JPS63282289A - 電磁波遮蔽用金属格子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般に、電着形成の分野に関し、特に電磁波パ
ルス（Ｅ　Ｍ　Ｐ　）効果を遮蔽する格子を電着形成す
る技術に関する。

〔従来の技術〕

光学的装置に用いられる模様のような正確な模様の電着
形成は、幾つかの方法によって達成されてきた０例えば
、正確な網目模様は、ガラス１材に線を食刻するか或は
線を引くことにより形成された線からなる基本模様の上
に電気メッキし、それら食刻又は引いた線中に導電性材
料を付着させ、電気メッキのための導電性基本模様を形
成することにより製造されてきた。この方法の主な欠点
はガラスを食刻する際の細かさ及び正確さに限界がある
ことである。

模様のついた電着形成用マンドレルを製造するために光
リトグラフ法も用いられてきた０例えば、研摩したステ
ンレス鋼板の如き導電性基材にホトレジストの層を被覆
する。模様状の光マスクをホトレジストの上に置き、次
にそのマスクを通して紫外線に露光し、それによって露
光したホトレジストと未露光ホトレジストからなる模様
を生じさせ、次にそれを現像する。希望の模様が陰画又
は陽画であるのに従って、ホトレジストの露光した部分
又は未露光部分を除去し、基材上に導電性模様を形成す
る０次に電気メツキ法を遂行して、後で基材から剥がす
ことができる導電性模様のレプリカを形成する。

ペイフラニル（Ｂ　ａｋｅｗｅｌｌ）による米国特許第
３．７０３，４５０号には、導電性金属模様、及びその
導電性模様中に介在する間隙中の一酸化珪素付着物の列
で被覆されたガラス板からなる繰り返し使用可能な基本
板上に正確な導電性網目模様を形成する方法が記載され
ている。導電性模様のレプリカは電気メッキによって形
成されている。

ヤコバス（Ｊ　１ｃｏｂｕｓ）による米国特許第３．８
３３，４８２号には、基板、網目模様を定めるホトレジ
スト、及び基板とホトレジストの頂部を覆うシリカ被覆
からなる、微細綱目を形成するためのマトリックスが記
載されている。マトリックスの全表面上に導電性金属の
層をスパッターで形成し、次にマトリックス上のホトレ
ジストの最上表面からその導電性金属を除去する。その
マトリックスは、マトリックス中の凹所に位置する導電
性金属の層上にｔ層形成するのに適している。

フェルトスタイン（Ｆ　ｅｌｄｓｔｅｉｎ）による米国
特許第３，８７８，０６１号には、無機誘電体の層を上
にもつ高度に研串され、変性ドープされた珪素単結晶基
材と、その珪素表面を露出する誘電体被覆中の模様状溝
からなるマトリックスぎ記載されている。

１９８３年１２月に開かれた［航空宇宙飛行体用透明材
料及び包囲体についての協講会Ｊ（Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃ
ｅ　ｏｎＡｅｒｏｓｐａｃｅ　Ｔ　ｒａｎｓｐａｒｅｎ
ｃｅ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　ａｎｄＥ　ｎｃｌｏｓｕｒ
ｅｓ）でのオルソン（Ｏ１ｓｏｎ）その他による［航空
機用透明体のための新しい独特な素子Ｊ　（ＡＮｅｗ　
　ａｎｄ　　Ｕｎｉｑｕｅ　　Ｅ　　ｌｅ輸ｅｎｔ　　
ｆｏｒ　　Ａ　１ｒｃｒａｆｔＴ　ｒａｎｓｐａｒｅｎ
ｃ　１ｅｓ）には、光リトグラフ・化学的処理法により
製造された無数の細い線からなる素子が記載されており
、その方法は、基本模様を作り、その模様の光マスクを
作り、基体の上に導電性金属層を適用し、その金属層に
ホトレジストを被覆し、光マスクを通してホトレジスト
を露光し、そのホトレジストを現像し、基体を食刻剤中
に入れて不必要な材料を除去し、希望の模様だけを残す
諸工程を含み、その模様は加熱素子として使用される。

　電磁波パルス（Ｅ　Ｍ　Ｐ　）及びマイクロ波減衰用
格子は、何年も前から特別な目的の航空機透明体に用い
られてきた。ＥＭＰエネルギーの殆んどは１０　ｋＨｚ
〜１００−Ｈｚの間にあり、そのパルスは短い立ち上が
り時間（数ナノ秒）及び大きなピーク電磁場振幅（５０
ｋＶ／ｍ）をもつ電磁場をｆ？徴とする。

化学的加工によって作られたＥＭＰ格子は、ＥＭＰ減衰
用として受は入れられてきた。然し、そのような粗い線
の直交模様は不均一であり、特に断面が不均一であった
０本発明による電着形成法により製造された微細な線の
直交格子は、均一な殆んど四角な断面をもつ改良された
光学的及び遮蔽特性を有する。

電磁波遮蔽体中の電気的に小さな孔は、電磁波の分極率
に関して最もよく特徴づけられる。電気的に小さな孔は
、関与する最高周波数の波長よりもかなり小さい大きさ
をもつものとして定義することができる。ＥＭＰの場合
、この周波数は１００−Ｈｚ位の大きさであり、３輪の
波長に相当する。

従って、約１／２輪の孔は合理的に小さいと考えること
ができるであろう、典型的な航空機の透明体は、この位
の大きさなので、その透明体に格子を適用することは、
実質的に可視性を損なうことなく、ＥＭＰ遮蔽を与える
ことができる。

孔の分極率は、外部から入射する電磁場を、孔の内側の
電磁場に対する同等の双極子モーメントに関係づける量
である０分極率は孔の大きさ及び形だけに依存するので
、それらは孔の完全な電磁場関係式を定めるのに用いる
ことができる０分極率は孔の直径の３乗に従って変化す
ることが見出だされている。用語［標準化された分極率
」とは、薄い膜又は金属格子を孔の上に置いた時の減衰
効果を述べるのに用いられている。標準化分極率、ａ　
は遮蔽された孔の分極率、ａ、対間いた孔の分極率、ａ
　、の比として定義される。ＥＭＰ遮蔽遮蔽 透体の「遮蔽効率」は、次の式で示されるように標準化
分極率に直接依存する： ２Ｇ　　ｌｏｇ（ａ／ａ　　）＝　　２０　　ｌｏｇ　
　ａ本発明の電着形成法は一層均一な断面をもつ一層細
い線を生ずるので、一層大きな格子密度、即ち与えられ
た表面積中に一層多くの孔を与えることができる。一つ
の孔をＮ個の孔に分割することは透過電磁場を１／Ｎに
減少させるので、遮蔽効率は、本発明の方法により与え
られる一層細い格子線を用いて格子密度を増大すること
により改善される。従来の格子模様の直線を、本発明に
よる非直線状線分で置き換えることにより、曲っな基体
に一致することが出来る改良された光学性をもつ可撓性
格子が製造される。更に、本発明の非直交格子模様は、
複心曲線及び複雑な形に一致できる一層大きな物理的可
視性及び改良された光学的性質を与える。遮蔽された透
明体を通して見る人を当惑させることがある反射性表面
をもつ銅ＥＭＰ遮蔽格子には、本発明に従い、まぶしく
しなくする表面処理が与えられる。

〔本発明の要約〕

本発明は電磁波パルス（ＥＭＰ）遮蔽を与える格子を製
造する電着形成方法を与える。紫外線に透明な基体に、
ＥＭＰ遮蔽格子のために望ましい模様を与え、光マスク
を形成する。導電性表面をもつ基体を電着形成用マンド
レルとして用いる。ホトレジストの連続的層を、マンド
レルの導電性表面上に付着させる。ホトレジストを光マ
スクを通して紫外線に露光する。その模様は、ホトレジ
ストのある部分を露光から遮蔽する働きをする０次にホ
トレジストを現像し、未露光部分を除去して下にある導
電性マンドレル表面を光マスクの模様に相当する導電性
模様状に露出させる。マンドレルを電着形成用溶液中に
浸漬し、電流を適用し、マンドレル上の導電性模様領域
上に金属を電着する。充分な厚さの電着が得られた時、
残りのホトレジストを除去し、電着形成されたＥＭＰ遮
蔽格子をマンドレルから剥がす。

本発明は更に、基体上に用いるための複心曲線或は複雑
な形をした優れた設計をもつ電着形成された格子を与え
るものであり、それは四角な線分を非直線的線分で置き
換えることにより従来の四角な格子模様を変更すること
を含み、その結果格子は、複心曲線又は複雑な形をした
基体に一致させるため、種々の領域或は方向へ延伸及び
収縮を同時に行なうことができる。順応性のある電着形
成された格子は、最後に透明な基体と組み合わされ、最
終的に一致した格子をもつ曲がった透明体を形成する。

本発明は電磁波パルス（Ｅ　Ｍ　Ｐ　）遮蔽を与える格
子を生ずるための優れた非直模様をも与える０本発明の
非直交模様は、屈折干渉模様ビスターバースト（ｓｔａ
ｒｂｕｒｓｔ）”効果］を減少させることにより光学的
性能を°改良しながら、従業の直交格子によって与えら
れるものと同等の遮蔽効果を与える。更に、本発明の非
直交模様は複心曲線状に曲り、複雑な形をした基体に容
易に順応することができる。

本発明は更に、上述の如き適当な形状の格子を電着形成
することにより電磁波パルス（ＥＭＰ）遮蔽を与える格
子を製造するための電着形成法を改良するものである。

金属格子は次に、反射を少なくするため、錫・鉛被覆で
電気メッキされる。最後に酸媒体中で逆の極性の電気化
学的処理を行ない、錫・鉛被覆を暗化及び硬化し、更に
反射を低下させる。

〔好ましい態様についての記述〕

本発明の好ましい態様として、光マスク基本板に電着形
成により製造しようとするＥＭＰ格子の形状を表す模様
が与えられる。導電性表面を有する基体、好ましくはニ
ッケル又はステンレス鋼の板が電着形成用マンドレルと
して用いられる。ホトレジストの連続層をマンドレルの
導電性表面上に適用する。充分な解像力をもつ従来のホ
トレジストは、許容できるものである。

本発明の好ましい態様として、シート状のホトレジスト
をマンドレルの導電性表面に積層する。

ホトレジストを光マスクを通して紫外線に露光し、ホト
レジストの露光した部分を硬化する。光マスクの模様は
、ホトレジストのある部分を露光しないように遮蔽し、
それらの部分を未硬化のままにする。ホトレジストの露
出に続き、もし必要なら後硬化工程に続き、ホトレジス
トを現像する。

ホトレジストは、ホトレジストの未露出未硬化部分を溶
解し、除去する化学的溶液と接触させ、それによって光
マスクの模様の陽画像になる模様をもつ下の導電性膜を
与えるのが好ましい、導電性模様を取り巻くホトレジス
トの残留露光硬化部分は壁を形成し、その中に電着形成
される格子が後で電着される０本発明の別の態様として
、光マスク模様の陰画像になる導電性フィルム模様を形
成するためにポジ型ホトレジストを用いてもよい。

得られる物品は、マンドレルの導電性表面上の模様のレ
プリカである金属ＥＭＰ遮蔽格子を電着形成のためのマ
ンドレルとして用いられる０本発明に従い、マンドレル
表面上の露光した金属模様を、電着形成された格子を後
でマンドレルから剥離し易くするわずかに酸化した表面
を生ずるように処理する。

マンドレルの後側を、模様以外の所に金属が付着しない
ように非導電性材料で被覆する０次にそのマンドレルを
金属含有電着溶液に浸漬する。好ましいＴｈ着溶液は、
ニッケル又は銅の塩、好ましくはスルファミン酸ニッケ
ル又は［酸銅を含む。

導電性マンドレル裏面を陰極とし、電着すべき金属の電
極を陽極として用い、電気回路を構成する。

好ましい陽極はニッケル又は銅からなる。！圧を印加し
、非導電性ホトレジストによって定められた模様状に露
出した導電性マンドレル表面に金属を電着させる。電着
は、電着形成されたＥＭＰ遮蔽格子にとって望ましい厚
さが得られるまで続ける。

ホトレジスト及び電着形成されたＥＭＰ遮蔽格子を有す
る基体を電着溶液から取り出ｂ、電着形成されたＥＭＰ
遮蔽格子をマンドレルから剥がすのは、加熱と冷却と交
互に行なうような種々の方法によって行うことができる
。電着形成されたＥＭＰ遮蔽格子が非常に薄く且つ（又
は）非常に細い線からなるある用途の場合、残留ホトレ
ジストを先ず除去し、好ましくは溶解により除去する０
次に電着形成された格子をマンドレルから持ち上げて離
ｂ、他の用途の場合、電着形成された格子を残留ホトレ
ジストを除去することなくマンドレルから分離し、マン
ドレルを直接再使用できるようにしてもよい、を層形成
されたＥＭＰ遮蔽格子が非常に細い線からなる本発明の
最も好ましい態様の場合、マンドレルから、電着形成さ
れた加熱用素子を分離する好ましい方法は、ホトレジス
トを除去し、電着形成された格子をマンドレル表面から
注意深く引き剥がすことである。

本発明の最も好ましい態様として、光マスクは次のよう
にして製造される。板をハロゲン化銀を含む写真乳剤で
被覆し、それを電着すべき格子の形に基本模様を通して
紫外線に露光する。写真乳剤の露光した領域は潜像を形
成し、その潜像を、ハロゲン化銀をコロイド状銀に変え
る現像溶液中に浸漬することにより現像する。

電着形成用マンドレルはステンレス鋼基材の表面を清浄
化することにより製造されるのが好ましい、ホトレジス
トの連続的層をステンレス鋼シートの導電性表面上に、
好ましくはホトレジストのシートをステンレス鋼の表面
に、例えば、約１１３”Ｃ（２３５″Ｆ）で積層するこ
とにより適用する。約０．０２５ｍｍ（０，０Ｏ１ｉｎ
）の厚さをもつ好ましいホトレジスト層は、カルフォル
ニア州タステインのチオロｌし／ダイナケミ社（Ｔｈｉ
ｏｋｌ／　Ｄｙｎａｃｈｅ＊　Ｃｏｒｐ、　）から入手
できる。そのホトレジストは約２０秒開光マスクを通し
て紫外線に露光し、硬化されるのが好ましい、ホトレジ
ストは、ホトレジストの未露光部分を除去する溶媒によ
って現像し、それによって下にあるステンレス鋼マンド
レル表面上に導電性模様を与える。得られた電着形成用
マンドレルは、好ましくは露出した金属模様にわずかに
酸化された表面を形成するように、好ましくは強酸と接
触させることにより処理し、後の電着形成格子の剥離を
し易くするようにする。

マンドレルは、好ましくは硫酸銅を含む電着形成用溶液
に浸漬し、透明体に適用した時、実質的にＥＭＰ遮蔽を
与える高度に導電性の銅格子を電着形成させるため銅陽
極を用いる０本発明に従って、従来の四角な格子模様を
電着形成してもよいが、改良された光学的性質及び可視
性をもつ非直線状格子が望ましい。

本発明の好ましい態様として、光マスク基本板に、電着
形成により製造すべき順応性のある格子の形状を表す模
様が与えられる０本発明の一つの好ましい態様として、
好ましくは硫酸鋼を含む電着形成用溶液に浸漬し、曲っ
た透明体に実質的なＥＭＰ遮蔽を与える高度に導電性の
順応性のある銅格子を電着形成するため銅陽極を用いる
０本発明の非直線状格子は、ガラス及び（又は）ポリカ
ーボネート及びアクリル系プラスチックの如き硬い透明
なプラスチックの層、好ましくは更にポリビニルブチラ
ール又はポリウレタンの如き弾力性層を有するものとの
積層体として用いるのが好ましい、そのような積層物品
は、特に航空機風防ガラスとして特に有用である。

特に有効な模様は、曲線によって相互に結合された閏じ
た環からなる網状模様である。航空機透明体に積層され
た高度に導電性の金属格子模様は、電子装置のための有
効なＥＭＰ遮蔽と同様優れた光学的性質を示さなければ
ならない、細い線の直交格子模様は、有効なＥＭＰ遮蔽
ｆｆ３Ｂであるが、特に夜見る条件下では、搭乗員にと
って好ましくない光学的変形問題を生ずる。格子模様の
四角な孔によって生ずるフランホオーファー回折干渉縞
は、入射孔から“スターバースト”視覚効果を起す。

本発明の細線非直交格子模様は、一連の連続的相互に結
合した閉じた環状孔、特に円弧、好ましくは対になった
円弧によって相互に結合された円状孔をもつように設計
されている０円状の孔によって生ずるフランホオーファ
ー回折干渉縞は円状に広がり、直交格子による“スター
バースト”模様の如きひどい視覚上の撹乱にはならない
。

更に、円筒表面の如き簡単な湾曲に一致するのに充分な
物理的可視性を有する直交格子は、しわがよったり或は
縮れたりすることなく複心曲線又は複雑な形に一致させ
るのに充分な自由度をもたない、直交格子にとって、機
械的特性及び限界は、薄い平らなシートのものと同じで
ある。直交格子複心曲線状の形をした航空機窓透明体の
ＥＭＰ遮蔽用に用いようとした場合、透明体基体と積層
すると格子はしわがよったり縮れたりする。そのような
用途では、格子は＋　ＥＭＰ遮蔽体として適切に機能を
発揮させるため、非常に限定された誤差をもつ硬い物理
的形状物に接着しなければならない０本発明の非直交格
子模様は、等間隔の四角な格子を、円弧、好ましくは対
になった円弧によって相互に結合された閉じた環、好ま
しくは円の網目状格子で、複心曲線及び複雑な形に容易
に一致する均一な模様になった網目状格子で置き換える
ことにより、機械的特性を薄い平らなシートのものとは
違ったものにしている０本発明の非直交格子模様を用い
ると、積層工程又は成形工程は合理的に均一な成形力″
で達成される。なぜなら、全非直交格子が基体の曲率及
び形に最小のしわで一致するからである。第４図及び第
５図に例示された非直交格子模様は、標準的四角形の格
子模様と比較して、可撓性及び順応性が実質的に増大し
ていることを示している。

本発明の非直交模様は、従来の平らな四角ＥＭＰ格子を
製造するのに用いられているのと゛同じ手順及び方法に
よって製造してもよい、唯一の相異は美術的模様にある
。数学的な算法（ａｇｌｏｒｉｔｈｍ）は、高精度のホ
トプロッターのためのプロット指令を発生するようにコ
ンピューター使用設計（ＣＥＤ）プログラムをつくるた
めの三角関数を用いて規定することができる。ホトプロ
ッターによって生じたフィルムは、光マスクをつくるの
に用いられる美術的模様になる模様状像を含み、その光
マスクはマンドレル上に非直交模様を再生するのに用い
られ、そのマンドレルは今度は非直交格子を製造するた
めの電着形成法で用いられる。

ＥＭＰ遮蔽模様について前に記述した網目模様を生じさ
せるのに用いられる基本的算法は、行列に配列された同
じ大きさの円からなる等間隔に置かれたマトリックスと
して規定される０円の大きさ及びそれらの間の間隔は、
円の半径Ｒ１に関して定められる。水平の行と垂直の列
の両方で中心から中心までの間隔は、Ｒ１の３倍である
のが好ましい、この場合Ｒ，は円の半径Ｒ１でもよい、
マトリックスの交点は前に記述した円である。交点の間
隔（３ＸＲ，）は一定に保たれるが、円の半径（Ｒ５）
は格子の可撓性を変えるため増大又は減少される。同様
に、円弧の曲率半径は、交点間の間隔と同様変えること
ができる。

非直交格子は、透明体に適用された時、“スターバース
ト”模様の如き光学的撹乱を最小にしながら、実質的な
ＥＭＰ遮蔽を与える０本発明の格子の非直交形状は、複
心曲線及び複雑な形のものに、しわ或は縮れを起こすこ
となく重ねることができる０本発明の非直交格子は、ガ
ラス又は、ポリカーボネート及びアクリルプラスチック
の如き硬い透明なプラスチックの層からなる透明体、好
ましくは更にポリビニルブチラール及びポリウレタンの
如き弾力性層をもつ層からなる透明体に積層するのが好
ましい、そのような積層体は特に航空機防風ガラスとし
て有用である。

任意の形状の電着形成された格子は、電気メツキ溶液、
好ましくは従来のハンダ洛中に浸漬し、反射性を減少さ
せるため金属格子表面上に錫・鉛被覆を付着させるのが
好ましい、２５〜３０ａｍｐ／Ｉｋ”の電流密度では、
電気メッキは、約０．１ｍｍ（約０．００４ｉｎ）／時
の速度で進行する。錫・鉛被覆は本来柔らかく、磨いて
露出した領域では、輝いた点が現れる。従って、錫・鉛
で被覆された格子を酸溶液中に浸漬し、逆極性電気化学
的処理にかけ、それによって錫・鉛被覆を暗化し且つ硬
化し、更に反射性を減少させる。錫・鉛被覆は、電着形
成された格子に、改良された光学性と同様、耐食性を与
える６本発明の電着形成された格子は、ガラス（及び）
又はポリカーボネート及びアクリ系プラスチックの如き
硬いプラスチックの層からなる透明体、好ましくはポリ
ビニルブチラール及びポリウレタンの如き弾力性層を更
に有する透明体に積層するのが好ましい、そのような積
層体は特に航空機風防ガラスとして有用である。

本発明は更に次の特別な実施例についての記述から理解
されるであろう。

実施例１ 約０．６１Ｘ０．９１ｍ　（２４Ｘ３６ｉｎ）の大きさ
のステンレス鋼マンドレルを、洗剤及び塩酸を用いて脱
脂し、面を粗くし、そして清浄にする。約０．０３８ｓ
−（０，０Ｏ１５ｉｎ）の厚さのネガ型乾燥ホトレジス
トのシートをマンドレルの表面に積層する。希望のＥＭ
Ｐ格子模様をもつ像状光マスクを、ホトレジストで被覆
したマンドレル表面と接触させて置く、光マスク・マン
ドレル積層体を紫外線照射室中に入れ、ホトレジストを
活性化し、ネガ像を生じさせる。ホトレジストを現像し
、露光した部分を除去し、マンドレル表面上に導電性模
様を生成させる。

模様のついたマンドレルを、３０分間約１２１℃（２５
０下）で加熱し、ホトレジストの接着性を改良した。

冷却後マンドレルの後側、即ちホトレジスト模様を被覆
した側とは反対の側を、その後の面に金属が電着しない
ように非導電性材料を被覆する。

マンドレルを更に１０％塩酸中に３０秒間浸漬し、すす
ぐことにより清浄化した。好ましい逆極性清浄化法は、
マンドレルをアルカリ性清浄化溶液中に浸漬し、後で電
着形成された格子を剥がれ易くする導電性金属模様上の
酸化された表面を形成するために、マンドレルを陽極と
して２分間２アンペアの電流を適用することにより行な
われた。逆極性清浄化に続き、マンドレルを５％硝酸中
に１５分間浸漬し、それからすすいだ。

最後にマンドレルを、好ましくはそのマンドレルと少な
くとも同じ表面積をもつ垂直に配置した陽極の入った電
着形成用溶液中に浸漬する。陰極として働くマンドレル
と、陽極との間に電圧を印加する。陽極からの金属原子
はイオンとして溶液中に入り、溶液からのイオンは、金
属として陰極、即ち導電性マンドレルの表面上に付着す
る。電着形成用溶液は、約２２５ｇ、＃の硫酸銅を含み
、約２１℃（約７０°Ｆ）の外囲温度で用いられた。露
出した金属マンドレル表面について約８０ａｍｐ／ｆｔ
”の電流密度では、銅は約０．７６＋＊論（０，００３
ｉｎ）／時の速度で付着した。電着形成反応は、希望の
銅の厚さが得られるまで続けた。この例では、ホトレジ
ストの厚さは約０．０３８輪輪（０，００１５ｉｎ）、
模様の線の幅は約０．０４３ｍ＋ｍ（０，００１７ｉｎ
）であり、電着形成反応は、銅の厚さが、約０．０４３
輪−（０，００１７ｉｎ）になるまで続け、約０．０５
４−輪（０，００２１ｉｎ＞の最大線幅をもたらした。

電着形成された格子をマンドレルから剥がすため、被覆
されたマンドレルを、ホトレジストをマンドレルの表面
から剥離させる溶媒を含み、好ましくは約５４℃（約１
３０″Ｆ）に加熱された洛中に入れた。を着形成された
格子を次に、後の透明体との積層のため、マンドレル表
面からとり上げる。格子の固有抵抗は、約２２醜Ω／ス
クエアーであった。

電着形成された格子の標準化分極率を、試験材料に対し
電場が垂直で、磁場が平行であるＤＮＡ／ＪＡＹＣＯＲ
二双横断電磁波（Ｔ　Ｅ　Ｍ　）セル中で測定した。二
双ＴＥＭセルは、Ｅ場（電気的）及びＨ場（磁気的）遮
蔽効果の両方についての計算結果が得られるので、殆ん
どの他のＥＭＰ試験装置に対して選択された。標準化分
極率を得るため、測定には、孔内に固体金属遮蔽物を入
れた場合と入れない場合についての前景部ちノイズレベ
ル試験、遮蔽されていない孔の試験及びＥＭＰ遮蔽試料
を適所に入れた場合の試験が含まれる。試料は、接触イ
ンピーダンスが０．１輸Ωより小さくなるように注意し
ながら試験室へ入れた。これらの試験結果を、本発明の
電着形成した格子と従来の化学的に加工した格子とを比
較して、第１図に示す。

実施例２ 約０．６１Ｘ０．９１ｍ　（２４Ｘ３６ｉｎ）の大きさ
のステンレス鋼マンドレルを、洗剤及び塩酸を用いて脱
脂し、面を粗くし、そして清浄にする。約０．０３８ｍ
ｍ（０，０Ｏ１５ｉｎ）の厚さのネガ型乾燥ホトレジス
トのシートをマンドレルの表面に積層する。第２図に示
されているような希望の非直線状格子模様をもつ像状光
マスクを、ホトレジストで被覆したマンドレル表面と接
触させて置く、光マスク及びマンドレルを前の実施例の
如く調製し、スルファミド酸ニッケルを含む電着形成用
溶液中に浸漬し、その結果金属ニッケルをマンドレル表
面上にホトレジストの模様に形成する。電着形成反応は
、希望のニッケルの厚さが得られるまで続けた。この例
では、ホトレジストの厚さは約０．０１３’ｍ＋＊（０
，０Ｏ０５ｉｎ）、線の幅は約０．０３３輪輪（０，０
Ｏ１３ｉｎ）であり、電着形成反応は、ニッケルの厚さ
が約０．０１３輪輪（０，０Ｏ０５ｉｎ）になるまで続
け、約０．０３３ｍｍ　（０，０Ｏ１３ｉｎ）の最大線
幅をもたらした。

電着形成された格子をマンドレルから剥がすため、被覆
されたマンドレルを、ホトレジストをマンドレルの表面
から剥離させる溶媒を含み、好ましくは約５４℃（約１
３０″Ｆ）に加熱された洛中に入れた。電着形成された
格子を次に、後の透明体との積層のため、マンドレル表
面からとり上げる。第２図に例示した模様を非直線状格
子をつくるのに用い、この場合隣接していない半円の頂
部から頂部までの距離は約２　ａｍ（０，０８ｉｎ）で
あり、非直線状線分間の距離は約１　ｍ＋＊（０，０４
ｉｎ）である、ニッケル格子は、約０．２５Ω／スクエ
アーの固有抵抗をもっていた。一 実施例３ 第４図に示した如き非直交格子は次の大きさで設計され
ていた：　　Ｒ＋　＝　０．８４ｍｍ（０，０３３ｉｎ
）、Ｒ２−１，８ｉｉｍ（０，０７１ｉｎ）、　ｆｌ、
＝０．６３５ｍ＋ｉ（０，０２５ｉｎ）であ　リ　、式
中、Ｒ１はマトリックスの間隔を定める円の半径（交点
間の間隔はＲ１の３倍に等しい）であり、Ｒ２は相互に
接続する円弧の曲率半径であり、Ｒコは相互に結合され
た円の半径である。ホトプロットされた美術的模様を光
マスクをつくるのに用い、光マスクはマンドレル上に非
直交模様を再生するのに用い、そのマンドレルは同じ模
様の非直交格子を電着形成するのに用いる。

約０．６１Ｘ０．９１ｍ　（２４Ｘ３６ｉｎ）の大きさ
のステンレス鋼マンドレルを、洗剤及び塩酸を用いて脱
脂し、面を粗くし、そして清浄にする。約０．０３８ｅ
＋ｍ（０，０Ｏ１５ｉｎ）の厚さのネガ型乾燥ホトレジ
ストのシートをマンドレルの表面に積層する。第４図に
例示されているような非直交ＥＭＰ格子模様をもつ像状
光マスクを、ホトレジストで被覆したマンドレル表面と
接触させて置く、光マスク及びマンドレルを前の実施例
の如く調製し、硫酸銅を含む電着形成用溶液中に浸漬し
、その結果金属銅をマンドレル表面上にホトレジストの
非直交模様に形成する。を層形成反応は、希望の銅の厚
さが得られるまで続けた。この例では、ホトレジストの
厚さは約０．０３８ｍｍ（０，００１５ｉｎ）、線の幅
は約０．０４３ｍｍ（０，０Ｏ１７ｉｎ）であり、電着
形成反応は、銅の厚さが約０．０４３ｍｍ（０，００１
７ｉｎ）になるまで続け、約０．０５４ｍｍ（０，００
２１ｉｎ）の最大線幅をもたらした。

電着形成された非直交格子をマンドレルから剥がすため
、被覆されたマンドレルを、ホトレジストをマンドレル
の表面から剥離させる溶媒を含み、好ましくは約５４℃
〈約１３０″Ｆ）に加熱された洛中に入れた。電着形成
された非直交格子を次に、後の透明体との積層のため、
マンドレル表面からとり上げる。

実施例４ 第５図に示す如き非直交格子は、次の大きさをもって実
施例３の場合の如く設計さ°れ、製造された：　　　Ｒ
、−０，８４＋ｉ＋ａ（０，０３３ｉｎ）、　Ｒ２＝　
１．９８ｍｍ（０，０７８ｉｎ）、Ｒｓ＝　０．８４ｍ
ｍ（０，０３３ｉｎ）−この例の非直交格子模様の固有
抵抗は約２４−Ω／スクエアーであった。

実施例３及び実施例４の電着形成された非直交格子の標
準化分極率を、試験材料に対し電場が垂直で、磁場が平
行であるＤＮＡ／ＪＡＹＣＯＲ二双横断電磁波（ＴＥＭ
）セル中で測定した。これらの試験結果を、本発明の実
施例３及び実施例４の電着形成された非直交格子模様の
遮蔽効率（それぞれＡ３及びＡ５）と、従来の電着形成
された直交格子（Ｓ　Ｔ　Ｄ　）とを比較して、第３図
に示す。

実施例５ 約０．６１　Ｘ　０．９１ｍ（２４Ｘ　３６ｉｎ）の大
きさのステンレス鋼マンドレルを、洗剤及び塩酸を用い
て脱脂し、面を粗くし、そして清浄にする。約０．０３
８ｍｍ（０，００１５ｉｎ）の厚さのネガ型乾燥ホトレ
ジストのシートをマンドレルの表面に積層する。希望の
ＥＭＰ格子模様をもつ像状光マスクを、ホトレジストで
被覆したマンドレル表面と接触させて置く、光マスク及
びマンドレルを前の実施例の如く調製し、約２２５ｇ＃
！の硫酸銅を含む；層形成用溶液中に浸漬し、約２１℃
（約７０°Ｆ）の外囲温度で使用した０Ｍ出した金属マ
ンドレル表面について約８０ａｍｐ／ｆｔ”の電流密度
では、銅は約０．７６ｓ＋ｓ＋（約０’、００３ｉｎ）
／時の速度で付着した。を層形成反応は、希望の銅の厚
さが得られるまで続けた。この例では、ホトレジストの
厚さは約０．０３８ｍｍ（０，０Ｏ１５ｉｎ）、模様の
線の幅は約０．０４３ｍｍ（０，０Ｏ１７ｉｎ）であり
、電着形成反応は、銅の厚さが約０．０４３＋ａｍ（０
，０Ｏ１７ｉｎ）になるまで続け、約０．０５４ａｍ　
（０，００２１ｉｎ）の最大＆１幅をもたらした。

電着形成された格子をマンドレルから剥がすため、被覆
されたマンドレルを、剥離用溶液を含み、好ましくは約
５４℃（約１３０”Ｆ　）に加熱した洛中に入れ、それ
によって残留するホトレジストをマンドレルの表面から
剥離させる。電着形成された格子を次に、後の透明体と
の積層のため、マンドレル表面からとり上げる。格子の
固有抵抗は、約２２論Ω／スクエアーであった。格子の
前面は、マンドレルと接触していた表面の反射率より大
きな反射率をもっていた０両方の面の反射率を同等にす
るようなやり方で、錫・鉛の電気メッキ及びそれに続く
逆極性酸処理を行なった。

銅格子を電気メツキ溶液中に浸漬し、錫・鉛被覆を銅の
上に付着させて反射率を低下させる。電気メツキ溶液は
ロードアイランド、プロピデンスのテクニク社（Ｔｅｃ
ｈｎｉｃ、　Ｉ　ｎｅ、）から入手できるような、酸性
水溶液中６０／　４０のｇ／鉛を含む従来のハンダ浴で
ある。その溶液は、フルオロホウ酸第−ｇ、フルオロホ
ウ酸鉛、ホウ酸及び遊離フルオロホウ酸を含み、ｐＨは
０．００２４であった。溶液を約２４〜３８℃（７５〜
１００″Ｔ’）の温度に維持して機械的に撹拌した。１
６ｍｍｐ／　ｆｔ”の電流密度で、錫・鉛電気メッキが
、陽極の方へ格子の前面を向て２分間行なわれた。ｉ−
鉛は格子の全ての表面に付着したが、陽極の方へ向けて
いた表面は一層高度に電気メッキされた。′ｒ４気メツ
メツキ着形成された格子を、次に酸溶液中に浸漬し、逆
極性電気化学的処理にかけ、錫・鉛被覆を暗化し且つ硬
化し、反射率を更に減少させた。溶液は、約０．４〜０
．５８のｐＨで、硫酸水素ナトリウムとアミドスルファ
ミン酸を含んでいた。格子の前面を陰極の方へ向け、格
子を１０ｍｍｐ／ｆｔ”の電流密度で２分間逆極性処理
にかけ、錫・鉛被覆を生じさせたが、それは銅格子の反
射率を低下させるのみならず、腐食に対する保護も同様
に与えた。電気メッキ及び逆極性工程を次に、格子を逆
にして、即ち後の面が最大の処理を受けるようにして繰
り返した。！気メッキを８ａｓｐ／ｆｔ”の電流密度で
１−１／２分間行ない、逆極性酸処理を１０ａａｐ／　
ｆｔ’の電流密度で３０秒間行なった。

上記実施例は本発明を例示するために与えられたもので
ある。他の金属の格子を電着形成するため、種々の電着
形成用溶液を用いることができ、或は種々の形状及び線
密度を、ＥＭＰ遮蔽及び他の目的のために用いることが
できる０例えば、抵抗の大きな格子を加熱用素子として
用いてもよい。

電着形成された格子は透明体として用いるための種々の
材料と組み合わせることができ、透明でない材料に対す
る遮蔽或は加熱を与えるために用いてもよい、順応性の
ある電着形成された格子は曲がった透明体に用いるため
の種々の材料と組み合わせてもよく、透明でない材、料
と共に用いてもよい、電着形成は、本発明の非直交格子
模様を製造するのに好ましい方法であるが、非直交格子
模様によって得られる光学的及び可視性の改良はそれに
よって限定されるものではない０本発明の非直交格子模
様は、ここではＥＭＰ遮蔽に有用なものとして記載され
ているが、それはそのような用途に限定されるものでは
ない０例えば、一層抵抗の大きな非直交金属格子を加熱
素子として用いてもよい、導電性の格子の反射率を低下
する他の金属の電気メッキを行なってもよく、他の化学
的或は電気化学的処理によって更に低下してもよい０本
発明の範囲は特許請求の範囲によって規定されるもので
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明のＥＭＰ３１！蔽格子（ＳＴＤ）の遮
蔽効率と、従来の化学的に加工した格子（Ｂ２）の遮蔽
効率とを比較して示した図であり、Ｈ場（電気的）遮蔽
効率は、第１図の上の方に示されており、Ｈ場（磁気的
）遮蔽効率は、下の方に示されている。 第２図は、従来の四角な格子が、直線線分を、相互に結
合された交互に反転した半円で置き換えることにより変
更された、順応性のある模様を例示した図である。 第３図は、本発明の非直交ＥＭＰ遮蔽格子（Ａ３及びＡ
５）の遮蔽効率を、従来の直交格子（Ｓ　Ｔ　Ｄ　）の
遮蔽効率とを比較して示した図であり、Ｈ場（を気的）
遮蔽は、第３図の上の方に示されており、Ｈ場（磁気的
）遮蔽効率は、下の方に示されている。 第４図は、実施例３に記載した大きさをもつ対になった
円弧によって相互に結合された円の模様を例示した図で
ある。 第５図は、実施例４に記載した大きさをもつ対になった
円χによって相互に結合された円の模様を例示した図で
ある。 代　　理　　人　　　　　浅　　　村　　　　　皓ＦＩ
Ｇ、１ ＦＩＧ、２ ４．００５．００　　６．００　　７．００　　８．０
０　　９．００ＦＩＧ、３ ＦＩＧ、４ ＦＩＧ、５

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. （１）ａ、金属基体にホトレジストと結合することがで
   きる表面を与え、 ｂ、前記金属表面にホトレジストの層を適 用し、 ｃ、前記ホトレジストに、格子模様の像を もつ光マスクを通して紫外線に露光し、ホトレジストの
   未露光部分とは異なった溶解度をもつ露光部分を生じさ
   せ、 ｄ、前記ホトレジストを、その一部分を除 去する溶媒中で現像し、前記金属表面を前記格子模様に
   露出させて電着形成用マンドレルを与え、ｅ、前記電着
   形成用マンドレルの前記露出 した金属表面を酸化し、 ｆ、前記マンドレルを金属イオンを含む溶 液中に浸漬し、 ｇ、陰極としての前記マンドレルと、陽極 との間に電圧を印加し、 ｈ、前記格子模様に露出した金属マンドレ ル表面上に金属を電着し、 ｉ、前記電着された金属格子模様を有する 前記マンドレルを前記溶液から取り出し、そしてｊ、前
   記格子模様を前記マンドレルから剥 がす、 諸工程からなる電磁波パルスの効果を減衰させるための
   、透明体に用いる金属格子の製造方法。
2. （２）前記マンドレルを金属イオン含有溶液に浸漬する
   工程が、スルファミド酸ニッケル及び硫酸銅からなる群
   から選択された金属塩の溶液を用いて達成され、陽極が
   ニッケル及び銅からなる群から選択された金属からなる
   請求項１に記載の方法。
3. （３）ａ、透明な基体、及び ｂ、少なくとも１００個／ｉｎ＾２の孔を有する電着形
   成された金属格子、 からなる電磁波パルスの効果を減衰することができる透
   明物品。
4. （４）電着形成された金属格子が、ニッケル及び銅から
   なる群から選択された金属からなる請求項３に記載の透
   明物品。
5. （５）格子模様が非直線状線分からなる、曲がった透明
   体に用いるための順応性のある金属格子を製造するため
   の請求項１に記載の方法。
6. （６）ａ、曲がった透明基体、及び ｂ、非直線状線分からなる可撓性の電着形 成された金属格子、 からなる曲がった透明物品。
7. （７）ａ、透明基体、及び ｂ、同じ間隔で円弧で結ばれた一連の閉じ た環からなる非直交格子模様、 からなる透明物品。
8. （８）基体が曲がっており、非直交格子模様が導電性金
   属である請求項７に記載の透明物品。
9. （９）金属格子を鉛と錫のイオンを含む溶液中に浸漬し
   、鉛と錫の被覆を前記格子に電気メッキし、そして前記
   錫・鉛被覆を処理してそれを暗化及び硬化し、その反射
   率を低下させる諸工程を更に含む電磁波パルスの効果を
   減衰させるための透明体に用いる金属格子を製造するた
   めの請求項１に記載の方法。
10. （１０）錫・鉛被覆の処理工程が、電気メッキで電着形
    成された格子を酸溶液中に浸漬し、逆の極性の電気化学
    的処理を行なうことによって達成される請求項９に記載
    の方法。。
11. （１１）ａ、透明基体、 ｂ、電着形成された金属格子、及び ｃ、前記電着形成された金属格子上の電気 メッキされた非反射性被覆、 からなる電磁波パルスの効果を減衰することができる透
    明物品。
12. （１２）電着形成された金属格子が、ニッケル及び銅か
    らなる群から選択された金属からなり、電気メッキされ
    た被覆が錫と鉛からなる請求項１１に記載の透明物品。