JPS63260129A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPS63260129A JPS63260129A JP62094397A JP9439787A JPS63260129A JP S63260129 A JPS63260129 A JP S63260129A JP 62094397 A JP62094397 A JP 62094397A JP 9439787 A JP9439787 A JP 9439787A JP S63260129 A JPS63260129 A JP S63260129A
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- JP
- Japan
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- substrate
- flatness
- exposure
- flattening
- chuck
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 58
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 abstract description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
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- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
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- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
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- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、基板の露光装置に関し、特に反り、波打ち
などの変形が生じやすい基板に好適な露光装置に関する
。
などの変形が生じやすい基板に好適な露光装置に関する
。
［従来の技術］
従来、基板の露光装置は、露光部にマスクと基板との平
行出しのための機構を有し、露光に先〜γっでマスクと
基板との平行出しを精密に行うようになっている。この
平行出し機構は、基板を負圧吸着などの方法により保持
した基板チャックの傾き調整によって行う構成となって
いる。
行出しのための機構を有し、露光に先〜γっでマスクと
基板との平行出しを精密に行うようになっている。この
平行出し機構は、基板を負圧吸着などの方法により保持
した基板チャックの傾き調整によって行う構成となって
いる。
［解決しようとする問題点］
しかし、このような平行出しによっては、基板の波打ち
などの変形の影響を吸収することができないという問題
があった。
などの変形の影響を吸収することができないという問題
があった。
特に、多数の薄膜トランジスタが高密度に形成されるア
クティブ型液晶ディ゛スプレィパネル用の基板のように
、部分的な変形が生じやすい比較的大型で薄い基板の精
密露光に支障を来しており、その解決が強く要請されて
いる。
クティブ型液晶ディ゛スプレィパネル用の基板のように
、部分的な変形が生じやすい比較的大型で薄い基板の精
密露光に支障を来しており、その解決が強く要請されて
いる。
したがって、この発明の目的は、上述の問題点を解決し
、部分的な変形が生じやすい基板の高精密露光に好適な
露光装置を提供することにある。
、部分的な変形が生じやすい基板の高精密露光に好適な
露光装置を提供することにある。
［問題点を解決するための手段ｊ
１〕記目的を達成するため、この発明は、基板の・Ｐ、
用度を測定する平坦度測定手段と、この・１シ坦度測定
手段によって測定された平坦度に基づいて基板の部分的
な変形を補正して基板を１Ｙ坦化するための平坦化手段
を有ることを特徴とするものである。
用度を測定する平坦度測定手段と、この・１シ坦度測定
手段によって測定された平坦度に基づいて基板の部分的
な変形を補正して基板を１Ｙ坦化するための平坦化手段
を有ることを特徴とするものである。
［作用コ
このように、平坦度測定手段により基板の平坦度（部分
的な反り、波打ちなどの変形）を測定し、その測定結果
に基づき平坦化手段により、基板の部分的な反り、波打
ちなどの変形を補正して基板の平坦化を行うから、部分
的変形を生じやすい基板の高精密露光が可能である。
的な反り、波打ちなどの変形）を測定し、その測定結果
に基づき平坦化手段により、基板の部分的な反り、波打
ちなどの変形を補正して基板の平坦化を行うから、部分
的変形を生じやすい基板の高精密露光が可能である。
［実施例］
以下、図面を参照し、この発明の−・実施例について説
明する。
明する。
第１図は、この発明による露光装置の全体的構成を簡略
化して示す斜視図である。この図を参照し、露光装置の
全体的な構成および動作を説明する。
化して示す斜視図である。この図を参照し、露光装置の
全体的な構成および動作を説明する。
１は露光前の多数の基板を収納している多段棚状のカセ
ットであり、エレベータ３によって昇降させられる。５
はプリアラインメント・ステージである。図示しないロ
ード機構などによってカセットｌから取り出された基板
は、このプリアラインメント・ステージ５に搬送され、
位置決めビンによって粗位置決めされる。
ットであり、エレベータ３によって昇降させられる。５
はプリアラインメント・ステージである。図示しないロ
ード機構などによってカセットｌから取り出された基板
は、このプリアラインメント・ステージ５に搬送され、
位置決めビンによって粗位置決めされる。
プリアラインメント・ステージ５には、複数のエアーマ
イクロメータからなる平坦度測定ヘッド７が設けられて
いる。この平坦度測定ヘッド７は固定されていて、プリ
アラインメント・ステージ５が駆動機構９によって基板
面に沿って前後に移動させられ、基板表面の多数の測定
点の高さを検出することにより基板の平坦度を測定する
。なお、この場合、これらプリアラインメント・ステー
ジ５が固定で平坦度測定ヘッド７が移動してもよい。
イクロメータからなる平坦度測定ヘッド７が設けられて
いる。この平坦度測定ヘッド７は固定されていて、プリ
アラインメント・ステージ５が駆動機構９によって基板
面に沿って前後に移動させられ、基板表面の多数の測定
点の高さを検出することにより基板の平坦度を測定する
。なお、この場合、これらプリアラインメント・ステー
ジ５が固定で平坦度測定ヘッド７が移動してもよい。
１１はバッファステージであり、プリアラインメント・
ステージ５において平坦度測定を行われた基板は、図示
しないベルト搬送機構などによって、このバッファステ
ージ１１に搬送される。
ステージ５において平坦度測定を行われた基板は、図示
しないベルト搬送機構などによって、このバッファステ
ージ１１に搬送される。
１３は露光部である。この露光１３には、基板平坦化チ
ャックｌ ５ 、’ｌ’１−ｒｌｌｊ システージ１６
、マスクホル７−１７、アライ２ンメントスコープ１９
、露光光学系２１がある。
ャックｌ ５ 、’ｌ’１−ｒｌｌｊ システージ１６
、マスクホル７−１７、アライ２ンメントスコープ１９
、露光光学系２１がある。
露光すべき基板は、搬送アーム２３によってバッファス
テージｌｌから平坦化チャック１５の上に運ばれ、平坦
化チャック１５に負圧吸着される。
テージｌｌから平坦化チャック１５の上に運ばれ、平坦
化チャック１５に負圧吸着される。
平坦化チャック１５は、後に詳細に説明するように、吸
着した基板について平坦度測定ヘッド７により測定され
た平坦度に基づき、その基板の表面の高さを部分的に調
節することにより、基板の部分的な変形を補正して平坦
化するものである。
着した基板について平坦度測定ヘッド７により測定され
た平坦度に基づき、その基板の表面の高さを部分的に調
節することにより、基板の部分的な変形を補正して平坦
化するものである。
この平坦化チャック１５は平行出しステージ１６Ｌに設
けられており、平行出しステージ１６によって平坦化チ
ャック１５の全体的な傾きを調整することにより、基板
（平坦化チャック１５に保持されている）とマスク（マ
スクホルダー１７に保持されている）との平行出しを行
う。この平行出しと、基板とマスクとの位置合わせ、露
光動作などは従来と同様である。
けられており、平行出しステージ１６によって平坦化チ
ャック１５の全体的な傾きを調整することにより、基板
（平坦化チャック１５に保持されている）とマスク（マ
スクホルダー１７に保持されている）との平行出しを行
う。この平行出しと、基板とマスクとの位置合わせ、露
光動作などは従来と同様である。
２５はカセット１と同様のカセットであり、エレベータ
２７によってケｒ降させられる。露光部１３で露光を終
了した基板は、図示しないアンロード機構によって搬送
され、カセット２５に収納される。
２７によってケｒ降させられる。露光部１３で露光を終
了した基板は、図示しないアンロード機構によって搬送
され、カセット２５に収納される。
ここまでの説明から明らかなように、この露光装置にお
いては、プリアラインメント拳ステージ５で基板の平坦
度が測定され、露光部１３に搬送された基板は、その平
坦度に基づき平坦化チャック１５の平坦化動作により平
坦化され、さらにマスクとの平行出し、位置合わせを行
われてから露光されるため、部分的な変形を生じやすい
基板であっても、精密露光か可能である。
いては、プリアラインメント拳ステージ５で基板の平坦
度が測定され、露光部１３に搬送された基板は、その平
坦度に基づき平坦化チャック１５の平坦化動作により平
坦化され、さらにマスクとの平行出し、位置合わせを行
われてから露光されるため、部分的な変形を生じやすい
基板であっても、精密露光か可能である。
また、ある基板の平坦化や露光の期間に次の基板の平坦
度測定を行うので、露光部１３において平坦度測定も行
う構成と違い、平坦度測定による時間遅れが生じないた
め、露光装置のスループットが向上する。
度測定を行うので、露光部１３において平坦度測定も行
う構成と違い、平坦度測定による時間遅れが生じないた
め、露光装置のスループットが向上する。
第２図は平坦化チャック１５の簡略化した断面図である
。この図において、２９はチャック板であり、その表面
に多数の突起３１が縦横に配列して設けられている。チ
ャック板２９は、その下面に縦横に切り溝が走っており
、部分的な撓み変形が容易となっている。チャック板２
９の周辺部は方形枠３３に固定され、この方形枠３３の
下面は底板３５によって塞がれている。
。この図において、２９はチャック板であり、その表面
に多数の突起３１が縦横に配列して設けられている。チ
ャック板２９は、その下面に縦横に切り溝が走っており
、部分的な撓み変形が容易となっている。チャック板２
９の周辺部は方形枠３３に固定され、この方形枠３３の
下面は底板３５によって塞がれている。
基板はその露光部を一ヒにして鎖線３７に示すようにチ
ャック板２９に載置される。この基板の下面とチャック
板２９との間の空気がエアー抜き孔３９を通じて排出さ
れ、基板はチャック板２９に負圧吸着によって固定され
る。
ャック板２９に載置される。この基板の下面とチャック
板２９との間の空気がエアー抜き孔３９を通じて排出さ
れ、基板はチャック板２９に負圧吸着によって固定され
る。
底板３５には多数のピエゾ素子４１が縦横に配列して設
けられ、各ピエゾ素子４１の端子は回路基板４３に接続
されている。この回路基板４３−ヒの配線を介して、平
坦度に基づいｈ駆動信号が各ピエゾ素子４１に供給され
る。
けられ、各ピエゾ素子４１の端子は回路基板４３に接続
されている。この回路基板４３−ヒの配線を介して、平
坦度に基づいｈ駆動信号が各ピエゾ素子４１に供給され
る。
方形枠１５の内部空間のエアーをエアー抜き孔４５を通
じて抜き、その空間を負圧状態とすることにより、各ピ
エゾ素子４１の上端部にチャック板２９の対応する部分
を常に押圧させるようになっている。すなわち、チャッ
ク板２９はピエゾ素ｆ’４１の４】端部に追従して部分
的に上下するようになっている。
じて抜き、その空間を負圧状態とすることにより、各ピ
エゾ素子４１の上端部にチャック板２９の対応する部分
を常に押圧させるようになっている。すなわち、チャッ
ク板２９はピエゾ素ｆ’４１の４】端部に追従して部分
的に上下するようになっている。
したがって、測定した平坦度に基づく駆動信号により各
ピエゾ素子４１を駆動しピエゾ素子４１を一上下に伸縮
させることにより、チャック板２９の各部分の高さを調
整し、基板の部分的な反り、波打ちなどの変形を補正し
平坦化することができる。
ピエゾ素子４１を駆動しピエゾ素子４１を一上下に伸縮
させることにより、チャック板２９の各部分の高さを調
整し、基板の部分的な反り、波打ちなどの変形を補正し
平坦化することができる。
以上、一実施例について説明したが、この発明はそれだ
けに限定されるものではな（、例えば、平坦度測定手段
を光学的方法などにより平坦度測定を行うものとしたり
、平坦化手段のピエゾ素子を他の駆動素子または機構に
変更するなど、様々に変形して実施し得るものである。
けに限定されるものではな（、例えば、平坦度測定手段
を光学的方法などにより平坦度測定を行うものとしたり
、平坦化手段のピエゾ素子を他の駆動素子または機構に
変更するなど、様々に変形して実施し得るものである。
［発明の効果］
以」―の説明から明らかなように、この発明によれば、
基板の平坦度を測定し、その測定結果に基づき基板の部
分的な反り、波打ちなどの変形を補正して平坦化を行う
から、部分的変形を生じやすい基板の高精密露光が可能
な露光装置を実現できる。
基板の平坦度を測定し、その測定結果に基づき基板の部
分的な反り、波打ちなどの変形を補正して平坦化を行う
から、部分的変形を生じやすい基板の高精密露光が可能
な露光装置を実現できる。
第１図はこの発明による露光装置の全体的構成を簡略化
して示す斜視図、第２図は平坦化チャックの簡略化した
断面図である。 ５・・・プリアラインメント・ステージ、７・・・平坦
度測定ヘッド、１３・・・露光部、１５−・・平坦化チ
ャック、２９−・・チャック板、３９．４５・・・エア
ー抜き孔、４１・・・ピエゾ素子。
して示す斜視図、第２図は平坦化チャックの簡略化した
断面図である。 ５・・・プリアラインメント・ステージ、７・・・平坦
度測定ヘッド、１３・・・露光部、１５−・・平坦化チ
ャック、２９−・・チャック板、３９．４５・・・エア
ー抜き孔、４１・・・ピエゾ素子。
Claims (3)
- （１）基板の露光装置において、基板の平坦度を測定す
る平坦度測定手段と、この平坦度測定手段によって測定
された平坦度に基づいて基板の部分的な変形を補正して
基板を平坦化するための平坦化手段を有することを特徴
とする露光装置。 - （２）平坦化手段は、２次元配列された多数のピエゾ素
子によって基板の高さを部分的に調節するものであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の露光装置
。 - （３）平坦化手段は露光部に設けられ、平坦度測定手段
は、基板が露光部に送られる前に通過する部分に設けら
れることを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２
項に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62094397A JPS63260129A (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62094397A JPS63260129A (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63260129A true JPS63260129A (ja) | 1988-10-27 |
Family
ID=14109130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62094397A Pending JPS63260129A (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63260129A (ja) |
Cited By (11)
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-
1987
- 1987-04-17 JP JP62094397A patent/JPS63260129A/ja active Pending
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