次いで加速電圧16
5KV、ビーム電流6mAで7 M r a dの吸収
線量になるように電子線を照射した後、1/2インチ幅
にスリットしてビデオ用の磁気テープサンプル隘1を得
た。
系界面活性剤 C3FI70(CH2CH20)3CH35部結合剤組
成 塩ビー酢ビーマレイン酸共 重合体アクリレート化物 (分子量20 、000、アクリ ロイル基平均含有量2.8 個/分子) 60部エステル系ウレ
タンアクリ レート (分子量8 、000、アクリ ロイル基平均含有量3個 7分子) 40部ステアリン酸
2部Al2O34部 カーボンブランク 10部メチルエチル
ケトン 800部分散後1厚さ10μmのポ
リエチレンテレフタレート支持体に、ドクターブレード
を用いて乾燥膜が3μmになるように塗布しコバルト磁
石を用いて配向させたのち、溶剤を乾燥(100’CI
分間)後カレンダー処理を施した。次いで加速電圧16
5KV、ビーム電流6mAで7 M r a dの吸収
線量になるように電子線を照射した後、1/2インチ幅
にスリットしてビデオ用の磁気テープサンプル隘1を得
た。
実施例2
実施例1において非イオン系界面活性剤をCq F +
7(CH2CHzO)tcH3にかえ、その他は実施例
1と同様にして磁気テープサンプルM2を得た。
7(CH2CHzO)tcH3にかえ、その他は実施例
1と同様にして磁気テープサンプルM2を得た。
実施例3
実施例1において非イオン系界面活性剤をC6F +
+ O(CH2CHz O) + o Hにかえ、その
他は実施例1と同様にして磁気テープサンプル11k1
3を得た。
+ O(CH2CHz O) + o Hにかえ、その
他は実施例1と同様にして磁気テープサンプル11k1
3を得た。
比較例1
実施例1において非イオン系界面活性剤をCbFxO(
CH20)、Hにかえ、その他は実施例1と同様にして
磁気テープサンプル隘4を得た。
CH20)、Hにかえ、その他は実施例1と同様にして
磁気テープサンプル隘4を得た。
実施例4
実施例1においてFe合金粉末をBET表面積が30M
のものにかえ、その他は実施例1と同様にして磁気テー
プサンプル隘5を得た。
のものにかえ、その他は実施例1と同様にして磁気テー
プサンプル隘5を得た。
比較例2
実施例4において非イオン系界面活性剤をCq F I
? (C4Hs O) t CH3にかえ、その他は
実施例1と同様にして磁気テープサンプル11h6を得
た。
? (C4Hs O) t CH3にかえ、その他は
実施例1と同様にして磁気テープサンプル11h6を得
た。
実施例5
実施例1においてFe合金粉末をBET表面積が20M
のものにかえ、その他は実施例1と同様にして磁気テー
プサンプル11h7を得た。
のものにかえ、その他は実施例1と同様にして磁気テー
プサンプル11h7を得た。
比較例3
実施例5において非イオン系界面活性剤を加えずに、そ
の他は実施例1と同様にして磁気テープサンプル隘8を
得た。
の他は実施例1と同様にして磁気テープサンプル隘8を
得た。
実施例6
実施例1においてFe合金粉末をBET面積が50m、
Hcが9000eのCoドープ酸化鉄にかえて、その他
は実施例1と同様にして磁気テープサンプル隘9を得た
。
Hcが9000eのCoドープ酸化鉄にかえて、その他
は実施例1と同様にして磁気テープサンプル隘9を得た
。
比較例4
実施例6において非イオン系界面活性剤を加えずに、そ
の他は実施例1と同様にして磁気テープサンプル阻10
を得た。
の他は実施例1と同様にして磁気テープサンプル阻10
を得た。
上記サンプルを下記評価方法にて評価し、その結果を表
1に表した。
1に表した。
評価方法
スチル耐久時間: VHSビデオテープレコーダー(机
下電器産業■製、NV8200)を用いてビデオテープ
(各サンプル)に一定のビデオ信号を記録し、再生した
制止画像が鮮明さを失うまでの時間を示す(実験は5℃
80%RHで行った)。
下電器産業■製、NV8200)を用いてビデオテープ
(各サンプル)に一定のビデオ信号を記録し、再生した
制止画像が鮮明さを失うまでの時間を示す(実験は5℃
80%RHで行った)。
走行耐久性二上記ビデオテープレコーダーにて5℃30
%RH雰囲気で各テープサンプルを1210分長10o
回繰り返し走行させた後のデツキ内のガイドポール及び
シリンダーの汚れを調べ、全く汚れのないものを0、汚
れのあるものをXとした。
%RH雰囲気で各テープサンプルを1210分長10o
回繰り返し走行させた後のデツキ内のガイドポール及び
シリンダーの汚れを調べ、全く汚れのないものを0、汚
れのあるものをXとした。
ビデオS/N :上記ビデオテープレコーダーを使用し
、50%セントアンプの灰色信号を録画し、シバツク製
925C型S/Nメーターでノイズを測定し、サンプル
l1m1から隘4までは阻4を、サンプル隘5と6は隘
6を、サンプル隘7と8は隘8を、サンプル11k19
と10は11hlOを各々OdBとしたときの相対値で
示した。
、50%セントアンプの灰色信号を録画し、シバツク製
925C型S/Nメーターでノイズを測定し、サンプル
l1m1から隘4までは阻4を、サンプル隘5と6は隘
6を、サンプル隘7と8は隘8を、サンプル11k19
と10は11hlOを各々OdBとしたときの相対値で
示した。
本発明の磁気記録媒体は、きわめて優れた走行耐久性お
よびスチル耐久性を示し、良好な電磁変換特性を示す。
よびスチル耐久性を示し、良好な電磁変換特性を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 非磁性支持体と主として放射線照射により硬化可能な化
合物を結合剤として含む磁性層とからなる磁気記録媒体
において、該磁性層が下記一般式で示されるパーフルオ
ロアルケニル基を有する非イオン系界面活性剤を含有し
、更に放射線照射されていることを特徴とする磁気記録
媒体。 Rf−O−(C_nH_2_nO)_m−R[但しRf
:パーフルオロアルケニル基 R:Hまたは置換もしくは未置換の炭化水素基またはア
シル基 n:2または3(これらの混合物であってもよい) m:1〜25]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11844287A JPS63282919A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11844287A JPS63282919A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63282919A true JPS63282919A (ja) | 1988-11-18 |
Family
ID=14736742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11844287A Pending JPS63282919A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63282919A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0633499A1 (en) * | 1993-07-07 | 1995-01-11 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation sensitive resist composition |
-
1987
- 1987-05-15 JP JP11844287A patent/JPS63282919A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0633499A1 (en) * | 1993-07-07 | 1995-01-11 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation sensitive resist composition |
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