JPS63269318A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS63269318A JPS63269318A JP10409587A JP10409587A JPS63269318A JP S63269318 A JPS63269318 A JP S63269318A JP 10409587 A JP10409587 A JP 10409587A JP 10409587 A JP10409587 A JP 10409587A JP S63269318 A JPS63269318 A JP S63269318A
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Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録装置に用いられる磁気ディスクなどの
磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体に関する。
近年磁気記録袋fllこ用いられる磁気ディスクなどの
磁気記録媒体はますます高記録密度となる傾向にあり、
こわlこ伴い磁気記録媒体の磁性層の膜厚を従来の約1
μm程度から0.1μm以下まで薄くし、保磁力(Hc
)もより高くする必要がある。そのため磁気記録媒体の
製造方法もサブミクロンオーダでは磁性層の膜厚が不均
一になるスピンコード法に代って、均一な薄膜を容易に
形成することが可能なスパッタ法やメッキ法が注目され
るとともに、従来の鉄酸化物例えばr−Fe、03の磁
性層は、その磁気特性、とくに残留磁束密度が小さく出
力が低いということから、磁性層として、スパッタ法に
よって形成されるコバルト(Co)系合金、例えばコバ
ルトー二、ケル(Ni)合金磁性薄隣が使用されるよう
になった。この合金のNi含有量の範囲は20〜30a
t%のよいことが知られている。
磁気記録媒体はますます高記録密度となる傾向にあり、
こわlこ伴い磁気記録媒体の磁性層の膜厚を従来の約1
μm程度から0.1μm以下まで薄くし、保磁力(Hc
)もより高くする必要がある。そのため磁気記録媒体の
製造方法もサブミクロンオーダでは磁性層の膜厚が不均
一になるスピンコード法に代って、均一な薄膜を容易に
形成することが可能なスパッタ法やメッキ法が注目され
るとともに、従来の鉄酸化物例えばr−Fe、03の磁
性層は、その磁気特性、とくに残留磁束密度が小さく出
力が低いということから、磁性層として、スパッタ法に
よって形成されるコバルト(Co)系合金、例えばコバ
ルトー二、ケル(Ni)合金磁性薄隣が使用されるよう
になった。この合金のNi含有量の範囲は20〜30a
t%のよいことが知られている。
第6図に例えばco−Ni合金磁性膜の磁性層を備えた
ディスク状の磁気記録媒体の模型的な要部構成断面図を
示す。
ディスク状の磁気記録媒体の模型的な要部構成断面図を
示す。
第6図の磁気記録媒体は合金基板1上に非磁性基体Nl
28被覆し、この非磁性基体層2の上にさらに非磁性金
属下地層3を介してCo−Ni合金薄膜の磁性/i4a
を被接し、磁性層4a上に保護層5とその上に潤滑rf
a6を設け、このように符号1Kに堆積形成したもので
ある。
28被覆し、この非磁性基体層2の上にさらに非磁性金
属下地層3を介してCo−Ni合金薄膜の磁性/i4a
を被接し、磁性層4a上に保護層5とその上に潤滑rf
a6を設け、このように符号1Kに堆積形成したもので
ある。
以上のご七く構成された磁気記録媒体の合金基板1には
アルミニウム合金が多用されているが、場合によっては
プラスチ、りを用いてもよく、所定の面粗さ、平行度お
よび平面度に仕上げられる。
アルミニウム合金が多用されているが、場合によっては
プラスチ、りを用いてもよく、所定の面粗さ、平行度お
よび平面度に仕上げられる。
非磁性基体層2はニッケルーりん(Ni−P)合金を無
電解めっきしたもの、もしくは基板1自体をアルマイト
処理して得たものが好ましく、いずれも所定の硬さを必
要とし、表面は機械的研磨により鏡面仕上げを行なう。
電解めっきしたもの、もしくは基板1自体をアルマイト
処理して得たものが好ましく、いずれも所定の硬さを必
要とし、表面は機械的研磨により鏡面仕上げを行なう。
非磁性金属下地層3は一般にクロム(Cr)などを用い
てスパッタ法などにより形成され、Co−Nf合金薄膜
磁性層4aの保磁力(Hc)を高める作用をもつもので
あり、下地層3の厚さによっても磁性層4aの保磁力が
変化する。下地層3は膜厚の増加とともに磁性714
Hの保磁力を飽和させる傾向にあり、その保磁力を飽和
させる下地層3の膜厚は材料によって大きく異なる。
てスパッタ法などにより形成され、Co−Nf合金薄膜
磁性層4aの保磁力(Hc)を高める作用をもつもので
あり、下地層3の厚さによっても磁性層4aの保磁力が
変化する。下地層3は膜厚の増加とともに磁性714
Hの保磁力を飽和させる傾向にあり、その保磁力を飽和
させる下地層3の膜厚は材料によって大きく異なる。
磁性44aとしては、Co−20〜30aL% N i
合金薄膜をスパッタ法により形成した磁気記録媒体が良
好な磁気特性を示すという点で有効である。
合金薄膜をスパッタ法により形成した磁気記録媒体が良
好な磁気特性を示すという点で有効である。
磁性層4aの上にはCrもしくはCr酸化物(Cr!O
,)などの保護層5とさらにカーボンもしくは二酸化珪
素(Sin、)などの潤滑層6がいずれも連続してスパ
ッタにより設けられる。磁気記録媒体によっては保護層
5と潤滑層6との二層にすることなく、カーボンもしく
はSi O,の薄膜を保護潤滑層として一層のみ形成す
るものもあるが、CrやCr酸化物層を設けるのは磁性
/#4aの耐食性を配慮しているからである。
,)などの保護層5とさらにカーボンもしくは二酸化珪
素(Sin、)などの潤滑層6がいずれも連続してスパ
ッタにより設けられる。磁気記録媒体によっては保護層
5と潤滑層6との二層にすることなく、カーボンもしく
はSi O,の薄膜を保護潤滑層として一層のみ形成す
るものもあるが、CrやCr酸化物層を設けるのは磁性
/#4aの耐食性を配慮しているからである。
以上従来の磁気記録媒体について構成の概要を述べたが
、この磁気記録媒体にも次のような問題がある。すなわ
ち、上述のようにCo−Ni合金薄膜をスバ、り法によ
り形成した磁性7M48をもつ磁気記録媒体は良好な磁
気特性を示すものであるが、このCo−Ni合金薄膜に
ついてその後の研究が進むにつれて、初期の磁気特性は
すぐれているが、薄[/iN自体の耐食性が十分でない
ために、使用される環境によって遂には磁気特性の劣化
を起こすことがわかった。これに対して耐食性の向上お
いう点から、例えば通常金属材料の分野でょくのはその
緻密性と潤滑性を両立させることが困難であるなど、こ
の問題は容易に解決されていない。
、この磁気記録媒体にも次のような問題がある。すなわ
ち、上述のようにCo−Ni合金薄膜をスバ、り法によ
り形成した磁性7M48をもつ磁気記録媒体は良好な磁
気特性を示すものであるが、このCo−Ni合金薄膜に
ついてその後の研究が進むにつれて、初期の磁気特性は
すぐれているが、薄[/iN自体の耐食性が十分でない
ために、使用される環境によって遂には磁気特性の劣化
を起こすことがわかった。これに対して耐食性の向上お
いう点から、例えば通常金属材料の分野でょくのはその
緻密性と潤滑性を両立させることが困難であるなど、こ
の問題は容易に解決されていない。
したがって磁性層4aの磁気特性を損なうこ七なく、耐
食性を向上させる効果的な元素を添加するのが有力な手
段であり、保護層5を設けることにより耐食性は一層強
化される。このことから磁気記録媒体は有効な元素を添
加することによって磁気特性を安定に保持したま才、さ
らIこ保護層5の効果を期待して、下地層3を可能な限
り薄くし、スパッタ時間を短縮することができるという
可能性も生ずる。すなわち、従来のCr下地層よりさら
に薄い膜厚の下地層の材料を選択すること、およびCr
も含めてこれら下地層お組み合わせて最適な磁気特性を
示す磁性層Co−Ni合今に対して添加する有効な元素
の含有量の範囲を決定することにより、製造効率が高く
、良好な磁気特性と耐食性を兼備した磁気記録媒体を得
るこ七ができる。
食性を向上させる効果的な元素を添加するのが有力な手
段であり、保護層5を設けることにより耐食性は一層強
化される。このことから磁気記録媒体は有効な元素を添
加することによって磁気特性を安定に保持したま才、さ
らIこ保護層5の効果を期待して、下地層3を可能な限
り薄くし、スパッタ時間を短縮することができるという
可能性も生ずる。すなわち、従来のCr下地層よりさら
に薄い膜厚の下地層の材料を選択すること、およびCr
も含めてこれら下地層お組み合わせて最適な磁気特性を
示す磁性層Co−Ni合今に対して添加する有効な元素
の含有量の範囲を決定することにより、製造効率が高く
、良好な磁気特性と耐食性を兼備した磁気記録媒体を得
るこ七ができる。
本発明は上述の点に鑑みてなされたものであり、その目
的は基板上に非磁性金属下地層、添加元素を含むCo−
Ni合金薄膜磁性層、保j層および潤滑層をこの順にス
パッタし、積層成形してなり、適当な膜厚の非磁性金属
下地層と適量の添加元素を含有したCo−Ni合金薄膜
磁性層との組み合わせによる良好な磁気特性と耐食性を
具備した磁気記録媒体を提供することにある。
的は基板上に非磁性金属下地層、添加元素を含むCo−
Ni合金薄膜磁性層、保j層および潤滑層をこの順にス
パッタし、積層成形してなり、適当な膜厚の非磁性金属
下地層と適量の添加元素を含有したCo−Ni合金薄膜
磁性層との組み合わせによる良好な磁気特性と耐食性を
具備した磁気記録媒体を提供することにある。
本発明は不活性ガス雰囲気中でA2基板上のNi−Pめ
っき層の上に連続的にスパッタ形成した下地層、磁性層
、保護層および潤滑層からなる磁気記録媒体の磁性層と
してNbを1〜16atl好ましくは4〜14at%含
有するCo−N1合金薄膜を形成し、下地層の膜厚はC
rで300OA、Wを用いるときはさらに薄(500A
としたものである。
っき層の上に連続的にスパッタ形成した下地層、磁性層
、保護層および潤滑層からなる磁気記録媒体の磁性層と
してNbを1〜16atl好ましくは4〜14at%含
有するCo−N1合金薄膜を形成し、下地層の膜厚はC
rで300OA、Wを用いるときはさらに薄(500A
としたものである。
[作用〕
本発明の磁気記録媒体は磁性層をNbl〜16at%を
含むCo−Ni合金薄獲としたことにより、膜薄くした
W下地層と組み合わせて8000e以上の高い保磁力を
得ることができ、保護膜の効果と相俟って一層耐食性を
向上させ、CSS試験に対してもすぐれた耐久性を示す
ようになる。
含むCo−Ni合金薄獲としたことにより、膜薄くした
W下地層と組み合わせて8000e以上の高い保磁力を
得ることができ、保護膜の効果と相俟って一層耐食性を
向上させ、CSS試験に対してもすぐれた耐久性を示す
ようになる。
以下本発明を実施例に基づき説明する。
第1図に本発明により得られた磁気記録媒体の要部構成
断面図を示し、第6図と共通部分を同一符号で表わしで
ある。第1図は第6図と基本的な構成は全く同じであり
、第1図が第6図と異なる所は磁性層4と非磁性金属下
地層3に用いる材料のみである。すなわち、本発明では
磁性層4をC0−N i −N b合金とし下地層3に
はCrのほかにWを用いたことである。
断面図を示し、第6図と共通部分を同一符号で表わしで
ある。第1図は第6図と基本的な構成は全く同じであり
、第1図が第6図と異なる所は磁性層4と非磁性金属下
地層3に用いる材料のみである。すなわち、本発明では
磁性層4をC0−N i −N b合金とし下地層3に
はCrのほかにWを用いたことである。
まず非磁性合金基板1として旋盤加工および加圧焼鈍に
より、十分に小さなうねりすなわち円周。
より、十分に小さなうねりすなわち円周。
半径方向とも20μm以下の面に仕上げたディスク状ア
ルミニウム板を用い、この上にN1−P合金の無電解メ
ッキを約30μmの厚さに被膜し、メッキ被膜を平均表
面粗さ0.02μm、厚さ15μmまで鏡面仕上げを行
なうことにより非磁性基体層2を形成する。次いで非磁
性基体層2の上に非磁性金属下地層3としてCrをスバ
、りして形成するがCr膜の厚さは前述のように磁性層
4の磁気特性に影響を与えるので0.1μm間隔で0.
7μmまで変化させた。下地層3を形成した後、直ちに
引続き同じスパッタ槽内で磁性/ii4として本発明に
よるC0−30at%−Ni−Nb合金をスパッタによ
り下地層3の上に50OAの厚さに設けた。この磁性合
金薄膜についてはNbを添加する効果を明らか1こする
ため、Nb含有fを5atチおきに15atチまで変え
たものを作製した。この際、下地層3に続いて磁性層4
をスパッタするまでにあまりに長い時間スパッタ槽内に
放置したり、大気に曝したりすると、下地層3の効果を
発揮することができず、磁性層4の必要とする大きな保
磁力が得られなくなる。
ルミニウム板を用い、この上にN1−P合金の無電解メ
ッキを約30μmの厚さに被膜し、メッキ被膜を平均表
面粗さ0.02μm、厚さ15μmまで鏡面仕上げを行
なうことにより非磁性基体層2を形成する。次いで非磁
性基体層2の上に非磁性金属下地層3としてCrをスバ
、りして形成するがCr膜の厚さは前述のように磁性層
4の磁気特性に影響を与えるので0.1μm間隔で0.
7μmまで変化させた。下地層3を形成した後、直ちに
引続き同じスパッタ槽内で磁性/ii4として本発明に
よるC0−30at%−Ni−Nb合金をスパッタによ
り下地層3の上に50OAの厚さに設けた。この磁性合
金薄膜についてはNbを添加する効果を明らか1こする
ため、Nb含有fを5atチおきに15atチまで変え
たものを作製した。この際、下地層3に続いて磁性層4
をスパッタするまでにあまりに長い時間スパッタ槽内に
放置したり、大気に曝したりすると、下地層3の効果を
発揮することができず、磁性層4の必要とする大きな保
磁力が得られなくなる。
例えば下地層3を形成した後、大気に曝して磁性層4を
その上に形成した場合、磁性層4の保磁力は僅か200
0eにしかならない。こねはスパッタ槽内に長時間放置
したときも同様の結果となるから、下地層3の形成後は
直ちに磁性層4のスパッタを実施しなければならない。
その上に形成した場合、磁性層4の保磁力は僅か200
0eにしかならない。こねはスパッタ槽内に長時間放置
したときも同様の結果となるから、下地層3の形成後は
直ちに磁性層4のスパッタを実施しなければならない。
最後に表面保護潤滑膜5としてカーボンをスパッタして
膜厚500Aに形成することにより、この磁気記録媒体
を作製した。
膜厚500Aに形成することにより、この磁気記録媒体
を作製した。
次に以上のごとくして得られた磁気記録媒体の諸物件に
ついて述べる。はじめに下地層3としてCr被膜を設け
たときの膜厚に対する磁性層4のHcの変化を第2図の
線図に示す。この場合磁性層4はCo−30at%Ni
JCNb −i 5at%添加シタ合金とし、その他
の条件も一定とした。第2図に2いて横軸は0.1μm
間隔で目盛ったCr被膜の厚さ、縦軸は磁性層4のHc
の値として両者の関係をプロ、トしであるが、第2図で
はそのほかに、二つの比較例を併記し、本発明と従来例
とを対比させて本発明の有効性を明らかにしている。比
較例1の磁気記録媒体の製造方法は上述の実施例の場合
と全く同様であるが、磁性層がCo単独の薄膜である点
のみが異なり、比較例2では同様に磁性層をCo−30
atチNiのみの薄膜でありNbを添加してないもので
ある。
ついて述べる。はじめに下地層3としてCr被膜を設け
たときの膜厚に対する磁性層4のHcの変化を第2図の
線図に示す。この場合磁性層4はCo−30at%Ni
JCNb −i 5at%添加シタ合金とし、その他
の条件も一定とした。第2図に2いて横軸は0.1μm
間隔で目盛ったCr被膜の厚さ、縦軸は磁性層4のHc
の値として両者の関係をプロ、トしであるが、第2図で
はそのほかに、二つの比較例を併記し、本発明と従来例
とを対比させて本発明の有効性を明らかにしている。比
較例1の磁気記録媒体の製造方法は上述の実施例の場合
と全く同様であるが、磁性層がCo単独の薄膜である点
のみが異なり、比較例2では同様に磁性層をCo−30
atチNiのみの薄膜でありNbを添加してないもので
ある。
第2図から本発明に係るCo−30at%Ni −5N
bからなる磁性層4はCr被膜によりHeを高める効果
が顕著であり、Cr膜厚0.3μm以上でHcが大きな
値で飽和に達することがわかる。これに対して比較例1
および比較例2はCrの膜厚を増しても磁性層のHcは
あまり大きくならず、Nbの添加効果が明瞭である。
bからなる磁性層4はCr被膜によりHeを高める効果
が顕著であり、Cr膜厚0.3μm以上でHcが大きな
値で飽和に達することがわかる。これに対して比較例1
および比較例2はCrの膜厚を増しても磁性層のHcは
あまり大きくならず、Nbの添加効果が明瞭である。
次に第3図(a)〜(d)は磁性層4として設けたCo
−30at%Ni−Nb合金のNb含有量を変えたとき
の磁気特性との関係を示した線図であり、いずれも横軸
をNb含有量とし、縦軸を磁気特性としてプロ、トシた
ものである。すなわちNb含有量に対して第3図(a)
は保磁力、第3図(b)は角形比(S)2よび保磁力角
形比(S”)、第3図(C)は残留磁束密度(Br)と
膜厚(δ)との積、第3図(d)は飽和磁束密度(Bs
)と膜厚(δ)との積の関係線図である。ただし、この
ときその他の条件は全て同じに設定してあり、いずわ、
もRFスパッタ装置を用いて出力500W、全ガス圧4
.Ox 10−2Torr 、基板温度ハ室温である。
−30at%Ni−Nb合金のNb含有量を変えたとき
の磁気特性との関係を示した線図であり、いずれも横軸
をNb含有量とし、縦軸を磁気特性としてプロ、トシた
ものである。すなわちNb含有量に対して第3図(a)
は保磁力、第3図(b)は角形比(S)2よび保磁力角
形比(S”)、第3図(C)は残留磁束密度(Br)と
膜厚(δ)との積、第3図(d)は飽和磁束密度(Bs
)と膜厚(δ)との積の関係線図である。ただし、この
ときその他の条件は全て同じに設定してあり、いずわ、
もRFスパッタ装置を用いて出力500W、全ガス圧4
.Ox 10−2Torr 、基板温度ハ室温である。
なお下地層3のCrの膜厚はすべて3000Aとした。
WJ3図(a)〜(d)かられかるようにNb含有量に
対して最も大きく変る磁気特性は(81図のHcであっ
て磁気記録媒体として必要な5oooe以上の得られる
Nb含有量の範囲は1〜16at%であり9000eを
超える好ましい範囲は4〜14 at %である。
対して最も大きく変る磁気特性は(81図のHcであっ
て磁気記録媒体として必要な5oooe以上の得られる
Nb含有量の範囲は1〜16at%であり9000eを
超える好ましい範囲は4〜14 at %である。
この範囲のNb含有量についてみると(C)図のBr・
δ、(d)図のBs・δはいずれも低下の傾向にある。
δ、(d)図のBs・δはいずれも低下の傾向にある。
しかしこの程度の低下は磁気特性の上でとくに問題とな
ることはない。
ることはない。
さらに本発明の磁気記録媒体の磁性層の耐食性について
言及する。第4図は温度40°C9相対湿度80%の雰
囲気中に曝したCo−30at% N i −5at%
Nbの磁性層4を有する磁気記録媒体を記録装置に用い
たときのエラー個数の変化を示した線図であるが第4図
の場合も比較のために@2図のときと同じ比較例1と比
較例2を併記した。
言及する。第4図は温度40°C9相対湿度80%の雰
囲気中に曝したCo−30at% N i −5at%
Nbの磁性層4を有する磁気記録媒体を記録装置に用い
たときのエラー個数の変化を示した線図であるが第4図
の場合も比較のために@2図のときと同じ比較例1と比
較例2を併記した。
第4図にみられるようにエラー個数は本発明の記録媒体
は12 Weeks放置してはじめて僅かにエラーがカ
ウントされるのに対して、比較例1.比較例2のものは
短い日数のうちにエラー個数が急激に増加し使用に耐え
なくなる。このことは磁性層全体の磁気特性は環境条件
によって比較的長時間大きな変化を示すことはないが、
湿気などの雰囲気に曝されたとき、従来の磁性層は表面
の微小な局部から順次腐食されて変質することに起因し
ている。これに対しNbを適量添加した磁性層を有する
本発明の磁気記録媒体は第4図から耐食性もすぐねたも
のであることがわかる。なお第4図ζこは図示してない
が4〜14aL%の範囲でNbを添加したものについて
同様の結果を得ることができる。
は12 Weeks放置してはじめて僅かにエラーがカ
ウントされるのに対して、比較例1.比較例2のものは
短い日数のうちにエラー個数が急激に増加し使用に耐え
なくなる。このことは磁性層全体の磁気特性は環境条件
によって比較的長時間大きな変化を示すことはないが、
湿気などの雰囲気に曝されたとき、従来の磁性層は表面
の微小な局部から順次腐食されて変質することに起因し
ている。これに対しNbを適量添加した磁性層を有する
本発明の磁気記録媒体は第4図から耐食性もすぐねたも
のであることがわかる。なお第4図ζこは図示してない
が4〜14aL%の範囲でNbを添加したものについて
同様の結果を得ることができる。
また本発明の磁気記録媒体を磁気記録装置に組み込んで
C88試験を行なった結果、2万回のコンタクト・スタ
ート・ストップに対しても記録媒体表面になんら傷は発
生せず、再生出力もほとんど低下することなく、十分な
耐久性をもっていることがわかった。
C88試験を行なった結果、2万回のコンタクト・スタ
ート・ストップに対しても記録媒体表面になんら傷は発
生せず、再生出力もほとんど低下することなく、十分な
耐久性をもっていることがわかった。
以上のごとく本発明Iこよる磁気記録媒体は磁性Nt
4 (7) Co −N i合金1(N bを1〜16
at%添加することにより、すぐれた磁気特性と耐食性
を兼備するものであることがわかったが、さらに本発明
者らは下地層3についてこれをざらlこ薄くすることが
可能な材料を種々検討した結果、Wを用いるのが有効で
あることがわかった。第5図は下地層3としてW被膜を
設けたときの膜厚lこ対する磁性層4のHcの変化を示
した線図である。第5図も第2図と同様磁性層4にはC
o−3Qat%NiにNb%5at%添加した合金を用
い、その他の条件は一定とし、また第2図と同じ比較例
1と比較例2を併記し、従来例と対比しである。第5図
から下地層3としてWを用いたとき、磁性層4のCo−
Ni合金に隔を含むことが磁性層4のHcを高める効果
を顕著にするものであり、ざらをこ第2図のCrの場合
と比べると、下地N43の厚さは薄くなる方へ移行し、
W膜厚がほぼ0.05μm以上であればHaが大きな値
で飽和に達することがわかる。このことはCo−30a
t%Ni−5at%Nb合金を磁性M4とし、Wの下地
層3と組み合わせ用いるときはW膜の厚さをほぼ0.0
5μmまで薄くすることが可能なことを意味している。
4 (7) Co −N i合金1(N bを1〜16
at%添加することにより、すぐれた磁気特性と耐食性
を兼備するものであることがわかったが、さらに本発明
者らは下地層3についてこれをざらlこ薄くすることが
可能な材料を種々検討した結果、Wを用いるのが有効で
あることがわかった。第5図は下地層3としてW被膜を
設けたときの膜厚lこ対する磁性層4のHcの変化を示
した線図である。第5図も第2図と同様磁性層4にはC
o−3Qat%NiにNb%5at%添加した合金を用
い、その他の条件は一定とし、また第2図と同じ比較例
1と比較例2を併記し、従来例と対比しである。第5図
から下地層3としてWを用いたとき、磁性層4のCo−
Ni合金に隔を含むことが磁性層4のHcを高める効果
を顕著にするものであり、ざらをこ第2図のCrの場合
と比べると、下地N43の厚さは薄くなる方へ移行し、
W膜厚がほぼ0.05μm以上であればHaが大きな値
で飽和に達することがわかる。このことはCo−30a
t%Ni−5at%Nb合金を磁性M4とし、Wの下地
層3と組み合わせ用いるときはW膜の厚さをほぼ0.0
5μmまで薄くすることが可能なことを意味している。
次にW下地層3の膜厚を0.05μmとしたとき、その
上に設けるCo−Ni合金磁性層に対して添加するNb
の債を決定するために、前述のCr下地層の場合と全く
同様に磁性層4のCo−3Qat係−Nb合金のNb含
有量をO〜l 5at%の範囲で変え、こわら磁気記録
媒体の磁気特性として、保磁力(Hc)、保磁力角形比
(S”)、残留磁束密度と膜厚との積(Br・δ)およ
び飽和磁束密度と膜厚との積(Bs・δ)の関係線図を
求めた所、第3図のCr下地層のものとほぼ同様の結果
が得られた。したがってこれらの特性線図は図示を省略
するが本発明のCo−Nf−Nb合金磁性層4のNb含
有量は、下地層3に0.05μmのW模を用いたときも
、8000e以上のHcが得られる範囲は1〜16at
%であり、90008以上の好ましい範囲は4〜14a
t%である。またW膜を下地層3とした場合当然のこと
ながらこの磁気記録媒体の耐食性は第4図のCr下地層
の場合と同様の結果が得られ、C8S試験に対してもす
ぐれた耐久性を発揮する。
上に設けるCo−Ni合金磁性層に対して添加するNb
の債を決定するために、前述のCr下地層の場合と全く
同様に磁性層4のCo−3Qat係−Nb合金のNb含
有量をO〜l 5at%の範囲で変え、こわら磁気記録
媒体の磁気特性として、保磁力(Hc)、保磁力角形比
(S”)、残留磁束密度と膜厚との積(Br・δ)およ
び飽和磁束密度と膜厚との積(Bs・δ)の関係線図を
求めた所、第3図のCr下地層のものとほぼ同様の結果
が得られた。したがってこれらの特性線図は図示を省略
するが本発明のCo−Nf−Nb合金磁性層4のNb含
有量は、下地層3に0.05μmのW模を用いたときも
、8000e以上のHcが得られる範囲は1〜16at
%であり、90008以上の好ましい範囲は4〜14a
t%である。またW膜を下地層3とした場合当然のこと
ながらこの磁気記録媒体の耐食性は第4図のCr下地層
の場合と同様の結果が得られ、C8S試験に対してもす
ぐれた耐久性を発揮する。
以上説明してきたように本発明のCo −N i −N
b合金からなる磁性層を備えた磁気記録媒体はNb含
有量を1〜16at%、より好ましくは4〜14at%
とすることにより、CrやWの下地層と組み合わせて用
い、すぐれた磁気特性と耐食性を両立させたものという
ことができる。
b合金からなる磁性層を備えた磁気記録媒体はNb含
有量を1〜16at%、より好ましくは4〜14at%
とすることにより、CrやWの下地層と組み合わせて用
い、すぐれた磁気特性と耐食性を両立させたものという
ことができる。
磁気ディスクなどの磁気記録媒体は記録密度をあげるた
めに磁性層の膜厚を薄くシ、磁気特性を向上させるため
にスパッタによるCo−Ni系合金薄模が用いられるよ
うになったが、一方でこの磁性層はCo−Ni系合金で
は使用環境における耐食性が例えば鉄酸化物膜などより
劣るという欠点をもっていたのに対し、本発明はCo−
Ni系合金ζこ1〜15atチのNbを含んだ磁性層を
用いて、基板上に非磁性基体層、下地層、磁性層、保@
層2よぴ潤滑層をこの預に堆積してなる磁気記録媒体と
して従来と同様に構成したものであって、磁性層のCo
−Ni系合金にNbを添加したことにより、下地層とな
るCrやWが磁性層のHcを高めるのに極めて効果的に
働くと同時に磁性層自体の耐食性を著しく向上させ、磁
気特性と耐食性という従来相反関係にあった問題を一挙
に解決し、この両者を一つの記録媒体で兼ね備えること
ができ、しかも本発明による磁性層はCrやとくにWの
下地層を薄くすることができるので記録媒体の製造効率
を高めるのに役立ち、この媒体を用いた記録装置は十分
な出力が得られ、長寿命を保持することが可能になるな
ど多くの利点を有するものである。
めに磁性層の膜厚を薄くシ、磁気特性を向上させるため
にスパッタによるCo−Ni系合金薄模が用いられるよ
うになったが、一方でこの磁性層はCo−Ni系合金で
は使用環境における耐食性が例えば鉄酸化物膜などより
劣るという欠点をもっていたのに対し、本発明はCo−
Ni系合金ζこ1〜15atチのNbを含んだ磁性層を
用いて、基板上に非磁性基体層、下地層、磁性層、保@
層2よぴ潤滑層をこの預に堆積してなる磁気記録媒体と
して従来と同様に構成したものであって、磁性層のCo
−Ni系合金にNbを添加したことにより、下地層とな
るCrやWが磁性層のHcを高めるのに極めて効果的に
働くと同時に磁性層自体の耐食性を著しく向上させ、磁
気特性と耐食性という従来相反関係にあった問題を一挙
に解決し、この両者を一つの記録媒体で兼ね備えること
ができ、しかも本発明による磁性層はCrやとくにWの
下地層を薄くすることができるので記録媒体の製造効率
を高めるのに役立ち、この媒体を用いた記録装置は十分
な出力が得られ、長寿命を保持することが可能になるな
ど多くの利点を有するものである。
第1図は本発明の磁気記録媒体の要部構成断面図、@2
図はCr下地層の厚さに対する磁性層のHeの変化を示
す線図、第3図は磁性層のNb含有量と磁気特性との関
係を示す線図、第4図は温度40°C9相対湿変80チ
の雰囲気中に曝した磁気記録媒体のエラー個数の変化を
示す線図、l!5図はW下地層の厚さに対する磁性層の
Hcの変化を示す線図、$6図は従来の磁気記録媒体の
要部構成断面図である。 l・・合金基板、2・・・非磁性基体層、3・・・非磁
性金属下地層、4,4a・・・磁性層、5・・・保護層
、6・・・第1図 Cr 8興、 厚 (、um)第2図 Nb含e * (at %) Nb ’iy
Jj量(a t % )((1)(b) Nb4鞘t (aty、+ NbS有f(al
y、)(() (d)第4図 wryk犀 (lJm) 一ゝ−ノ \、
図はCr下地層の厚さに対する磁性層のHeの変化を示
す線図、第3図は磁性層のNb含有量と磁気特性との関
係を示す線図、第4図は温度40°C9相対湿変80チ
の雰囲気中に曝した磁気記録媒体のエラー個数の変化を
示す線図、l!5図はW下地層の厚さに対する磁性層の
Hcの変化を示す線図、$6図は従来の磁気記録媒体の
要部構成断面図である。 l・・合金基板、2・・・非磁性基体層、3・・・非磁
性金属下地層、4,4a・・・磁性層、5・・・保護層
、6・・・第1図 Cr 8興、 厚 (、um)第2図 Nb含e * (at %) Nb ’iy
Jj量(a t % )((1)(b) Nb4鞘t (aty、+ NbS有f(al
y、)(() (d)第4図 wryk犀 (lJm) 一ゝ−ノ \、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)基板上の主表面を被覆した非磁性基体上に非磁性金
属下地層、磁性層、保護層および潤滑膜をこの順に連続
スパッタして積層形成した磁気記録媒体において、前記
磁性層がNbを1〜16at%含むCo−Ni合金から
なることを特徴とする磁気記録媒体。 2)特許請求の範囲第1項記載の媒体において、磁性層
のNb含有量が4〜14at%であることを特徴とする
磁気記録媒体。 3)特許請求の範囲第1項または第2項記載の媒体にお
いて、非磁性金属下地層が少くとも0.3μmの厚さを
もつCrであることを特徴とする磁気記録媒体。 4)特許請求の範囲第1項または第2項記載の媒体にお
いて、非磁性金属下地層が少くとも0.05μmの厚さ
をもつWであることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10409587A JPS63269318A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10409587A JPS63269318A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63269318A true JPS63269318A (ja) | 1988-11-07 |
Family
ID=14371557
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10409587A Pending JPS63269318A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63269318A (ja) |
-
1987
- 1987-04-27 JP JP10409587A patent/JPS63269318A/ja active Pending
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