JPS63276897A - 薄膜el表示素子 - Google Patents

薄膜el表示素子

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Publication number
JPS63276897A
JPS63276897A JP62111214A JP11121487A JPS63276897A JP S63276897 A JPS63276897 A JP S63276897A JP 62111214 A JP62111214 A JP 62111214A JP 11121487 A JP11121487 A JP 11121487A JP S63276897 A JPS63276897 A JP S63276897A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
film
transparent
electrode film
display element
Prior art date
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Pending
Application number
JP62111214A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Mimori
健一 三森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
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Publication of JPS63276897A publication Critical patent/JPS63276897A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、蛍光体材料に電界を印加させて発光さけるよ
うにした薄膜EL表示素子に関する。
〔従来技術とその問題点〕
近年、l膜EL表示素子は、各種装置のディスプレイに
応用されつつある。従来の一般的な薄膜EL表示素子は
、第3図に示すように、透明ガラス基板1上に、透明型
8iWA2と絶縁膜3とEL1発光膜1と絶縁膜5と対
向電極膜6とが順次積層された2重絶縁型6FII4構
造で構成されている。この薄膜EL表示素子は、透明電
極膜2と対向電極膜6との間に数10H2から数に11
2の交流電界を印加することにより、EL発光膜4の活
性種イオンが励起され、発光するようになっている。
しかしながら、従来の薄膜EL表示素子は、第4図に示
すように、透明電極膜2と対向電極PIA6との交叉す
る部分にて絶縁破壊部7が一部に発生し、この絶縁破壊
部7においては、対向電極膜6が除去されて断線状態と
なり、点灯部6aは発光するものの、点灯部6b、6c
を含む他の多くの点灯部は非発光状態となる。そのため
、輝度むら等が生じ正常なEL発光が得られなかった。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、輝度
むらのない信頼性の高い1ill[lEL表示素子を提
供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は透明基板上に、少なくとも透明電極膜と絶縁膜
と21発光膜と対向電極膜とを備えた薄膜E1表示素子
において、前記透明電極膜と対向電極膜とが相互に対向
していない部分にて少なくとも前記一方の電極膜と電気
的に接続され、かつ他方の電極膜と交叉して連続配線さ
れているバイパス電極が設けられ、少なくとも前記バイ
パス電極の他方の電極膜と相互に対向する部分には、絶
縁保護膜が形成されていることを特徴とする。
このように、本発明では、バイパス電極が少なくとも透
明電極膜または対向電極膜のいずれかに設けられ、透明
電極膜側の場合にはこのバイパス電極上に絶縁保護膜が
形成されているので、バイパス電極の絶縁破壊は防止さ
れ仮に透明電極膜と対向m極膜とが相互に対向している
表示セグメント部にて絶縁破壊が発生して、電極膜の断
線が生じても他の表示セグメント部への電圧印加が断た
れることがなく、輝度むらを抑制することができる。
本発明によるwJIIEL表示素子は、例えば次のよう
にして製造される。まず、ガラス等の透明基板上に、例
えばInz 03−8nOz系の透明電極膜をスパッタ
リングや真空WSS演法より所定形状パターン成膜する
。次にこの透明基板上に例えばM。
NL、 1%、 TL、 Ta等の低比抵抗の金属等か
らなるバイパス電極をスパッタリングや真空熱@法によ
り所定形状に成膜する。そして、前記バイパス電極上に
例えばTa205 、 stc、 SL3 N4 、5
iOz 。
Y2O3等の金属酸化物、金属窒化物、金属炭素化物等
からなる絶縁保護膜をスパッタリング法などにより形成
する。
次にこの透明基板上に例えばTa205 、 SLC。
SL2 N4 、5tOz 、 Y20s等の金mlI
!!化物、金属窒化物、金属炭素化物等からなる絶縁膜
をスパッタリング法などにより形成する。そして、上記
絶縁膜上に、各種付活剤をドープした硫化亜鉛などから
なる21発光膜をスパッタリング法などにより形成し、
さらに、上記と同様な絶RW4を形成し、最後にアルミ
ニウムなどからなる対向電極膜を形成してMIIIEL
表示素子を得ることができる。
(実施例) 第1図および第2図には、本発明によるEL発光素子の
実施例が示されている。
すなわち、第1図および第2図に示すように、透明ガラ
ス基板1の上にInz 0x−8nOz系の透明電極膜
2をスパッタリング法により形成する。
ざらにこの透明ガラス基板1の上にNからなる厚さ約2
000人のバイパス電極8をスパッタリング法により形
成する。次に前記バイパス電極8の上にSL Ozから
なる厚さ約3000人の絶縁膜11119をスパッタリ
ング法によって被覆して形成する。・次にTazOsか
らなる厚さ約3000人の絶縁膜10と、マンガンをド
ープした硫化亜鉛からなるEL発光!111と、Ta2
esからなる厚さ約3000.Aの絶縁5112と、M
からなる対向電極膜13とをスパッタリング法により順
次積層して形成する。
こうして得たMWAEL表示素子は、少なくとも透明電
極膜か対向電極膜のいずれかにバイパス電極が鰻けられ
、このバイパス電極に絶縁保護膜が形成されているので
、バイパス電極の絶縁破壊は防止され、仮に透明電極膜
と対向電極膜とが相互に対向している表示セグメント部
にて絶縁破壊が発生して、Wi電極膜断線が生じても他
の表示セグメント部への電圧印加が断たれることがなく
、輝度むらを抑制することができる。
なお、上記実施例においては、バイパス電極8は透明ガ
ラス基板1上に透明電極膜2と電気的に接続して設けら
れているが、バイパス電極8を対向電極膜13側に該対
向電極1113と電気的に接続して設けてもよい。そし
て、この例においてはバイパス電極の少なくとも透明電
極膜と相互に対向する部分は絶縁保護膜がバイパス電極
の下部に形成されている。
(発明の効果〕 以上説明したように、本発明によれば、透明電極膜と対
向N極膜とが相互に対向していない部分にて少なくとも
前記一方の電極膜と電気的に接続され、かつ他方の電極
膜と交叉して連続配線されているバイパス電極が設けら
れ、少なくとも前記バイパス電極の他方の電極膜と相互
に対向する部分には、絶縁保護膜が形成されているので
バイパス電極の絶縁破壊は防止されて断線することがな
く、絶縁破壊による表示欠陥が生じてもその拡大が抑制
され、輝度むらのない高品位の薄1!1IEL表示素子
を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による薄膜E1表示素子の一実施例を示
す断面図、第2図は同薄膜EL表示素子の透明電極膜お
よびバイパス電極と対向電極膜との交叉状態を示す平面
図、第3図は従来の薄膜EL表示素子の一例を示す断面
図、第4図は同薄膜EL表示素子の絶縁破壊状態を示す
平面図である。 1・・・・・・透明ガラス基板、 2・・・・・・透明電極膜、 8・・・・・・バイパス電極、 9・・・・・・絶縁保護膜、 10.12・・・・・・絶縁膜、 11・・・・・・EL発光膜、 13・・・・・・対向電極膜。 出願人  アルプス電気株式会社 〜 QG’)  −

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  透明基板上に、少なくとも透明電極膜と絶縁膜とEL
    発光膜と対向電極膜とを備えた薄膜EL表示素子におい
    て、前記透明電極膜と対向電極膜とが相互に対向してい
    ない部分にて少なくとも前記一方の電極膜と電気的に接
    続され、かつ他方の電極膜と交叉して連続配線されてい
    るバイパス電極が設けられ、少なくとも前記バイパス電
    極の他方の電極膜と相互に対向する部分には、絶縁保護
    膜が形成されていることを特徴とする薄膜EL表示素子
JP62111214A 1987-05-07 1987-05-07 薄膜el表示素子 Pending JPS63276897A (ja)

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