JPH01165023A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH01165023A JPH01165023A JP32323387A JP32323387A JPH01165023A JP H01165023 A JPH01165023 A JP H01165023A JP 32323387 A JP32323387 A JP 32323387A JP 32323387 A JP32323387 A JP 32323387A JP H01165023 A JPH01165023 A JP H01165023A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録装置に用いられる磁気ディスクなどの
磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体に関する。
第３図は従来用いられている磁気記録媒体の模式的な要
部構成断面図を示したものである。第３図の磁気記録媒
体はへ１−Ｍｇ合金基板１の上に非磁性金属基体層２を
被覆し、この非磁性金属基体層２上にさらに非磁性金属
下地層３を介して例えばＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金薄膜の磁
性層４を被覆し、磁性層４上に保護潤滑層５を設けてあ
り、基板１に非磁性金属基体層２から保護潤滑層５まで
をこの符号順に積み重ねたように構成したものである。
部構成断面図を示したものである。第３図の磁気記録媒
体はへ１−Ｍｇ合金基板１の上に非磁性金属基体層２を
被覆し、この非磁性金属基体層２上にさらに非磁性金属
下地層３を介して例えばＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金薄膜の磁
性層４を被覆し、磁性層４上に保護潤滑層５を設けてあ
り、基板１に非磁性金属基体層２から保護潤滑層５まで
をこの符号順に積み重ねたように構成したものである。
このように構成された磁気記録媒体は製造過程で基板１
を所定の面粗さ、平行度および平面度に仕上げ、非磁性
金属基体層２はＮ１−Ｐ合金を無電解めっきもしくは基
板１自体をアルマイト処理することにより形成するのが
好ましく、いずれも所定の硬さを必要とし、表面は機械
的研磨を行って所定の面精度まで仕上げる。非磁性金属
下地層３は一般にＣ「を用いてスパッタ形成し、引き続
きＣ０−Ｎｉ−Ｃｒ合金などの磁性層４、さらにカーボ
ンもしくは５ｉ０２などの保護潤滑層５を連続的にスパ
ッタして被覆する。
を所定の面粗さ、平行度および平面度に仕上げ、非磁性
金属基体層２はＮ１−Ｐ合金を無電解めっきもしくは基
板１自体をアルマイト処理することにより形成するのが
好ましく、いずれも所定の硬さを必要とし、表面は機械
的研磨を行って所定の面精度まで仕上げる。非磁性金属
下地層３は一般にＣ「を用いてスパッタ形成し、引き続
きＣ０−Ｎｉ−Ｃｒ合金などの磁性層４、さらにカーボ
ンもしくは５ｉ０２などの保護潤滑層５を連続的にスパ
ッタして被覆する。
かくして得られた磁気記録媒体は強度１寸法精度などの
機械的特性および磁気特性も良好であり、例えば＾１−
Ｍｇ合金基板１上に被覆したＮ１−Ｐ基体層２にＣｒの
非磁性金属下地層３を２０００人、Ｃｏ−３Ｑａｔ％Ｎ
ｉ−７，５ａｔ％Ｃｒ磁性層４を５００人およびカーボ
ン保護潤滑層５を５００Ａ連続スパツタして形成したも
のの代表的な磁気特性として保磁力Ｈｃは９０００ｅで
ある。
機械的特性および磁気特性も良好であり、例えば＾１−
Ｍｇ合金基板１上に被覆したＮ１−Ｐ基体層２にＣｒの
非磁性金属下地層３を２０００人、Ｃｏ−３Ｑａｔ％Ｎ
ｉ−７，５ａｔ％Ｃｒ磁性層４を５００人およびカーボ
ン保護潤滑層５を５００Ａ連続スパツタして形成したも
のの代表的な磁気特性として保磁力Ｈｃは９０００ｅで
ある。
以上のような磁気記録媒体は緒特性の向上とともに近年
ますます軽量化とコストの低減に対する要求が高められ
ている。
ますます軽量化とコストの低減に対する要求が高められ
ている。
記録媒体の軽量化とコスト低減に対して考慮すべき点は
基板材料の選択である。すなわち、Ａｌ−Ｍｇ合金を基
板に用いているために、この上に硬いＮ１−Ｐ層を設け
ねばならず、基板面とＮ１−Ｐ層の表面研磨加工に多大
の時間を要し、このことがコストに大きな比率を占めて
いる。したがって、この加工工数を短縮するのがよいが
、所定の面粗さ。
基板材料の選択である。すなわち、Ａｌ−Ｍｇ合金を基
板に用いているために、この上に硬いＮ１−Ｐ層を設け
ねばならず、基板面とＮ１−Ｐ層の表面研磨加工に多大
の時間を要し、このことがコストに大きな比率を占めて
いる。したがって、この加工工数を短縮するのがよいが
、所定の面粗さ。
平行度および平面度に仕上げなければならないので、大
幅な工数省略は不可能であってコストの低減には限界が
あり、Ｍ−Ｍｇ合金を用いる限り多くを期待することが
できない。
幅な工数省略は不可能であってコストの低減には限界が
あり、Ｍ−Ｍｇ合金を用いる限り多くを期待することが
できない。
一方基板材料の選択に関しては記録媒体の軽量化も含め
て、プラスチックもしくはプラスチックとセラミックの
複合材料を用いるのが有望である。
て、プラスチックもしくはプラスチックとセラミックの
複合材料を用いるのが有望である。
これらの材料はＭ−Ｍｇ合金より軽く、金型を用いて成
形することができるので、金型の表面を高精度に加工し
ておくことにより、成形後の表面研磨を行うことなく十
分に良好な面粗さや平行度が得られるという利点がある
からである。 −しかしながら、プラスチック
またはその複合材料を基板に用いるときは、別な問題が
起きる。それは、プラスチックは金属とは異なり、吸湿
性が高く水分を吸蔵するので、これがスパッタ工程で放
出され磁性層に悪い影響を及ぼし、磁気特性。
形することができるので、金型の表面を高精度に加工し
ておくことにより、成形後の表面研磨を行うことなく十
分に良好な面粗さや平行度が得られるという利点がある
からである。 −しかしながら、プラスチック
またはその複合材料を基板に用いるときは、別な問題が
起きる。それは、プラスチックは金属とは異なり、吸湿
性が高く水分を吸蔵するので、これがスパッタ工程で放
出され磁性層に悪い影響を及ぼし、磁気特性。
特に保磁力を低下させてしまう。したがってＡｌ−Ｍｇ
合金に代わり、プラスチックなどを基板に用いたときも
記録媒体の特性を損なわないようにするのが好ましい。
合金に代わり、プラスチックなどを基板に用いたときも
記録媒体の特性を損なわないようにするのが好ましい。
本発明は上述の点に鑑みてなされたものであり、その目
的は磁気記録媒体をより軽量とし、コストを低減するた
めにプラスチックまたはプラスチックとセラミックの複
合材料を用い、しかも従来のスパッタ方式により良好な
磁気特性が得られる構造を有する磁気記録媒体を提供す
ることにある。
的は磁気記録媒体をより軽量とし、コストを低減するた
めにプラスチックまたはプラスチックとセラミックの複
合材料を用い、しかも従来のスパッタ方式により良好な
磁気特性が得られる構造を有する磁気記録媒体を提供す
ることにある。
本発明の磁気記録媒体はプラスチックなどの非磁性基板
上に窒化ハフニウム薄膜からなるバッファ層、非磁性金
属下地層、磁性層および保護潤滑層をこの順に連続的に
スパッタ形成したものである。
上に窒化ハフニウム薄膜からなるバッファ層、非磁性金
属下地層、磁性層および保護潤滑層をこの順に連続的に
スパッタ形成したものである。
プラスチックなどは水分を吸蔵しているために、これを
基板として用いると、スパッタ過程で放出するガスの影
響を受けて、特に磁性層の保磁力を低下させるが本発明
ではプラスチックなどの基板と非磁性金属下地層との間
にバッファ層として窒化ハフニウム薄膜が介在するよう
にスパッタ形成したために、基板に吸蔵されている水分
などのガス放出を防ぐことができるので、良好な磁気特
性を保持したまま、従来より軽量にして安価な磁気記録
媒体が得られる。
基板として用いると、スパッタ過程で放出するガスの影
響を受けて、特に磁性層の保磁力を低下させるが本発明
ではプラスチックなどの基板と非磁性金属下地層との間
にバッファ層として窒化ハフニウム薄膜が介在するよう
にスパッタ形成したために、基板に吸蔵されている水分
などのガス放出を防ぐことができるので、良好な磁気特
性を保持したまま、従来より軽量にして安価な磁気記録
媒体が得られる。
以下本発明を実施例に基づき説明する。
第１図は本発明により得られた磁気記録媒体の模式的な
要部構成断面図を示したものであり、第３図と共通部分
を同一符号で表しである。第１図は第３図と基本的な構
成は同じであるが、第１図が第３図と異なる点は基板１
ａにプラスチックを用い、基板１ａと非磁性金属下地層
３との間に、非磁性金属基体層２ではなく、バッファ層
６としてＨｆＮ膜が介在するように構成した所にある。
要部構成断面図を示したものであり、第３図と共通部分
を同一符号で表しである。第１図は第３図と基本的な構
成は同じであるが、第１図が第３図と異なる点は基板１
ａにプラスチックを用い、基板１ａと非磁性金属下地層
３との間に、非磁性金属基体層２ではなく、バッファ層
６としてＨｆＮ膜が介在するように構成した所にある。
この記録媒体はまず基板材料にポリエーテルイミド樹脂
の商品名ウルテム１０００を用い、所定の表面精度をも
った金型により成形して基板１ａを作製し、この基板ｌ
ａ上にバッファ層６のＨｆＮ 、非磁性金属下地層３の
Ｃｒを２０００人、磁性層４のＣｏ −３Ｑａｔ％Ｎｉ
−７，５ａｔ％Ｃｒ合金を５０ＯＡ 、保護潤滑層５
のカーボンを５００人同一真空槽内で連続的にスパッタ
形成したものであるが、本発明に係わるバッファ層６の
膜厚についてはその効果を確かめるためにバッファ層６
を設けないものから２０００人まで変化させた。また同
時に基板材料としてポリエステル樹脂と炭酸カルシウム
との複合材料を用いた媒体を作製したが、このとき下地
層３．磁性層４および保護潤滑層５についてはプラスチ
ック基板を用いたものと全く同じ条件にしである。
の商品名ウルテム１０００を用い、所定の表面精度をも
った金型により成形して基板１ａを作製し、この基板ｌ
ａ上にバッファ層６のＨｆＮ 、非磁性金属下地層３の
Ｃｒを２０００人、磁性層４のＣｏ −３Ｑａｔ％Ｎｉ
−７，５ａｔ％Ｃｒ合金を５０ＯＡ 、保護潤滑層５
のカーボンを５００人同一真空槽内で連続的にスパッタ
形成したものであるが、本発明に係わるバッファ層６の
膜厚についてはその効果を確かめるためにバッファ層６
を設けないものから２０００人まで変化させた。また同
時に基板材料としてポリエステル樹脂と炭酸カルシウム
との複合材料を用いた媒体を作製したが、このとき下地
層３．磁性層４および保護潤滑層５についてはプラスチ
ック基板を用いたものと全く同じ条件にしである。
次に以上のごとくして得られたそれぞれの磁気記録媒体
について磁気特性の比較を行った。第２図は縦軸を媒体
の代表的な磁気特性である保磁力）１ｃとし、横軸をバ
ッファ層６のＨｆＮ膜厚とし、それぞれの媒体について
１０点測定の平均値をプロットしたものであり、基板に
プラスチック単独（○）。
について磁気特性の比較を行った。第２図は縦軸を媒体
の代表的な磁気特性である保磁力）１ｃとし、横軸をバ
ッファ層６のＨｆＮ膜厚とし、それぞれの媒体について
１０点測定の平均値をプロットしたものであり、基板に
プラスチック単独（○）。
プラスチック複合材（△）を用いたものと、比較のため
にバッファ層を形成してないものおよび従来のＡ１合金
基板を用いたものを併記しである。
にバッファ層を形成してないものおよび従来のＡ１合金
基板を用いたものを併記しである。
第２図かられかるように、バッファ層を設けてない媒体
は）Ｉｃが僅かに１０００ｅ程度で非常に小さな値しか
得られず、これに対してＨｆＮバッファ層６を基板１ａ
と下地層３との間に形成しである本発明の媒体はバッフ
ァ層６のＨｆＮの膜厚が増すとともに保磁力が大きくな
り、このＨｆＮ膜厚が５００Ａ以上になると従来のＡ１
合金基板ｌにＮ１−Ｐめっき層２を被覆した媒体の保磁
力９０００ｅと同等の値が得られる。
は）Ｉｃが僅かに１０００ｅ程度で非常に小さな値しか
得られず、これに対してＨｆＮバッファ層６を基板１ａ
と下地層３との間に形成しである本発明の媒体はバッフ
ァ層６のＨｆＮの膜厚が増すとともに保磁力が大きくな
り、このＨｆＮ膜厚が５００Ａ以上になると従来のＡ１
合金基板ｌにＮ１−Ｐめっき層２を被覆した媒体の保磁
力９０００ｅと同等の値が得られる。
このことは基板１ａにプラスチックまたはその複合材料
を用いたときにこれらを被覆するバッファ層６のもたら
す効果であって、基板に吸蔵されている水分などのガス
はバッファ層６のスパッタ過程でほぼ除去されるか、媒
体形成後はバッファ層６に閉じ込められて、下地層３や
磁性層４へ悪い影響を及ぼすのを防いでいるからである
。しかもプラスチックまたはその複合材料を基板１ａと
して用いるときは、従来のＡｌ−Ｍｇ合金基板１に比べ
て約６０％軽ｌになるとともに、複雑な研磨工程を必要
とせず、基板ｌａ上に堆積させる各層は同一真空槽内で
順次スパッタさせればよく、バッファ層６を形成するた
めの特別な手段も要らない。
を用いたときにこれらを被覆するバッファ層６のもたら
す効果であって、基板に吸蔵されている水分などのガス
はバッファ層６のスパッタ過程でほぼ除去されるか、媒
体形成後はバッファ層６に閉じ込められて、下地層３や
磁性層４へ悪い影響を及ぼすのを防いでいるからである
。しかもプラスチックまたはその複合材料を基板１ａと
して用いるときは、従来のＡｌ−Ｍｇ合金基板１に比べ
て約６０％軽ｌになるとともに、複雑な研磨工程を必要
とせず、基板ｌａ上に堆積させる各層は同一真空槽内で
順次スパッタさせればよく、バッファ層６を形成するた
めの特別な手段も要らない。
最後に本発明により得られた磁気記録媒体を磁気記録装
置に組み込んでＣ８Ｓ試験を行った結果、２万回のコン
タクト・スタート・ストップに対してもこの記録媒体表
面にはなんら傷の発生は見られず、再生出力もほとんど
低下することなく、十分な耐久性をもっていることを確
認することができた。
置に組み込んでＣ８Ｓ試験を行った結果、２万回のコン
タクト・スタート・ストップに対してもこの記録媒体表
面にはなんら傷の発生は見られず、再生出力もほとんど
低下することなく、十分な耐久性をもっていることを確
認することができた。
磁気ディスクなどの磁気記録媒体は軽量にするとともに
、コストの低減が望まれており、従来の加工工数の多い
Ａ１合金基板の代わりに、後加工なしで高い表面精度の
得られるプラスチックまたはその複合材料を用いるのが
合目的であるが、これらプラスチック系材料は水分など
を吸蔵しており、この上に形成される下地層や磁性層は
スパッタ時 ４に基板から放出される水分などのガスの
影響を受けて酸化し、記録媒体の磁気特性を低下させる
のに対して、本発明によれば実施例で述べたように、プ
ラスチック系基板と非磁性金属下地層との間にバッファ
層としてＨｆＮ膜を介在させるように構成したために、
このバッファ層によって基板からのガス放出の磁気特性
に対する悪影響はなくなり、本来の媒体の有するすぐれ
た磁気特性を維持することができ、しかも基板上の薄膜
積層過程は連続スパッタが可能であって製造効率を低下
させることもない。
、コストの低減が望まれており、従来の加工工数の多い
Ａ１合金基板の代わりに、後加工なしで高い表面精度の
得られるプラスチックまたはその複合材料を用いるのが
合目的であるが、これらプラスチック系材料は水分など
を吸蔵しており、この上に形成される下地層や磁性層は
スパッタ時 ４に基板から放出される水分などのガスの
影響を受けて酸化し、記録媒体の磁気特性を低下させる
のに対して、本発明によれば実施例で述べたように、プ
ラスチック系基板と非磁性金属下地層との間にバッファ
層としてＨｆＮ膜を介在させるように構成したために、
このバッファ層によって基板からのガス放出の磁気特性
に対する悪影響はなくなり、本来の媒体の有するすぐれ
た磁気特性を維持することができ、しかも基板上の薄膜
積層過程は連続スパッタが可能であって製造効率を低下
させることもない。
以上のように本発明の磁気記録媒体はプラスチック系の
基板を用いて表面研磨工程を省略したことによる軽量化
とコスト低減、およびスパッタ法を用いてＨｆＮバッフ
ァ層を形成することによりプラスチック系基板のもつ欠
点を解消して媒体本来の特性を保持することができたと
いう点で磁気記録媒体に望まれるいくつかの重要な課題
を全て同時に達成したものである。
基板を用いて表面研磨工程を省略したことによる軽量化
とコスト低減、およびスパッタ法を用いてＨｆＮバッフ
ァ層を形成することによりプラスチック系基板のもつ欠
点を解消して媒体本来の特性を保持することができたと
いう点で磁気記録媒体に望まれるいくつかの重要な課題
を全て同時に達成したものである。
第１図は本発明の磁気記録媒体の模式的な要部構成断面
図、第２図は本発明の磁気記録媒体における保磁力とＨ
ｆＮバッファ層の膜厚との関係をバッファ層なしの媒体
および従来の媒体との比較で示した線図、第３図は従来
の磁気記録媒体の模式的な要部構成断面図である。 １．１８ 基板、２ 非磁性金属基体層、３非磁性金
属下地層、４− 磁性層、５・保護潤滑層、６・バッフ
ァ層。 第１゛図 ０ アラスナック基液 バーｙＶｙ層／）ＨｆＮｇＩＬ（Ａ） ：ｉ！、２ 図
図、第２図は本発明の磁気記録媒体における保磁力とＨ
ｆＮバッファ層の膜厚との関係をバッファ層なしの媒体
および従来の媒体との比較で示した線図、第３図は従来
の磁気記録媒体の模式的な要部構成断面図である。 １．１８ 基板、２ 非磁性金属基体層、３非磁性金
属下地層、４− 磁性層、５・保護潤滑層、６・バッフ
ァ層。 第１゛図 ０ アラスナック基液 バーｙＶｙ層／）ＨｆＮｇＩＬ（Ａ） ：ｉ！、２ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）基板上に窒化ハフニウムバッファ層、非磁性金属下
地層、磁性層および保護潤滑層をこの順に連続的にスパ
ッタ形成してなることを特徴とする磁気記録媒体。 ２）特許請求の範囲第１項記載の媒体において、基板が
プラスチック成形体であることを特徴とする磁気記録媒
体。 ３）特許請求の範囲第１項記載の媒体において、基板が
プラスチックとセラミックの複合材料の成形体であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 ４）特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記
載の媒体において、バッファ層の窒化ハフニウム膜厚が
少なくとも５００Åであることを特徴とする磁気記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32323387A JPH01165023A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32323387A JPH01165023A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01165023A true JPH01165023A (ja) | 1989-06-29 |
Family
ID=18152489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32323387A Pending JPH01165023A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01165023A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6911256B2 (en) | 2003-06-30 | 2005-06-28 | Imation Corp. | Buffer layers for magnetic media with a plastic substrate |
| US7910792B2 (en) | 2005-08-17 | 2011-03-22 | Hisamitsu Pharmaceutical Co., Inc. | Patch having easily detachable release sheet |
| JP2020050710A (ja) * | 2018-09-25 | 2020-04-02 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ロール製品 |
-
1987
- 1987-12-21 JP JP32323387A patent/JPH01165023A/ja active Pending
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