JPS63271452A - 有機感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、有機感光体に関し、より詳しくは、電子写真
用感光体として好適な有機感光体に関する。

〈従来の技術と発明が解決しようとする問題点〉近年、
電子写真用感光体として、加工性がよく製造コストの面
で有利であると共に、機能設計の自由度が大きな有機感
光体が使用されている。なかでも、光照射により電荷を
発生させる電荷発生材料と、発生した電荷を輸送する電
荷輸送材料とにより、各機能を分離して高感度化等を図
るため、機能分離型の有機感光体が知られている。また
、上記電荷輸送材料としてヒドラゾン系化合物を含有す
る感光体が知られている（特開昭６１−２７０７［ｆ４
号公報および特開昭８１−２７０７８８号公報参照）。

しかしながら、上記ヒドラゾン系化合物は、太陽光や白
色螢光灯等の光、特に、約４３０ｎｍ以下の短波長光あ
るいは熱に対して安定でなく、光照射等により上記ヒド
ラゾン系化合物が異性化したり二量化するため、メイン
テナンス時等において、前記ヒドラゾン系化合物を含有
する感光体に光が当ると、感光体の感度が低下すると共
に、感光体の表面電位および残留電位が高くなり、複写
画像部にカブリが生じ、画像品質が悪くなるという問題
がある。

〈発明の目的〉 本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、ヒド
ラゾン系化合物を含有するにも拘らず、光や熱等に対し
て安定で、光が当っても感度等が低下することなく、画
像品質に優れた有機感光体を提供することを目的とする
。

く問題点を解決するための手段および作用〉上記目的を
達成するため、本発明の有機感光体は、電荷輸送材料と
してヒドラゾン系化合物を含有する感光層を有する感光
体において、上記感光層が、フルオレン系化合物を含有
することを特徴とするものである。

上記構成の有機感光体によれば、ヒドラゾン系化合物を
用いているにも拘らず、感光層がフルオレン系化合物を
含有しているので、光照射により上記ヒドラゾン系化合
物が励起されても、上記フルオレン系化合物との間にエ
ネルギー遷移が生じ、ヒドラゾン系化合物が安定化する
ものと思われる。

以下に、本発明の詳細な説明する。

上記ヒドラゾン系化合物としては、種々のもの、例えば
、ジエチルアミノベゾズアルデヒド　Ｎ。

Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ、Ｎ−ジフェニルアミノ
ベンズアルデヒド　Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾン等、
従来公知のものが使用できるが、上記フルオレン系化合
物との組合せにおいて、感光体の感度、表面電位を高め
ると共に、残留電位の小さい感光体を得るため、下記一
般式（１）で表されるヒドラゾン系化合物と組合せて使
用するのが好ましい。

（式中、Ｒ盲は水素原子または低級アルキル基を示す） 上記一般式（１）における低級アルキル基としては、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、ｔａｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の
炭素数１〜６のアルキル基が例示される。

上記一般式（１）で表されるヒドラゾン系化合物として
は、３−カルバゾリルアルデヒド　Ｎ、Ｎ−ジフェニル
ヒドラゾン、Ｎ−メチル−３−カルバゾリルアルデヒド
　Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ−エチル−３−カ
ルバゾリルアルデヒドＮ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、
Ｎ−プロピル−３−カルバゾリルアルデヒド　Ｎ、Ｎ−
ジフェニルヒドラゾン、Ｎ−イソプロピル−３−カルバ
ゾリルアルデヒド　Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ
−ブチル−３−カルバゾリルアルデヒド　Ｎ。

Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ−インブチル−３−カル
バゾリルアルデヒド　Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、
Ｎ−ｔａｒｔ−ブチル−３−カルバゾリルアルデヒド　
Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ−ペンチル−３−カ
ルバゾリルアルデヒド　Ｎ。

Ｎ−ジフェニルヒドラゾン、Ｎ−へキシル−３−カルバ
ゾリルアルデヒド　Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾンが例
示される。上記ヒドラゾン系化合物のうち、炭素数１〜
３のアルキル基を有するもの、特に、Ｎ−メチル−３−
カルバゾリルアルデヒドＮ、Ｎ−ジフェニルヒドラゾン
が好ましい。上記ヒドラゾン系化合物は一種または二種
以上混合して用いられる。

また、フルオレン系化合物としては、種々のものが使用
しえるが、下記一般式■およびＧ）で表されるものが好
ましい。

（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、
それぞれ同一または異なって、水素原子または低級アル
キル基を示す） （式中、Ｒ２およびＲ３は上記に同じ。Ｒ８およびＲ９
は、それぞれ同一または異なって、水素原子または低級
アルキル基を示す） 上記低級アルキル基としては、前記一般式（１）の低級
アルキル基が例示される。

上記一般式（２）の化合物のうち、好ましいものとして
は、９−　（Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラジノ）フルオレ
ン、９−　［Ｎ−（４−メチルフェニル）−Ｎ−フェニ
ルヒドラジノコフルオレン、９−［Ｎ、Ｎ−ジ（４−メ
チルフェニル）ヒドラジノコフルオレン、９−　［Ｎ、
Ｎ−ジ（４−エチルフェニル）ヒドラジノコフルオレン
、９−　［Ｎ−（４−メチルフェニル）−Ｎ−（４−エ
チルフェニル）ヒドラジノコフルオレン、９−　［Ｎ、
Ｎ−ジ（４−プロピルフェニル）ヒドラジノコフルオレ
ン、。

９−　［Ｎ、Ｎ−ジ（４−イソプロピルフェニル）ヒド
ラジノコフルオレン、９−　［Ｎ、Ｎ−ジ（４−ブチル
フェニル）ヒドラジノコフルオレン、９−　［Ｎ、Ｎ−
ジ（４−ペンチルフェニル）ヒドラジノコフルオレン、
９−　［Ｎ、Ｎ−ジ（４−へキシルフェニル）ヒドラジ
ノコフルオレン、９−［Ｎ、Ｎ−ジ（３−メチルフェニ
ル）ヒドラジノコフルオレン、９−　［Ｎ、Ｎ−ジ（３
−エチルフェニル）ヒドラジノコフルオレン、９−　［
Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−（４−メチルフェニ
ル）ヒドラジノコフルオレン、９−　［Ｎ−（３−エチ
ルフェニル）−Ｎ−（４−エチルフェニル）ヒドラジノ
コフルオレン、９−　［Ｎ、Ｎ−ジ（４，４−メチルフ
ェニル）ヒドラジノ］　−３，６−シメチルフルオレン
、９−［Ｎ、Ｎ−ジ（４−メチルフェニル）ヒドラジノ
］−３，６−ジニチルフルオレン、９−　［Ｎ、Ｎ−ジ
（４−エチルフェニル）ヒドラジノ］−３，６−シメチ
ルフルオレン、９−　［Ｎ、Ｎ−ジ（４−エチルフェニ
ル）ヒドラジノ］−３，６−ジニチルフルオレン等が例
示される。

また、上記一般式口）で表される化合物のうち、好まし
いものとしては、９−カルバゾリルイミノフルオレン、
９−（３−メチルカルバゾリルイミノ）フルオレン、９
−　（３，６−シメチルカルバゾリルイミノ）フルオレ
ン、９−　（３，６−ジニチルカルバゾリルイミノ）フ
ルオレン、９−　（３−エチル−６−メチルカルバゾリ
ルイミノ）フルオレン、９−　（３，６−ジプロピルカ
ルバゾリルイミノ）フルオレン、９−　（３，６−ジイ
ツブロピルカルバゾリルイミノ）フルオレン、９−　（
３゜６−シブチルカルバゾリルイミノ）フルオレン、９
−　（３，６−ジイツブチルカルバゾリルイミノ）フル
オレン、９−　（３，６−シーｔｅｒｔ−ブチルカルバ
ゾリルイミノ）フルオレン、９−　（３，６−ジペンチ
ルカルバゾリルイミノ）フルオレン、９−　（３，６−
ジヘキシルカルバゾリルイミノ）フルオレン、９−　（
３，６−シメチルカルバゾリルイミノ）−３−メチルフ
ルオレン、９−　（３，６−シメチルカルバゾリルイミ
ノ）−３，６−ジ゛メチルフルオレン、９−　（３，６
−シメチルカルバゾリルイミノ）−３，６−ジニチルフ
ルオレン、９−（３−メチルカルバゾリルイミノ）−３
−二チルフルオレン等が例示される。

上記一般式（２および口）の化合物のうち、特に９−　
（Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラジノ）フルオレン、９−カ
ルバゾリルイミノフルオレンが好ましい。

上記フルオレン系化合物は一種または二種以上混合して
用いられる。

また、上記フルオレン系化合物は、感光体の特性等に応
じて適宜量使用することができるが、前記ヒドラゾン系
化合物１００重ご部に対して、１〜１００重量部、好ま
しくは５〜５０重量部、さらに好ましくは１０〜３０重
量部使用する。フルオレン系化合物の量が１重量部未満
であると、感光体の光安定性等が十分でなく、１００重
量部を越えると、光安定性は高まるものの感光体の感度
等が十分でなくなる。

なお、上記一般式■および（３）のフルオレン系化合物
は、種々のヒドラゾン系化合物の安定化および感光体の
感度等を高めることができるが、前記一般式（１）のヒ
ドラゾン系化合物と組合せた場合、特に効果的である。

また、上記フルオレン系化合物と共に、紫外線吸収剤を
併用すると、紫外線等の短波長光を吸収でき、前記ヒド
ラゾン系化合物の光安定化を図ることができると共に、
感光体の感度等をさらに高めることができる。

上記紫外線吸収剤としては、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン等の種々のものが使用し得るが、ベ
ンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましい。上記ベン
ゾトリアゾール系紫外線吸収剤のうち好ましいものとし
ては、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−　（２−ヒドロキシ−５−エチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−　（２−ヒドロ
キシ−５−プロピルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（２−ヒドロキシ−５−イソプロピルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−　（２−ヒドロキシ−５−ブチル
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ
−５−イソブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
　（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ペン
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−　（２−ヒド
ロキシ−５−へキシルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−　（２−ヒドロキシ−３゜５−
ジエチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒ
ドロキシ−３−メチル−５−エチルフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジプロピ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキ
シ−３，５−ジブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−　（２−ヒドロキシ−３，５−ジイソブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−　（２−ヒドロキシ−３
゜５−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−
５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−
ヒドロキシ−３，５−ジエチルフェニル）ベンゾトリア
ゾール、２−　（２−ヒドロキシ−３，５−ジエチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−　（２−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、２−　（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−　（２−ヒ
ドロキシ−３−メチル−５−ｔａｒｔ−ブチルフェニル
）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−　（２−ヒド
ロキシ−３，５−ジーｔａｒｔ−ブチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−　（２−ヒドロキシ
−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール等が例示される。上記紫外線
吸収剤は一種または二種以上混合して用いられる。

また、上記紫外線吸収剤は、感光体の特性、ヒドラゾン
系化合物の光安定化等に応じて適宜量使用されるが、前
記ヒドラゾン系化合物１００重量部に対して、２０〜７
５重量部、特に３０〜７０重量部使用するのが好ましい
。紫外線吸収剤の量が２０重量部未満であると光安定化
等の効果が顕著に現れず、７５重量部を越えると紫外線
吸収剤が再結晶化し、感光体の特性が低下する。

また、さらに感光体の安定化を図ると共に繰返し特性を
高めるため、上記ヒドラゾン系化合物およびフルオレン
系化合物等と共に、酸化防止剤を用いるのが好ましい。

上記酸化防止剤としては、ノニルフェニルホスファイト
、Ｎ−フェニルナフチルアミン等の種々のものが使用し
えるが、２゜４−ジメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ノール、２゜６−シーｔｅｒｔ−ブチルフェノール、３
，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシトルエン
、２゜２゛−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ
−ブチルフェノール）、２．２−−メチレンビス（４−
エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４゜４′
−メチレンビス（２，６−シーｔｅｒｔ−ブチルフェノ
ール）、４．４−−ビス（２，６−シーｔｅｒｔ−ブチ
ルフェノール）、４．４−−メチレンビス（６−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−Ｏ−クレゾール）、１゜３．５−トリメチ
ル−２，４，６−）リス（３゜５−ジーｔｅｒｔ−ブチ
ルー４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、４．４”、−
ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−クレゾー
ル）等のアルキルフェノール系酸化防止剤、特に、３，
５−ジーｔθｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシトルエンが
好ましい。上記酸化防止剤は、一種または二種以上混合
して使用される。

上記酸化防止剤は、適宜量使用することができるが、前
記ヒドラゾン系化合物１００重量部に対して、１〜１０
０重量部、特に５〜５０重量部使用するのが好ましい。

上記酸化防止剤が１重量部未満であると感光体の安定化
等を図ることが困難であり、１００重量部を越えると感
度が低下する。

また、感光体の光劣化を防止し、光による電気的特性の
変化をなくすため、上記感光層は、さらにハロゲン化キ
ノン類を含有するのが好ましい。

上記ハロゲン化キノン類のキノン類としては、ベンゾキ
ノン、１，２−ナフトキノン、１．４−ナフトキノン、
アントラキノン等が例示される。ハロゲン化キノン類と
しては、種々のものが使用し得るが、ハロゲン化ベンゾ
キノンおよびハロゲン化ナフトキノンが好ましい。上記
ハロゲン化ベンゾキノンのうち好ましいものとしては、
２−クロロ−１，４−ベンゾキノン、２，５−ジクロロ
−１，４−ベンゾキノン、２，６−ジクロロ−１゜４−
ベンゾキノン、２，５−ジフルオロ−１，４−ペンゾキ
ノン、２，６−ジフルオロ−１，４−ベンゾキノン、２
．５−ジブロモ−１，４−ベンゾキノン、２．６−ジプ
ロモー１．４−ベンゾキノン、２−クロロ−５−ブロモ
−１，４−ベンゾキノン、２．５−ショート−１，４−
ベンゾキノン、２．６−ジヨードー１．４−ベンゾキノ
ン等が例示される。

また、ハロゲン化ナフトキノンのうち好ましいものとし
ては、２−クロロ−１，４−ナフトキノン、２．３−ジ
クロロ−１，４−ナフトキノン、２．５−ジクロロ−１
，４−ナフトキノン、２゜７−ジクロロ−１，４−ナフ
トキノン、２，３−ジフルオロ−１，４−ナフトキノン
、２．３−ジブロモ−１，４−ナフトキノン、２−クロ
ロ−３−ブロモ−１，４−ナフトキノン、２．３−ショ
ート−１，４−ナフトキノン等が例示される。上記ハロ
ゲン化ベンゾキノンおよびハロゲン化ナフトキノンのう
ち、特に２，５−ジクロロ−１，４−ベンゾキノン、２
．６−ジクロロ−１，４−ベンゾキノンおよび２，３−
ジクロロ−１，４−ナフトキノンが好ましい。上記ハロ
ゲン化キノン類は一種または二種以上混合して用いられ
る。また、ハロゲン化キノン類は、適宜量使用し得るが
、前記ヒドラゾン系化合物１００重量部に対して、５〜
５０重量部、特に、１０〜４０重量部使用するのが好ま
しい。使用量が５重量部未満であると感光体の光劣化を
十分に防止することができず、５０重量部を越えると感
度が低下する。

なお、上記のヒドラゾン系化合物などは、感光特性等を
阻害しない範囲で、他の電荷輸送材料等と併用してもよ
い。上記能の電荷輸送材料としては、例えば、テトラシ
アノエチレン、２．４．７−ドリニトロー９−フルオレ
ノン等のフルオレノン系化合物、２，４．８−）リニト
ロチオキサントン、ジニトロアントラセン等のニトロ化
化合物、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水
マレイン酸、２，５−ジ（４−ジメチルアミノフェニル
”）　−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジア
ゾール系化合物、９−　（４−ジエチルアミノスチリル
）アントラセン等のスチリル系化合物、ポリビニルカル
バゾール等のカルバゾール系化合物、１−フェニル−３
−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリン等のピラ
ゾリン系化合物、インドール系化合物、オキサゾール系
化合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合
物、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、
ピラゾール系化合物ミ　トリアゾール系化合物等の含窒
素環式化合物、縮合多環族化合物等が例示される。

また、光照射による電荷゛の発生と発生した電荷の輸送
とに機能を分離して感光層の感度などを高めるため、上
記ヒドラゾン系化合物等は、電荷発生材料および結着樹
脂と共に使用され、導電性支持基板上に、上記電荷発生
材料とヒドラゾン系化合物等の電荷輸送材料とが結着樹
脂中に分散された単層型の感光層が・形成された感光体
や、導電性支持基板上に、上記電荷発生材料を含有する
電荷発生層と前記ヒドラゾン系化合物等の電荷輸送材料
を含有する電荷輸送層とが積層された複層型の感光層を
有する感光体が構成される。

上記電荷発生材料としては、例えば、セレン、セレン−
テルル、アモルファスシリコン、ピリリウム塩、アゾ系
顔料、ジスアゾ系顔料、アンサンスロン系顔料、フタロ
シアニン系顔料、インジゴ系顔料、トリフェニルメタン
系顔料、スレン系顔料、トルイジン系顔料、ピラゾリン
系顔料、キナクリドン系顔料等、種々のものが使用し得
るが、感度に優れ、表面電位が高く、しかも残留電位が
低い感光体を得るため、ペリレン系化合物、特に下記一
般式（４）で表されるペリレン系化合物と組合せて使用
するのが好ましい。

（式中、ＲＩＯ、Ｒ１１、ＲＩ２およびＲ１３は、それ
ぞれ同一または異なって、低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基を示す） 上記低級アルキル基としては、前記一般式（１）と同様
の低級アルキル基が例示される・。また、上記一般式（
４）における低級アルコキシ基としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イン
ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基が例示さ
れる。

上記一般式（１）で表されるペリレン系化合物としては
、Ｎ、Ｎ−−ジ（３，５−ジメチルフェニル）ペリレン
−３，４，９，１０−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、
Ｎ−−ジ（３，５−ジエチルフェニル）ペリレン−３，
４，９，１０−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ″−
ジ（３−メチル−５−エチルフェニル）ペリレン−３，
４，９，１０−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ＝−
ジ（３，５−ジプロピルフェニル）ペリレン−３，４，
９，１０−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ−−ジ（
３゜５−ジイソプロピルフェニル）ペリレン−３，４゜
９．１０−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ−−ジ（
３，５−ジブチルフェニル）ペリレン−３゜４、　９．
１０−テトラカルボキシジイミド％ＮＩＮ゛−ジ（３，
５−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペリレン−３，４
，９，１０−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ″−ジ
（３，５−ジエチルフェニル）ペリレン−３，４，９，
１０−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ−−ジ（３，
５−ジェキシフェニル）ペリレン−３，４，９，１０−
テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ−−ジ（３−メチル
−５−メトキシフェニル）ペリレン−３，４，９゜ＩＯ
−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ”−ジ（３−メチ
ル−５−エトキシフェニル）ペリレン−３，４，９，１
０−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ−−ジ（３−エ
チル−５−メトキシフェニル）ペリレン−３，４，９，
１０−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ″−ジ（３−
プロピル−５−メトキシフェニル）ペリレン−３，４，
９，１０−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ″−ジ（
３゜５−ジメトキシフェニル）ペリレン−３，４，９゜
ｌＯ−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ″−ジ（３，
５−ジェトキシフェニル）ペリレン−３゜４、　９．１
０−テトラカルボキシジイミド％ＮＩＮ゛−ジ（３，５
−ジプロポキシフェニル）ペリレン−３，４，９，１０
−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ−−ジ（３，５−
ジイソプロポキシフェニル）ペリレン−３，４，９，１
０−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ”−ジ（３，５
−ジブトキシフェニル）ペリレン−３，４，９，ｔｏ−
テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ−−ジ（３，５−ジ
ベンチルオキシフェニル）ペリレン−３，４゜９、ｌＯ
−テトラカルボキシジイミド、Ｎ、Ｎ−−ジ（３，５−
ジヘキシルオキシフェニル）ペリレン−３，４，９，１
０−テトラカルボキシジイミド等が例示される。上記ペ
リレン系化合物のうち、炭素数が１〜３のアルキル基ま
たはアルコキシ基を有するもの、特に、Ｎ、Ｎ＝−ジ（
３，５−ジメチルフェニル）ペリレン−３，４，９，１
０−テトラカルボキシジイミドが好ましい。なお、上記
ペリレン系化合物等、の電荷発生材料は一種または二種
以上混合して用いられる。

また、上記結着樹脂としては、種々のもの、例えば、ス
チレン系重合体、アクリル系重合体、スチレン−アクリ
ル系共重合体、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオ
ノマー等のオレフィン系重合体、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アルキッ
ド樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポ
リカーボネート、ボリアリレート、ポリスルホン、ジア
リルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、ポ
リビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂、フェノー
ル樹脂、キシリレン樹脂や、エポキシアクリレート等の
光硬化型樹脂等、各種の重合体が使用できるが、感光体
の感度を高め、上記ヒドラゾン系化合物等との相溶性、
感光体の耐摩耗性および繰返し特性に優れると共に結着
樹脂を溶解する溶剤の選択幅が広いポリ（４，４−−シ
クロへキシリデンジフェニル）カーボネ−１・が好まし
い。上記ポリ（４，４＝−シクロへキシリデンジフェニ
ル）カーボネートを用いると、従来、溶液安定性等の点
から、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン等の塩素系
溶剤しか使用できなかったビスフェノールＡ型ポリカー
ボネートと異なり、テトラヒドロフラン、メチルエチル
ケトン等のケトン系等の溶剤も使用することができるの
で、安全衛生上も好ましく、取扱いが容易である。なお
、上記ポリ（４，４−−シクロへキシリデンジフェニル
）カーボネートとしては、種々のもの、例えば、重合度
５０〜５０００程度のものが使用し得る。また、上記結
着樹脂は一種または二種以上混合して用いられる。

なお、上記結着樹脂のうち、キシリレン樹脂は、感光体
の光劣化を防止する上で有用であると共に、前記ポリカ
ーボネートとの相溶性に優れ、繰返し使用により感度、
表面電位および残留電位の変化が少ない。従って、前記
キシリレン樹脂は、ポリカーボネートと併用するのが好
ましい。上記キシリレン樹脂は、種々の割合で使用する
ことができるが、ポリカーボネート樹脂１００重量部に
対して、１０〜５０重量部、特に２０〜４０重量部使用
するのが好ましい。キシリレン樹脂の使用量が１０重量
部未満であると上記効果が十分でなく、５０重量部を越
えると感光層の機械的強度が低下する。

また、前記感光層は、ターフェニル、アセナフチレン等
、従来公知の増感剤を含有していても、よい。

また、前記一般式（１）のヒドラゾン系化合物、前記フ
ルオレン系化合物、一般式（４）のペリレン系化合物お
よび結着樹脂を組合せたものは、複層型感光体としても
有用であるが、単層型感光体として特に優れた感光特性
等を示す。より詳細には、上記の単層型の感光体は、前
記材料の分散液を調製し、導電性基板に塗布し、乾燥さ
せるだけで感光体を得ることができるため、生産性がよ
い。また、上記単層型感光体にあっては、正帯電させる
ことができるだけでなく、感光体の静電潜像を現像する
トナーとして、一般に負帯電するものが得られ易いため
、トナー材料の選択幅が広く、種々のトナー材料を使用
することができるという利点がある。一方、上記単層型
の感光体にあっては、感度が十分でなく、感光層を構成
する材料を厳密に選択しなければならず、感光層の材料
の選択幅が狭い。また、上記単層型感光体は、コロナ帯
電時の表面電位が低く、しかも残留電位が大きいだけで
なく、表面電位が繰返し使用により低下するので、繰返
し特性が十分でなく、有機感光体として十分な特性を示
さないという欠点がある。しかしながら、前記一般式（
１）のヒドラゾン系化合物、前記フルオレン系化合物お
よび一般式（４）のペリレン系化合物を組合せて単層型
の感光層を４１．を成すると、正帯電性に優れると共に
、感度および表面電位が高く、しかも残留電位が小さく
、繰返し特性に優れた安価な単層型有機感光体が得られ
る。

前記ヒドラゾン系化合物と電荷発生材料と結着樹脂とを
用いて単層型感光層を形成する場合、上記材料の使用割
合は、所望する有機感光体の特性等に応じて適宜選択す
ることができるが、結着樹脂１００重量部に対して、ヒ
ドラゾン系化合物４０〜１１０重量部、好ましくは、６
０〜９０重全部、電荷発生材料２〜２０重量部、好まし
くは、５〜１０重量部使用される。ヒドラゾン系化合物
および電荷発生材料が上記使用量よりも少ないと、感光
体の感度が十分でないばかりか、残留電位が大きくなる
。また上記範囲を越えると感光体の耐摩耗性等が十分で
なくなる。

なお、単層型感光層を有する感光体において、」二足ペ
リレン系化合物を多量に使用すると、通常、。

正帯電性が十分でなくなり、少量であると感度等が低下
するが、上記特定のペリレン系化合物と組合せることに
よりペリレン系化合物の量が少量であっても感度および
表面電位が高く、しかも残留電位の小さな正帯電性に優
れた有機感光体を得ることができる。

なお、上記ペリレン系化合物は短波長側に分光感度を有
する場合がある。従って、青色領域の色再現性が必要と
される用途においては、種々の分光増感剤を使用するの
が好ましく、特に、フタロシアニン系化合物を使用する
のが好ましい。

上記フタロシアニン系化合物としては、種々のものが使
用しえるが、メタルフリーフタロシアニンが好ましい。

上記メタルフリーフタロシアニンは、適宜の粒径を有し
ていてもよいが、平均粒径０．１μｍ以下のものが好ま
しい。メタルフリーフタロシアニンの平均粒径が０．１
μ−を越えると感光体の感度が低下する。なお、上記平
均粒径は、光散乱法（装置名：ダイナミック光散乱光度
計）により求めたものである。

また、メタルフリーフタロシアニンは適宜量使用するこ
とができるが、上記結着樹脂１００重量部に対して０．
２〜１重量部添加するのが好ましい。添加量が０．２重
量部未満であると青色再現性が十分でなく、１重量部を
越えるとメタルフリーフタロシアニンが赤色領域に分光
感度を有するため、赤色再現性が十分でなくなる。

なお、上記メタルフリーフタロシアニンのうち、β型メ
タルフリーフタロシアニン、特に、平均粒径０．００５
〜０．０５μｍを有するものが好ましい。上記β型メタ
ルフリーフタロ−シアニンの平均粒径が０．００５μｍ
未満であると分散性が十分でなく、０．０５μｍを越え
ると感光体の感度が低下する。

また、上記メタルフリーフタロシアニンを含有する感光
体の安定性などを高めるため、上記メタルフリーフタロ
シアニンと共に、アルミニウムフタロシアニン、チタニ
ルフタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、特に銅フ
タロシアニンを併用するのが好ましい。また、銅フタロ
シアニンは、適宜量使用することができるが、上記メタ
ルフリーフタロシアニンに対して１〜１０重量％、特に
３〜１０重量％使用するのが好ましい。銅フタロシアニ
ンの量が１重量％未満であると前記メタルフリーフタロ
シアニンを安定化するのに十分でなく、１０重量％を越
えると表面電位が低下する。

なお、上記銅フタロシアニンの量が多くなるにつれてメ
タルフリーフタロシアニンの安定化効果が高まると共に
、感光体の残留電位も低下する。

また、上記銅フタロシアニンは、前記β型メタルフリー
フタロシアニンと組合せて使用するのがより一層好まし
く、この場合、銅フタロシアニンとして平均粒径０．０
０１μ膳以下のものを使用するのが好ましい。特に、銅
フタロシアニンの量を少なくして安定かつ残留電位の小
さな有機感光体を得るため、上記銅フタロシアニンをメ
タルフリーフタロシアニンと共に共沈させたものが好ま
しい。上記の共沈は、常法により行なうことができ、例
えば、銅フタロシアニンの製造時において銅フタロシア
ニンとメタルフリーフタロシアニンとの硫酸溶液を水中
等に滴下することにより行なうことができる。上記の共
沈により得られたフタロシアニンは、銅フタロシアニン
が微粒子となると共に、感光体の熱履歴による電気特性
の劣化が殆どなくなるだけでなく、残留電位が小さく色
再現性等に優れる感光体が得られる。なお、上記共沈法
によるフタロシアニンにおいては、少量にて青色再現性
を高めるため、銅フタロシアニンとしては平均粒径０．
００１μｍ以下のものが好ましい。

上記導電性基板は、シート状やドラム状のいずれであっ
てもよく、・基板自体が導電性を有するか、基板の表面
が導電性を有し、使用に際し十分な機械的強度を有する
ものが好ましい。上記導電性基−板としては、導電性を
有する種々の材料が使用でき、例えば、アルミニウム、
銅、錫、白金、金、銀、バナジウム、モリブデン、クロ
ム、カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、イン
ジウム、ステンレス鋼、真鍮の金属単体や、上記金属が
蒸着またはラミネートされたプラスチック材料、ヨウ化
アルミニウム、酸化錫、酸化インジウム等で被覆された
ガラス等が例示される。上記導電性基板のうち、アルミ
ニウムが好ましく、特に、アルミニウムの結晶粒が表面
に存在せず、複写画像等において黒点やピンホール等が
発生するのを防止すると共に、上記ヒドラゾン系化合物
等を含有する感光層と基板との密着性をよくするため、
アルマイト処理されたアルミニウム、中でもアルマイト
処理層の膜厚が５〜１２μｍであり、表面粗さが１．５
ｓ以下のアルマイト処理されたアルミニウムが好ましい
。

上記のヒドラゾン系化合物、フルオレン系化合物、電荷
発生材料および結着樹脂等を用いて単層型の感光層を有
する感光体を形成する場合、感光層は、適宜の厚みを有
していてもよいが、３〜５０μｍ１特に、５〜２０μｍ
の厚みををするものが好ましく、上記ヒドラゾン系化合
物等の分散液を調整し、導電性基板に塗布すると共に、
溶媒を除去することにより形成される。また、前記複層
型の感光層を有する感光体は、前記電荷発生材料と結着
樹脂等からなる厚み約１〜５μｍの電荷発生層と、前記
ヒドラゾン系化合物、フルオレン系化合物等と結着樹脂
とからなる厚み５〜５０μｍ１特に、１０〜２０μｍの
電荷輸送層とを導電性基板上に順次形成することにより
得られる。なお、複層型感光層の電荷発生層は、結着樹
脂を用いることなく、電荷発生材料を蒸着、スパッタリ
ング等の手段により形成してもよい。

また、上記ヒドラゾン系化合物等の分散液の調製に際し
ては、使用される結着樹脂等の種類に応じて種々の何機
溶剤を使用することができる。上記溶剤としては、ｎ−
ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化
水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等
のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等、種々の溶剤が例示され、一種または二種以上
混合して用いられる。なお、上記分散液を調製する際、
分散性、塗工性等をよくするため、界面活性剤、レベリ
ング剤等を併用してもよい。

また、上記分散液は、従来慣用の方法、例えば、ボール
ミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトライター
、超音波分散器等を用いて調製することができ、得られ
た分散液を前記導電性基板に塗布し、加熱して溶剤を除
去することにより、本発明の有機感光体を得ることがで
きる。

本発明の有機感光体の感光層は、ヒドラゾン系化合物を
用いているにも拘らず、感光層がフルオレン系化合物を
含有しているので、ヒドラゾン系化合物ひいては感光層
が安定化する。すなわち、本発明の有機感光体は、光や
熱等に対して安定で、光が当っても感度等が低下したり
、感光体の表面電位および残留電位が高くなることがな
いだけでなく、鮮明な複写画像が得られ画像品質に優れ
る。

従って、本発明の有機感光体は、複写機、レーザプリン
ター等、種々の用途に使用される感光体として有用であ
る。

〈実施例〉 以下に、実施例に基づき、この発明をより詳細に説明す
る。

実施例Ｉ Ｎ、Ｎ″−ジ（３，５−ジメチルフェニル）ペリレン−
３，４，９，ｔｏ−テトラカルボキシジイミド８重量部
、Ｎ−エチル−３−カルバゾリルアルデヒド　Ｎ、Ｎ−
ジフェニルヒドラゾン７５重量部、９−　（Ｎ、Ｎ−ジ
フェニルヒドラジノ）フルオレン２０重量部、メタルフ
リーフタロシアニン（ＢＡＳＦ社製商品名へりオゲンブ
ルー７８００）０．６重量部、ポリ（４，４−−シクロ
へキシリデンジフェニル）カーボネート（三菱瓦斯化学
社製商品名ポリカーボネートＺ）１００重量部および所
定量のテトラヒドロフランを用い、超音波分散器にて分
散液を調製すると共に、アルマイト処理されたアルミニ
ウム板上に塗布し、厚み約２０μｍの感光層を有する単
層型有機感光体を作製した。

実施例２ 実施例１の９−　（Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラジノ）フ
ルオレンに代えて、９−カルバゾリルイミノフルオレン
を用い、上記実施例１と同様にして有機感光体を作製し
た。

実施例３ 実施例１の材料に加えて、２−　（２−ヒドロキシ−３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾール（アデカアーガス化学社製商品名
マークＬＡ−３６）５０重量部を用いて、上記実施例１
と同様にして有機感光体を作製した。

実施例４ 実施例２の材料に加えて、実施例３の２−（２−ヒドロ
キシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール５０重量部を用いて、上
記と同様にして有機感光体を作製した。

実施例５ 実施例１の材料に加えて、酸化防止剤としての３．５−
ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシトルエン（住友
化学社製商品名スミライザーＢＩＴ）２０重量部を用い
、上記実施例１と同様にして有機感光体を作製した。

比較例１ 実施例１の材料において、９−　（Ｎ、Ｎ−ジフェニル
ヒドラジノ）フルオレンを用いず、上記実施例と同様に
して有機感光体を作製した。

比較例２ フルオレン系化合物に代えて、紫外線吸収剤を含む単層
型の感光体を作製した。すなわち、実施例１のフルオレ
ン系化合物２０重量部に代えて、実施例３の２−（２−
ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール５０重量部を用い
、上記実施例１と同様にして有機感光体を作製した。

比較例３ フルオレン系化合物に代えて、酸化防止剤を含む単層型
の感光体を作製した。すなわち、実施例１のフルオレン
系化合物２０重量部に代えて、実施例５の３．５−ジー
ｔａｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシトルエン２０重量部
を用い、上記実施例１と同様にして有機感光体を作製し
た。

そして、下記の特性について、以下の方法により調べた
。

（ａ）感光特性および表面電位等 上記の電子写真用感光体の帯電特性、感光特性等を調べ
るため、静電複写紙試験装置（川口電機社製、５Ｐ−４
２８型）を用イテ、＋８．０ＫＶ（７）条件でコロナ放
電を行なうことにより、前記各実施例および比較例の有
機感光体を正に帯電させた。

なお、各感光体の表面電位Ｖ　ｓ、ｐ、　（Ｖ）を測定
すると共に、タングステンランプを用いて、感光体表面
の照度がｌＯルックスとなるように調整してタングステ
ンランプにより露光し、上記表面電位Ｖ　ｓ、ｐ、がｌ
／２となるまでの時間を求め、半減露光量Ｅｌ／２（μ
Ｊ　／　ｃｊ　）を算出した。また、露光後、０．１５
秒経過後の表面電位を残留電位Ｖ　ｒ、ｐ。

（ｖ）とした。

（ｂ）光劣化性 １０００ルツクスの白色蛍光灯で、上記各有機感光体を
５分間照射した後、上記（ａ）と同様にして感光特性お
よび表面電位等を測定し、当初の感光体の感光特性およ
び表面電位等との差異を、それぞれΔＶ　ｓ、ｐ、、Δ
Ｅ　１／２およびΔｖ　ｒ、ｐ、として表示した。

（ｃ）繰返し特性および画像特性 複写機（三田工業社製ＤＣ−１１１型機）に、上記有機
感光体を装１着し、乾式トナーを用いて、１０枚複写す
ると共に、当初の表面電位と１０枚複写した後の感光体
の表面電位を上記（ａ）と同様にして測定した。また、
上記複写機を用い、１枚複写した後、上記（ｂ）と同様
にして各感光体に光を照射し、１０枚複写した。そして
１枚目の複写画像と１０枚目の複写画像とのカブリの差
異を目視にて判断した。なお、カブリが殆どないものを
○、カブリの程度が大きいもの×として評価した。

（ｄ）総合評価 上記種々の特性の総合評価を行ない、有機感光体として
の特性に優れるものを０１劣るものを×として評価した
。

上記実施例および比較例で得られた各有機感光体の帯電
特性、感光特性および繰返し特性等の結果を次表に示す
。

（以下、余白） 表から明らかなように、本発明の有機感光体は、いずれ
も半減露光量が小さく、感度が良好であり、光照射によ
り感光特性等が劣化することなく、表面電位および残留
電位の変化が少ない。また、繰返し使用しても表面電位
が大きく変化しないばかりか、残留電位が蓄積せず、繰
返し特性に優れており、画像のカブリも殆どないことが
判明した。

これに対して、比較例の感光体は、いずれも光劣化が生
じ、光照射および繰返し使用により感度が低下し、表面
電位および残留電位が高くなった。

また、繰返し使用により複写画像のカブリが大きくなっ
た。

〈発明の効果〉 以上のように、本発明の有機感光体によれば、ヒドラゾ
ン系化合物を用いているにも拘らず、感光層がフルオレ
ン系化合物を含有しているので、ヒドラゾン系化合物ひ
いては感光層が光や熱等に対して安定化する。従って、
有機感光体に光が当っても感度等が低下したり、感光体
の表面電位および残留電位が高くなることがないだけで
なく、鮮明な複写画像が得られ画像品質に優れるという
特有の効果を奏する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、電荷輸送材料としてヒドラゾン系化合物を含有する
   感光層を有する感光体において、上記感光層が、フルオ
   レン系化合物を含有することを特徴とする有機感光体。 ２、フルオレン系化合物が、９−（Ｎ，Ｎ−ジフェニル
   ヒドラジノ）フルオレンである上記特許請求の範囲第１
   項記載の有機感光体。 ３、フルオレン系化合物が、９−カルバゾリルイミノフ
   ルオレンである上記特許請求の範囲第１項記載の有機感
   光体。 ４、ヒドラゾン系化合物が下記一般式（１）で表される
   ものである上記特許請求の範囲第１項記載の有機感光体
   。 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） （式中、Ｒ＾１は水素原子または低級アルキル基を示す
   ） ５、ヒドラゾン系化合物が、Ｎ−メチル−３−カルバゾ
   リルアルデヒドＮ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾンである上
   記特許請求の範囲第１項または第４項記載の有機感光体
   。