JPS63274470A - 薄膜被覆金属線の製造法 - Google Patents
薄膜被覆金属線の製造法Info
- Publication number
- JPS63274470A JPS63274470A JP11135287A JP11135287A JPS63274470A JP S63274470 A JPS63274470 A JP S63274470A JP 11135287 A JP11135287 A JP 11135287A JP 11135287 A JP11135287 A JP 11135287A JP S63274470 A JPS63274470 A JP S63274470A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- low
- temp
- plasma
- thin film
- metal wire
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 24
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- -1 polyethylene Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 abstract description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 abstract description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 5
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- QYKABQMBXCBINA-UHFFFAOYSA-N 4-(oxan-2-yloxy)benzaldehyde Chemical compound C1=CC(C=O)=CC=C1OC1OCCCC1 QYKABQMBXCBINA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Processes Specially Adapted For Manufacturing Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は被覆金属線、特に非命Ｍ薄膜被覆金属線の製造
法に関するものである。
法に関するものである。
従来、電線等、金属線を非金属物質で被覆するのによく
用いられている方法としては、押し出し法と塗布法があ
る。
用いられている方法としては、押し出し法と塗布法があ
る。
押し出し法は、有機高分子材料で被覆するのに通した方
法で、加熱されて熔融状態にある材料を金属線の表面上
に押し出した後、冷却固化させて被覆金属線を作る方法
である。
法で、加熱されて熔融状態にある材料を金属線の表面上
に押し出した後、冷却固化させて被覆金属線を作る方法
である。
また塗布法は、有機高分子材料のみでなく無機材料を被
覆する場合にも用いられる方法で、被覆しようとする材
料を塗布するのに適した粘度を持つ状態に調整して、金
属線に塗布し、その後窩部での乾燥、あるいは熱処理に
よる焼付を行なうものである。
覆する場合にも用いられる方法で、被覆しようとする材
料を塗布するのに適した粘度を持つ状態に調整して、金
属線に塗布し、その後窩部での乾燥、あるいは熱処理に
よる焼付を行なうものである。
しかるに、押し出し法においては、被覆可能な材料は熔
融粘度が押し出しに通した値を与える有機高分子材料に
限定されてしまうし、さらにミクロンオーダーの薄膜被
覆は極めて困難である。
融粘度が押し出しに通した値を与える有機高分子材料に
限定されてしまうし、さらにミクロンオーダーの薄膜被
覆は極めて困難である。
塗布法は塗布に蓮する粘度調整のため、大抵の場合溶剤
あるいは分散媒を必要とし、塗布後の乾燥や焼付処理に
多大の時間とエネルギーを必要とする。さらに、押し出
し法に比較すれば薄い被覆膜を形成し易いが、それでも
ミクロンオーダーでの均−ａｔ膜被覆は容易ではない。
あるいは分散媒を必要とし、塗布後の乾燥や焼付処理に
多大の時間とエネルギーを必要とする。さらに、押し出
し法に比較すれば薄い被覆膜を形成し易いが、それでも
ミクロンオーダーでの均−ａｔ膜被覆は容易ではない。
本発明の目的は、前記した従来技術の欠点を解消し除く
の被覆材料を用いることができ、かつ効率的なミクロン
オーダーの薄膜被覆を行う新規の薄膜被覆金属線の製造
法を提供することにある。
の被覆材料を用いることができ、かつ効率的なミクロン
オーダーの薄膜被覆を行う新規の薄膜被覆金属線の製造
法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕本発明の要旨
は、金属線の被覆法として低温プラズマ法を用いたこと
にあり、それによって被覆材料の選択の範囲と被覆薄膜
の均一性を大幅に向上させたものである。
は、金属線の被覆法として低温プラズマ法を用いたこと
にあり、それによって被覆材料の選択の範囲と被覆薄膜
の均一性を大幅に向上させたものである。
即ち、本発明の目的は金属線を気体状の有機又は無機化
合物もしくはこれらの混合気体の低温プラズマに暴露し
て、金属線の表面を非金属で被覆することを特徴とする
薄膜被覆金属線の製造法によって達成される。
合物もしくはこれらの混合気体の低温プラズマに暴露し
て、金属線の表面を非金属で被覆することを特徴とする
薄膜被覆金属線の製造法によって達成される。
尚、本発明においては前記金属線は低温プラズマ放電区
間を金属線が通過する前又は後に加熱されたものである
ことが好ましい。
間を金属線が通過する前又は後に加熱されたものである
ことが好ましい。
本発明における気体状の有機又は無機化合物は、それ自
体が常温で気体であるようなメタン、エタン、エチレン
、アセナレン等の炭化水素や四弗化メタンのようなハロ
ゲン化物、さらには各種高分子の構成上ツマ−であるビ
ニル−？ルコールやメタクリレート等があげられる。こ
れらに加えるに常温では液体で拳気圧があまり高くない
ヘキサン。
体が常温で気体であるようなメタン、エタン、エチレン
、アセナレン等の炭化水素や四弗化メタンのようなハロ
ゲン化物、さらには各種高分子の構成上ツマ−であるビ
ニル−？ルコールやメタクリレート等があげられる。こ
れらに加えるに常温では液体で拳気圧があまり高くない
ヘキサン。
トルエン等はアルゴンのようなキアリアガス用いること
により混合気体として利用できる。
により混合気体として利用できる。
又さらに、非金属元素を含む有機化合物、たとえばテト
ラメトキシシラン等の化合物も利用できる。また四水素
化シリコンのような、無機化合物も利用できる。
ラメトキシシラン等の化合物も利用できる。また四水素
化シリコンのような、無機化合物も利用できる。
本発明における低温プラズマ法とは、別名プラズマＣＶ
Ｄ（Ｃｈｅ＋ｎ１ｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔ
ｉｏｎ）と呼ばれ２種類の気体積が放電によって発生し
たプラズマによって反応し新しい固体積と、別の気体積
を生成することを言う０本発明の場合はこの固体積を電
線上に被覆することになる。
Ｄ（Ｃｈｅ＋ｎ１ｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔ
ｉｏｎ）と呼ばれ２種類の気体積が放電によって発生し
たプラズマによって反応し新しい固体積と、別の気体積
を生成することを言う０本発明の場合はこの固体積を電
線上に被覆することになる。
被覆する被膜は非常に薄いので、所望の厚さにするため
には、適当回ｍ！返し低温プラズマにかけることを行う
。プラズマ装置としては高周波発生装置とマイクロ波発
生装置とがあり、どちらを使用してもよい。
には、適当回ｍ！返し低温プラズマにかけることを行う
。プラズマ装置としては高周波発生装置とマイクロ波発
生装置とがあり、どちらを使用してもよい。
本発明による薄膜被覆金属線の製造法の１実施例を示す
、第１図において、低温プラズマ発生部２にガス人口３
よりエチレンとアルゴンの１＝１混合気体を毎分５０ｍ
／流入させ、一方ガス出口４より反応後の気体を排気し
、低温プラズマ発生部内２の圧力が０ 、 ５ Ｔｏｒ
ｒになっている状態で、高周波発生装置１を駆動し、４
０Ｗの電力で低温プラズマを発生させた。この状態で直
径ｌ■ｌの銅線を第１図において下から上へ毎分５ｍの
速度で動かした。加熱部６を通過する際の銅線の最高温
度が１３０℃になるように加熱用ヒータ５を調節し、低
温プラズマ発生部２と加熱部６を繰り返し２０回通過さ
せたところ銅線は２μｍの厚さのプラズマ重合ポリエチ
レンで均一に被覆された。
、第１図において、低温プラズマ発生部２にガス人口３
よりエチレンとアルゴンの１＝１混合気体を毎分５０ｍ
／流入させ、一方ガス出口４より反応後の気体を排気し
、低温プラズマ発生部内２の圧力が０ 、 ５ Ｔｏｒ
ｒになっている状態で、高周波発生装置１を駆動し、４
０Ｗの電力で低温プラズマを発生させた。この状態で直
径ｌ■ｌの銅線を第１図において下から上へ毎分５ｍの
速度で動かした。加熱部６を通過する際の銅線の最高温
度が１３０℃になるように加熱用ヒータ５を調節し、低
温プラズマ発生部２と加熱部６を繰り返し２０回通過さ
せたところ銅線は２μｍの厚さのプラズマ重合ポリエチ
レンで均一に被覆された。
低温プラズマ発生装置としては、高周波発生装置だけで
はなく、マイクロ波発生装置も利用できる。加熱のため
にはヒータではなく誘導加熱法を利用してもよい。
はなく、マイクロ波発生装置も利用できる。加熱のため
にはヒータではなく誘導加熱法を利用してもよい。
以上述べたように本発明の金属線を気体状の有機又は無
機化合物もしくはこれらの混合気体の低温プラズマに暴
露して、金属線の表面を非金属で被覆することを特徴と
する薄膜被覆金属線の製造法によれば、低温プラズマ法
の利用により、従来は被覆に使用できなかった多数の材
料が利用可能になり、かつ低温プラズマによる金属線の
被覆の前又は後で加熱処理することにより金属線と被覆
材料との密着性を強固にし、さらに連続繰り返し処理が
出来る装置を用いることによりミクロンオーダーの被覆
厚をもつ長尺の均−薄膜被覆金属線が製造できる。
機化合物もしくはこれらの混合気体の低温プラズマに暴
露して、金属線の表面を非金属で被覆することを特徴と
する薄膜被覆金属線の製造法によれば、低温プラズマ法
の利用により、従来は被覆に使用できなかった多数の材
料が利用可能になり、かつ低温プラズマによる金属線の
被覆の前又は後で加熱処理することにより金属線と被覆
材料との密着性を強固にし、さらに連続繰り返し処理が
出来る装置を用いることによりミクロンオーダーの被覆
厚をもつ長尺の均−薄膜被覆金属線が製造できる。
第１図は本発明による薄膜被覆金属線の製造法の１実施
例を示す工程図である。 ｌ・・・高周波発生装置、 ２・・・低温プラズマ発生部。 ３・・・ガス入口、 ４・・・ガス出口。 ５・・・加熱用ヒータ、 ６・・・加熱部。 ７・ ・ ・プーリ、 ８・・・金属線長さ調節器、 ９・・・金属線。 第 １回
例を示す工程図である。 ｌ・・・高周波発生装置、 ２・・・低温プラズマ発生部。 ３・・・ガス入口、 ４・・・ガス出口。 ５・・・加熱用ヒータ、 ６・・・加熱部。 ７・ ・ ・プーリ、 ８・・・金属線長さ調節器、 ９・・・金属線。 第 １回
Claims (2)
- （１）金属線を気体状の有機又は無機化合物もしくはこ
れらの混合気体の低温プラズマに暴露して金属線の表面
を非金属で被覆することを特徴とする薄膜被覆金属線の
製造法。 - （２）前記金属線が、低温プラズマ放電区間を金属線が
通過する前又は後に加熱されたものであることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の薄膜被覆金属線の製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11135287A JPS63274470A (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | 薄膜被覆金属線の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11135287A JPS63274470A (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | 薄膜被覆金属線の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63274470A true JPS63274470A (ja) | 1988-11-11 |
Family
ID=14559019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11135287A Pending JPS63274470A (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | 薄膜被覆金属線の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63274470A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021122007A (ja) * | 2016-04-01 | 2021-08-26 | ゲバウアー・アンド・グリラー・メタルベルク・ゲーエムベーハーGebauer & Griller Metallwerk GmbH | 絶縁導電体 |
-
1987
- 1987-05-07 JP JP11135287A patent/JPS63274470A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021122007A (ja) * | 2016-04-01 | 2021-08-26 | ゲバウアー・アンド・グリラー・メタルベルク・ゲーエムベーハーGebauer & Griller Metallwerk GmbH | 絶縁導電体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4491496A (en) | Enclosure for the treatment, and particularly for the etching of substrates by the reactive plasma method | |
| TWI805753B (zh) | 用於電性連接器之奈米塗層保護方法 | |
| US4701345A (en) | Process for applying polymeric coatings, and resulting coated articles | |
| US5364665A (en) | Method for rapid plasma treatments | |
| RU2608482C1 (ru) | Химическое осаждение из газовой фазы фторуглеродных полимеров | |
| JPS60181274A (ja) | 基板に被着を行なう装置および方法 | |
| US3415683A (en) | Corona discharge coating processes | |
| JPS63274470A (ja) | 薄膜被覆金属線の製造法 | |
| Yartaşı et al. | Plasma enhanced chemical vapor deposition of poly (Cyclohexyl Methacrylate) as a sacrificial thin film | |
| JPS6314421A (ja) | プラズマｃｖｄ方法 | |
| JPS5826045A (ja) | 光フアイバの製造方法および装置 | |
| JPS63274471A (ja) | 薄膜被覆金属線の製造法 | |
| JPH01119662A (ja) | 有機物薄膜の製造法 | |
| JPH0248626B2 (ja) | Hakumakukeiseihohotosonosochi | |
| JPS6116285B2 (ja) | ||
| JPH06200217A (ja) | フッ素樹脂粘着テープの製造方法 | |
| JPS6047004A (ja) | 有機物粉体の製造方法 | |
| JPS5935674A (ja) | 蒸着装置 | |
| KR100529553B1 (ko) | 전도성 고분자 합성방법 및 그 장치 | |
| US3434868A (en) | Silicon dioxide coatings utilizing a plasma | |
| JPH03100175A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH02115363A (ja) | プラスマ処理−真空蒸着装置 | |
| JPS63118076A (ja) | 連続プラズマｃｖｄ法 | |
| JPH0334817A (ja) | 環状フィルムの製造方法 | |
| Siffer et al. | Alkene Pulsed Plasma Functionalized Surfaces: An Interfacial Diels-Alder Reaction Study |