JPS63274445A - 粉体の処理装置 - Google Patents
粉体の処理装置Info
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- JPS63274445A JPS63274445A JP11117387A JP11117387A JPS63274445A JP S63274445 A JPS63274445 A JP S63274445A JP 11117387 A JP11117387 A JP 11117387A JP 11117387 A JP11117387 A JP 11117387A JP S63274445 A JPS63274445 A JP S63274445A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
- B01J13/02—Making microcapsules or microballoons
- B01J13/04—Making microcapsules or microballoons by physical processes, e.g. drying, spraying
- B01J13/043—Drying and spraying
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Glanulating (AREA)
- Manufacturing Of Micro-Capsules (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は粉体の処理装置に関する。
医薬品工業、肥料工業、食品工業等では、粉体に水やバ
インダー溶液等の処理剤を噴霧して、該粉体を造粒、コ
ーティング及び/又は調湿することが行なわれるが、こ
れらの処理操作に際しては得られる製品が物理的にもま
た化学的にも均質なものであることが要請される。特に
近年の高技術製品時代では、かかる要請が一層強い。
インダー溶液等の処理剤を噴霧して、該粉体を造粒、コ
ーティング及び/又は調湿することが行なわれるが、こ
れらの処理操作に際しては得られる製品が物理的にもま
た化学的にも均質なものであることが要請される。特に
近年の高技術製品時代では、かかる要請が一層強い。
本発明は上記のような要請に応える粉体の処理装置に関
するものである。
するものである。
〈従来の技術、その問題点〉
従来、粉体の造粒及び/又はコーティング装ことして種
々多様の装置が提案されており、具体的使用に際してそ
の目的との関係で機種選択が行なわれているが、これら
の中で最も一般的な装置が流動層を利用した装置である
。該装置は、熱風で粉体を流動化させつつスプレーノズ
ルの如き噴霧部材から処理剤を散布して、該粉体を造粒
処理し、更にはコーティング処理するものである。そし
てかかる装置には、粉体に循環流を加えたり、或は処理
剤を散布すると同時に乾燥するというような改良型もあ
る。
々多様の装置が提案されており、具体的使用に際してそ
の目的との関係で機種選択が行なわれているが、これら
の中で最も一般的な装置が流動層を利用した装置である
。該装置は、熱風で粉体を流動化させつつスプレーノズ
ルの如き噴霧部材から処理剤を散布して、該粉体を造粒
処理し、更にはコーティング処理するものである。そし
てかかる装置には、粉体に循環流を加えたり、或は処理
剤を散布すると同時に乾燥するというような改良型もあ
る。
ところが、流動層を利用する上記従来装置には、次のよ
うな問題点がある。
うな問題点がある。
り専ら気体の吹き込みによって粉体を流動化させる装置
であるため、大量の気体が必要である。
であるため、大量の気体が必要である。
2)粉体の流動層形成には該粉体の粒径が大きく関与す
るのであるが、原料となる粉体の粒径には相応のバラツ
キがあり、専ら気体の吹き込みによって粉体を波動化さ
せる装置では、大粒径の粉体を流動化させようとすると
小粒径の粉体が飛散してしまい、逆に小粒径の粉体を流
動化させようとすると大粒径の粉体の流動化が困難にな
る。特に、造粒にともなって粒径のバラツキが大きくな
ると、全体の流動化が一層困難になる。そして、全体の
流動化が困難になると、得られる製品もそれだけ物理的
にまた化学的に不均質なものになってしまう。
るのであるが、原料となる粉体の粒径には相応のバラツ
キがあり、専ら気体の吹き込みによって粉体を波動化さ
せる装置では、大粒径の粉体を流動化させようとすると
小粒径の粉体が飛散してしまい、逆に小粒径の粉体を流
動化させようとすると大粒径の粉体の流動化が困難にな
る。特に、造粒にともなって粒径のバラツキが大きくな
ると、全体の流動化が一層困難になる。そして、全体の
流動化が困難になると、得られる製品もそれだけ物理的
にまた化学的に不均質なものになってしまう。
3)専ら気体の吹き込みによって粉体を流動化させる装
置では、該粉体が30IL■以下の微粉であると、その
流動化自体が困難である。
置では、該粉体が30IL■以下の微粉であると、その
流動化自体が困難である。
〈発明が解決しようとする問題点、その解決手段〉
本発明は叙上の如き従来の問題点を解決する新たな処理
装置を提供するものである。
装置を提供するものである。
しかして本発明は、
1〜数個の振動発生源を装備する容器がある種の自由運
動を与えられるように1〜数個のスプリングの如き弾性
体で支持されており、該容器には原料供給口と製品排出
口とが開設され、更に該容器内には噴霧部材と気体分散
材とが装着されていて、振動発生源を稼動させて容器を
振動させ、併せて気体分散材を介し容器内へ気体を吹き
込むことによ・す、原料供給口から供給した粉体を流動
化させつつ、噴霧部材から処理剤を散布して該粉体を造
粒、コーティング及び/又は調湿するように構成してな
る粉体の処理装置に係る。
動を与えられるように1〜数個のスプリングの如き弾性
体で支持されており、該容器には原料供給口と製品排出
口とが開設され、更に該容器内には噴霧部材と気体分散
材とが装着されていて、振動発生源を稼動させて容器を
振動させ、併せて気体分散材を介し容器内へ気体を吹き
込むことによ・す、原料供給口から供給した粉体を流動
化させつつ、噴霧部材から処理剤を散布して該粉体を造
粒、コーティング及び/又は調湿するように構成してな
る粉体の処理装置に係る。
本発明において肝要な点は、従来の流動層装置では流動
化が不可能といわれる微粒の粉体であっても、更には粒
径に相応のバラツキを有する粉体であっても、該粉体に
ある種の自由運動を与える振動を加え、併せて該粉体に
分散気体を下方から吹き込むと、該粉体は、バブリング
やスラッギングの少ない、あたかも液体の如き安定した
流動層を形成するという特有の現象を活用し、かかる現
象下、該流動層を形成している均質な分散状態の粉体に
噴′R部材から処理剤を散布して該粉体を造粒、コーテ
ィング及び/又は調湿する処にある。
化が不可能といわれる微粒の粉体であっても、更には粒
径に相応のバラツキを有する粉体であっても、該粉体に
ある種の自由運動を与える振動を加え、併せて該粉体に
分散気体を下方から吹き込むと、該粉体は、バブリング
やスラッギングの少ない、あたかも液体の如き安定した
流動層を形成するという特有の現象を活用し、かかる現
象下、該流動層を形成している均質な分散状態の粉体に
噴′R部材から処理剤を散布して該粉体を造粒、コーテ
ィング及び/又は調湿する処にある。
以下1図面に基いて本発明の構成を更に詳細に説明する
。
。
〈実施例〉
第1図は本発明の一実施例を一部断面状態で示す全体図
である。下部が逆円錐状に形成された円筒状の竪型容器
11の偏球に熱媒体の流通可能なジャケット12が周設
され、また下端に振動モータ13が装備されていて、該
竪型容器11は取付枠14に固定されており、取付枠1
4はスプリング15.16で基台17に支持されている
。竪型容器itには、その上方から下方へ順に、気体排
出口21、微粉返送口22、原料供給口23及び製品排
出口24が開設され、また該竪型容器11内には後述す
る粉体Aの流動層高よりも上方及び該流動層高内に噴霧
部材としてのスプレーノズル31.32が装着され、更
にスプレーノズル32及び製品排出口24の下方に気体
分散材41が装着されている。そして、気体排出口21
は集塵器51へ連結され、気体排出口21がら気体に同
伴して飛散する微粉を集塵器51で回収して微粉返送口
22へと返送し、また原料供給口23はスクリューコン
ベヤー61を介し原料容器52へ連結され、製品排出口
24からの製品排出量に応じてスクリューコンベヤー6
1の回転を調節することにより、原料容器52から原料
供給口23への原料粉体供給量を制御し得るようになっ
ている。そして、コンプレッサー62からの圧縮空気の
補助でスプレーノズル31.32から散布される処理剤
は、その散布量が制御されるように処理剤容器53から
定縫ポンプ63を介して送液され、更に気体分散材41
を介して竪型容器11内へ吹き込まれる気体は、その吹
き込み量及び温度が制御されるようにブロアー64から
ヒーター65及びバルブ66等を介して送気されている
。
である。下部が逆円錐状に形成された円筒状の竪型容器
11の偏球に熱媒体の流通可能なジャケット12が周設
され、また下端に振動モータ13が装備されていて、該
竪型容器11は取付枠14に固定されており、取付枠1
4はスプリング15.16で基台17に支持されている
。竪型容器itには、その上方から下方へ順に、気体排
出口21、微粉返送口22、原料供給口23及び製品排
出口24が開設され、また該竪型容器11内には後述す
る粉体Aの流動層高よりも上方及び該流動層高内に噴霧
部材としてのスプレーノズル31.32が装着され、更
にスプレーノズル32及び製品排出口24の下方に気体
分散材41が装着されている。そして、気体排出口21
は集塵器51へ連結され、気体排出口21がら気体に同
伴して飛散する微粉を集塵器51で回収して微粉返送口
22へと返送し、また原料供給口23はスクリューコン
ベヤー61を介し原料容器52へ連結され、製品排出口
24からの製品排出量に応じてスクリューコンベヤー6
1の回転を調節することにより、原料容器52から原料
供給口23への原料粉体供給量を制御し得るようになっ
ている。そして、コンプレッサー62からの圧縮空気の
補助でスプレーノズル31.32から散布される処理剤
は、その散布量が制御されるように処理剤容器53から
定縫ポンプ63を介して送液され、更に気体分散材41
を介して竪型容器11内へ吹き込まれる気体は、その吹
き込み量及び温度が制御されるようにブロアー64から
ヒーター65及びバルブ66等を介して送気されている
。
振動モータ13を稼動させて竪型容器11を振動させ、
したがって気体分散材41も振動させて、更にブロアー
64からヒーター65及びバルブ66並びに気体分散材
41を介し竪型容器ll内へ気体を吹き込むと、竪型容
器ll内の粉体Aはあたかも液体の如き安定した波動層
を形成するので、この際に前述の如くスプレーノズル3
1.32から処理剤を散布して、該粉体Aを造粒、コー
ティング及び/又は調湿する構成である。
したがって気体分散材41も振動させて、更にブロアー
64からヒーター65及びバルブ66並びに気体分散材
41を介し竪型容器ll内へ気体を吹き込むと、竪型容
器ll内の粉体Aはあたかも液体の如き安定した波動層
を形成するので、この際に前述の如くスプレーノズル3
1.32から処理剤を散布して、該粉体Aを造粒、コー
ティング及び/又は調湿する構成である。
第2図とi3図は本発明の他の一実施例を各別に示す要
部断面図である。ともに説明を省略する他の構成は第1
図の場合と同様であるが、竪型容器18には3箇所で原
料供給口25a、25b。
部断面図である。ともに説明を省略する他の構成は第1
図の場合と同様であるが、竪型容器18には3箇所で原
料供給口25a、25b。
25cが、また粉体Bの流動層高内に製品排出口26が
それぞれ開設され、粉体Bの波動層高よりも上方にのみ
スプレーノズル33が装着されており、一方竪型容器1
9には原料供給口27が、また後述する気体分散材43
aを貫通して粉体Cの流動層高内へと挿入されたパイプ
の先端部に製品排出口28がそれぞれ開設され、粉体C
の流動層高内にのみスプレーノズル34が装着されてい
る、そして、竪型容器18.19の下方に気体分散材4
2.43が装着されていて、該気体分散材42.43は
それぞれ中央部の気体分散材42a。
それぞれ開設され、粉体Bの波動層高よりも上方にのみ
スプレーノズル33が装着されており、一方竪型容器1
9には原料供給口27が、また後述する気体分散材43
aを貫通して粉体Cの流動層高内へと挿入されたパイプ
の先端部に製品排出口28がそれぞれ開設され、粉体C
の流動層高内にのみスプレーノズル34が装着されてい
る、そして、竪型容器18.19の下方に気体分散材4
2.43が装着されていて、該気体分散材42.43は
それぞれ中央部の気体分散材42a。
43aとその周部の気体分散材42.b、43bとに2
分割されており、気体分散材43bは逆円錐状に傾斜し
ている。これらの実施例では、気体分散材42a、43
aと気体分散材42b、43bとの間で気体の吹き込み
量をそれぞれ制御することにより、粉体B、Cの流動状
態を適宜に変えることができる。
分割されており、気体分散材43bは逆円錐状に傾斜し
ている。これらの実施例では、気体分散材42a、43
aと気体分散材42b、43bとの間で気体の吹き込み
量をそれぞれ制御することにより、粉体B、Cの流動状
態を適宜に変えることができる。
本発明において、振動モータで代表される振動発生源や
スプリングで代表される弾性体の個数は、例えば容器の
形状や大きさ等との関係で適宜に選択され得る。また気
体分散材は、それぞれの目的に応じた開口径を有するパ
ンチングメタル、焼結金属、素焼、濾布等が適宜に使用
され得る。そして、粉体の種類や処理目的との関係で、
吹き込み気体を不活性ガスにすることができ、容器内を
加圧下又は減圧下に操作することもできる。
スプリングで代表される弾性体の個数は、例えば容器の
形状や大きさ等との関係で適宜に選択され得る。また気
体分散材は、それぞれの目的に応じた開口径を有するパ
ンチングメタル、焼結金属、素焼、濾布等が適宜に使用
され得る。そして、粉体の種類や処理目的との関係で、
吹き込み気体を不活性ガスにすることができ、容器内を
加圧下又は減圧下に操作することもできる。
く作用〉
本発明に係る処理装置は、粉体を造粒、コーティング及
び/又は調湿するものである。使用する処理剤は通常、
造粒の場合にはバインダーの溶液、またコーティングの
場合には相応するコーティング剤の溶液、更に調湿の場
合には水である。そして例えば、造粒及びコーティング
をする場合には、前述の如く粉体を流動化した状態でジ
ャケットに加熱媒体を流通させて粉体を乾燥し、引続き
スプレーノズルからバインダーの溶液を散布して該粉体
を造粒した後、更にスプレーノズルからコーティング剤
の溶液を散布するという、乾燥→造粒→コーティングを
一連の操作で行なうこともできるのである。
び/又は調湿するものである。使用する処理剤は通常、
造粒の場合にはバインダーの溶液、またコーティングの
場合には相応するコーティング剤の溶液、更に調湿の場
合には水である。そして例えば、造粒及びコーティング
をする場合には、前述の如く粉体を流動化した状態でジ
ャケットに加熱媒体を流通させて粉体を乾燥し、引続き
スプレーノズルからバインダーの溶液を散布して該粉体
を造粒した後、更にスプレーノズルからコーティング剤
の溶液を散布するという、乾燥→造粒→コーティングを
一連の操作で行なうこともできるのである。
上記のような本発明の作用をより明瞭にするため、該作
用を第1図に示した実施例の具体的使用状態で説明する
。下部最小直径300+mX円錐部高さ500■■十上
部直径600 mg+X上部高さ1000履■の竪型容
器ll内へ、平均粒径約20ル■の有機物粉体(以下、
単に粉体という)を、円錐部上端まで充填した。気体分
散材41は関口径25psの多層多孔質金属焼結板であ
る。振動モータ13を稼動させて、竪型容器11に振@
1.0鳳−×振動数150 Or、p、m、の振動を加
え、併せて気体分散材41を介して空気を吹き込んだ、
粉体は、表面が平面状に盛り上がり、バブリングやスラ
ッギングのない、あたかも液体の如き安定した流動層を
形成し、該波動層高内には明らかな攪拌乃至旋回運動が
認められた。そして、盛り上がった粉体の表面からは無
数の小気泡が発生していた、この状態で、ジャケット1
2ヘスチームを流通させ、またヒーター65を加熱して
、系全体を60℃に調節した後、スプレーノズル31.
32からデキストリン水溶液を#に布した。散布にとも
なって、竪型容器11内における粉体の上下流及び旋回
波が加速された。30分間運転した後、製品排出口24
から排出した造粒物は、平均粒径約150牌腸で、はぼ
球状を呈する顆粒状物質が得られた。説明を省略するが
、上記のような処理を連続して行ない得ることはいうま
でもない〈発明の効果〉 以上説明した通りであるから、本発明には、機械的振動
と気体の吹き込みとの相乗作用によって粉体を流動化さ
せ、該流動状態で粉体を造粒、コーティング及び/又は
調湿するため、粉体に相応のバラツキがあっても、また
粉体が粒径30Ij、1m以下の微粉であっても、少量
の気体で物理的にまた化学的に均質な造粒物やコーテイ
ング物等を得ることができるという優れた効果がある。
用を第1図に示した実施例の具体的使用状態で説明する
。下部最小直径300+mX円錐部高さ500■■十上
部直径600 mg+X上部高さ1000履■の竪型容
器ll内へ、平均粒径約20ル■の有機物粉体(以下、
単に粉体という)を、円錐部上端まで充填した。気体分
散材41は関口径25psの多層多孔質金属焼結板であ
る。振動モータ13を稼動させて、竪型容器11に振@
1.0鳳−×振動数150 Or、p、m、の振動を加
え、併せて気体分散材41を介して空気を吹き込んだ、
粉体は、表面が平面状に盛り上がり、バブリングやスラ
ッギングのない、あたかも液体の如き安定した流動層を
形成し、該波動層高内には明らかな攪拌乃至旋回運動が
認められた。そして、盛り上がった粉体の表面からは無
数の小気泡が発生していた、この状態で、ジャケット1
2ヘスチームを流通させ、またヒーター65を加熱して
、系全体を60℃に調節した後、スプレーノズル31.
32からデキストリン水溶液を#に布した。散布にとも
なって、竪型容器11内における粉体の上下流及び旋回
波が加速された。30分間運転した後、製品排出口24
から排出した造粒物は、平均粒径約150牌腸で、はぼ
球状を呈する顆粒状物質が得られた。説明を省略するが
、上記のような処理を連続して行ない得ることはいうま
でもない〈発明の効果〉 以上説明した通りであるから、本発明には、機械的振動
と気体の吹き込みとの相乗作用によって粉体を流動化さ
せ、該流動状態で粉体を造粒、コーティング及び/又は
調湿するため、粉体に相応のバラツキがあっても、また
粉体が粒径30Ij、1m以下の微粉であっても、少量
の気体で物理的にまた化学的に均質な造粒物やコーテイ
ング物等を得ることができるという優れた効果がある。
:iS1図は本発明の一実施例を一部断面状態で示す全
体図、第2図と第3図は本発明の他の一実施例を各別に
示す要部断面図である。 11.18.19・―竪5容器 12・・ジャケット、13・会振動モータ14・・取付
枠、15.16・番スプリング17・・基台 23.25a〜25c 、27拳・原料供給[]24.
26.28・・製品排出口 31〜34・・スプレーノズル 41〜43・・気体分散材 A−C・・粉体 特許出願人 中央化工機株式会社 代理人 弁理士 入 山 宏 正 図面〒IQj 第2図 第3図
体図、第2図と第3図は本発明の他の一実施例を各別に
示す要部断面図である。 11.18.19・―竪5容器 12・・ジャケット、13・会振動モータ14・・取付
枠、15.16・番スプリング17・・基台 23.25a〜25c 、27拳・原料供給[]24.
26.28・・製品排出口 31〜34・・スプレーノズル 41〜43・・気体分散材 A−C・・粉体 特許出願人 中央化工機株式会社 代理人 弁理士 入 山 宏 正 図面〒IQj 第2図 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、1〜数個の振動発生源を装備する容器がある種の自
由運動を与えられるように1〜数個のスプリングの如き
弾性体で支持されており、該容器には原料供給口と製品
排出口とが開設され、更に該容器内には噴霧部材と気体
分散材とが装着されていて、振動発生源を稼動させて容
器を振動させ、併せて気体分散材を介し容器内へ気体を
吹き込むことにより、原料供給口から供給した粉体を流
動化させつつ、噴霧部材から処理剤を散布して該粉体を
造粒、コーティング及び/又は調湿するように構成して
なる粉体の処理装置。 2、容器がその温度を制御されたものである特許請求の
範囲第1項記載の粉体の処理装置。 3、気体分散材を介して容器内へ吹き込む気体がその温
度を制御されたものである特許請求の範囲第1項又は第
2項記載の粉体の処理装置。 4、気体分散材が中央部の気体分散材と周部の気体分散
材に2分割されたものである特許請求の範囲第1項〜第
3項のいずれか一つの項記載の粉体の処理装置。 5、周部の気体分散材が逆円錐状に傾斜したものである
特許請求の範囲第4項記載の粉体の処理装置。 6、製品排出口が流動層内へ挿入されたパイプの先端部
に開設されたものである特許請求の範囲第1項〜第5項
のいずれか一つの項記載の粉体の処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11117387A JPH0763610B2 (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | 粉体の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11117387A JPH0763610B2 (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | 粉体の処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63274445A true JPS63274445A (ja) | 1988-11-11 |
JPH0763610B2 JPH0763610B2 (ja) | 1995-07-12 |
Family
ID=14554332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11117387A Expired - Lifetime JPH0763610B2 (ja) | 1987-05-07 | 1987-05-07 | 粉体の処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0763610B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0573876A3 (de) * | 1992-06-06 | 1995-04-12 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Cholinchlorid enthaltenden Pulvern, diese Pulver und ihre Verwendung. |
JP2001170473A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-06-26 | Hosokawa Micron Corp | 造粒装置 |
JP2006525861A (ja) * | 2003-05-15 | 2006-11-16 | グラット インジェニェーアテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 噴流層装置の固体流に液体を付与するための方法及び装置 |
US7637999B2 (en) | 2003-05-16 | 2009-12-29 | Glatt Process Technology Gmbh | Fluidized bed reactor |
-
1987
- 1987-05-07 JP JP11117387A patent/JPH0763610B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0573876A3 (de) * | 1992-06-06 | 1995-04-12 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Cholinchlorid enthaltenden Pulvern, diese Pulver und ihre Verwendung. |
JP2001170473A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-06-26 | Hosokawa Micron Corp | 造粒装置 |
JP2006525861A (ja) * | 2003-05-15 | 2006-11-16 | グラット インジェニェーアテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 噴流層装置の固体流に液体を付与するための方法及び装置 |
JP4819365B2 (ja) * | 2003-05-15 | 2011-11-24 | グラット インジェニェーアテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 噴流層装置の固体流に液体を付与するための方法及び装置 |
US7637999B2 (en) | 2003-05-16 | 2009-12-29 | Glatt Process Technology Gmbh | Fluidized bed reactor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0763610B2 (ja) | 1995-07-12 |
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