JPS63256841A - 透過照明方法 - Google Patents

透過照明方法

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Publication number
JPS63256841A
JPS63256841A JP8993487A JP8993487A JPS63256841A JP S63256841 A JPS63256841 A JP S63256841A JP 8993487 A JP8993487 A JP 8993487A JP 8993487 A JP8993487 A JP 8993487A JP S63256841 A JPS63256841 A JP S63256841A
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JP
Japan
Prior art keywords
leds
stage
photomask
pattern
movement
Prior art date
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Pending
Application number
JP8993487A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiko Hara
靖彦 原
Mitsuyoshi Koizumi
小泉 光義
Hideaki Doi
秀明 土井
Akira Sase
佐瀬 昭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS63256841A publication Critical patent/JPS63256841A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806Specially adapted optical and illumination features

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、ホトマスクパターンおよびプリント基板パタ
ーンなどを透過照明する方法に係り、とくに前記パター
ンを検出するのに好適な透過照明方法に関する。
[従来の技術] 従来のパターンを透過照明する装置はたとえば米国特許
第4,148,065号明細書とくに第4図に示されて
いるようにパターンを設置したXYステージ内に照明装
置を組み込み、一方の照明装置は地上に固定され、他方
のXYステージが移動するように形成され、このさいに
XYステージが移動してもXYステージと照明装置とが
当らないように構成されている。また光拡散性ガラス板
の下に蛍光灯を組み込み、パターン保持台全体が光る透
明照明装置が「ライトテーブル」として知られている。
また、従来のプリント基板検査装置はたとえば第3図に
示すように、XYステージ1の上部に保持されたプリン
ト基板保持板2にはその上部に多数の穴2aを形成する
とともにこれら多数の穴2aを空気排気ブロワ3に接続
して上面にプリント板4を吸着保持し、前記プリント板
4にパターン5を光源6からの照明光により集光レンズ
7および半透視鏡8を介して上方から落射照明したのち
、反射光レンズ9によりパターン検出JalO上に結像
し、その検出信号11を図示しない欠陥検出器により画
像処理して欠陥検出を行なうものが実施されてぃる。な
お、図示の12はベース、13はテーブル、14は送り
モータ、14aは送り螺子軸である。
[発明が解決しようとする問題点] 前記第3図に示す従来のプリント基板検出装置に透過照
明装置を組み込んだ場合、従来の透過照明装置では構成
が複雑で大形化になる問題がある。
すなわち第4図は従来のプリント基板検査装置に透過照
明装置を組み込んだ場合の1例を示す。
第4図に示すように、XYステージ1の筐体内に光源1
6、レンズ17.18を組み込んでホトマスク19を透
過照明している。
そのため、ホトマスク透過照明装置と、第1図に示すプ
リント基板保持機構との両方を設置する必要があるので
、構成が複雑で大形化になって現実的ではない。
また、従来前記プリント基板保持機構と透過照明装置と
を共用するためにライトテーブルを用いたものとしては
、例えば第5図に示すように、ライトテーブル20の内
部に多数個の蛍光灯21を組み込み、拡散板22を介し
てホトマスク15を透過照明するものが実施されている
しかるに、前記の装置では、通常ライトテーブル20の
厚さLが厚くなるので、その厚さLだけ第1図に示すプ
リント基板検査装置を上昇させなければならない。なお
、前記厚さLは通常200閣程度である。
そこで、前記蛍光灯21を小形化してライトテーブル2
0を成る程度薄くすることは可能であるが、その反面、
蛍光灯21による照明光の不均一性および蛍光灯21の
発熱など実用上問題がある。
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決し、パタ
ーンを目視m察あるいは検出するのに好適な透過照明方
法を提供することにある。
[問題点を解決するための手段] 前記の目的は、XYステージ上に搭載され、上面にパー
タンを有するホトマスクを載置する透過照明手段内に多
数個の発光ダイオード(以下LEDという)を配置し、
前記XYステージの移動に同期して前記検出するパター
ンを検出する範囲の前記LEDのみ点灯させることによ
って達成される。
[作用] 第6図に本発明によるLED透過照明装置の基本構成を
示す。
第6図に示すようにLED23は面発光ダイオードが使
用され、その大きさは数−角乃至20一角程度を有し、
かつその厚さlは約7m程度である。
このような構成をしたLED23を多数個バックボード
24に組み込み、上方に拡散板22を設置することによ
り透過照明装置の厚さLは約20−程度に薄くすること
が可能である。
また前記LED23は面発光ダイオードの代わりに線形
の発光ダイオードを使用することも可能である。この場
合には、LED23は多数個のLEDを長さ200乃至
30〇−程度にして並置したもので、このLEDは主と
してファックス用に使用される。
[実施例コ 以下、本発明の一実施例を示す第1図および第2図につ
いて説明する。
第1図に示すように、プリント基板保持板2の上面には
内部に多数個のLED23をピッチP■で配列したLE
D透過照明装置26を空気排気ブロワ3により吸着保持
している。
ホトマスク15のパターン5を検出する場合には、前記
透過照明装置26の上にホトマスク15を載置し。
クランプ27でホトマスク15を固定する。この場合、
前記ホトマスク15はガラス板あるいはフィルムで形成
されているので、真空吸着方法でなくとも平坦度が保持
される。
また、前記LED23の数量は、前記ホトマスク15の
大きさが800 X 500 m%LED23の大きさ
が15X20mの場合、約1300個となる。このよう
に多数のLED23を点灯させるさいに発熱、消費エネ
ルギーの低減をはかるため、つぎの方法が考えられる。
すなわち、パターン検出器lOによる前記ホトマスクパ
ターン5の検出視野はせいぜい10乃至100m+程度
であるから、一度にすべてのLED23を点灯させる必
要はなく、パターン検出器10で検出している視野範囲
のみの面積をLED23で照明すればよい。
そこで本発明においては、XYステージ1の移動とLE
D23の点灯とを同期させるためXYステージ1に該X
Yステージ1の移動量Xを読み取るリニアスケール25
を取付け、このリニアスケール25および前記多数個の
LED23に接続する同期点灯装置27′を設けている
。この同期点灯装置27′は第2図に示すように、リニ
アスケール25からの出力信号が割算機28に入力され
ると、割算機28がXYステージ1の移動量Xから点灯
すべきLED23′の位置すなわち、検出器10で検出
されているレンズ9の真下の部分の点灯すべきx/p番
目のL E D 23’の位置を割り出し、このx/p
の値からデコーダ29を介して当該L E D 23’
に電流を出力して点灯させるように形成されている。な
お、前記リニアスケール25の原点と、最初のLED2
3の位置とがあらかじめ一致するように位置調整されて
いる。
本発明による透過照明装置は前記のように構成されてい
るから、LED透過照明装置26の厚さLが薄くなるの
で、容易に透過照明装置26を取り除くことが可能であ
り、かつこの透過照明装置26を取り除くさい、光源6
、集光レンズ7、半透視鏡8、レンズ9およびパターン
検出器10からなる光学系の移動を最小限に抑えること
が可能なので。
光学系を保持する構成を簡単にすることができる。
また前記同期点灯装置27′によりXYステージ1の移
動と、LED23の点灯を同期して行ない、かつ前記パ
ターン検出器10で検出している範囲のLED23’の
みを点灯し全てのLED23を点灯する必要がないから
、前記LED23の寿命を向上させることができるのみ
でなく、前記LED23の発熱を低減させて消費電力を
低減させることができる。
[発明の効果] 本発明によれば、コンパクトに構成することができるの
で、従来の特別の机仕立てのライトテーブルを使用する
必要がなく、一般の机の上でもパターンを透過照明観察
をすることができる。
また落射照明用に設計されたパターン検出装置を容易に
透過照明用に転用可能なので、パターン検出対象をプリ
ント基板およびホトマスクなど落射あるいは透過照明が
必要なものの両方に適用範囲を拡大することができる。
さらにLEDの発熱および消費電力を低減することがで
きるので、LEDの耐用年数の向上をはかることができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例であるプリント板検査機付透
過照明装置の正面図、第2図は第1図に示す同期点灯装
置の説明図、第3図は従来のプリント板検査機の正面図
、第4図は従来のホトマスク検査機の正面図、第5図は
従来のプリント検査機付透過照明装置の正面図、第6図
(a)、 (b)は本発明による透過照明装置の説明図
であって、(a)は基本構成を示すもの、(b)は(a
)に示すLEDの拡大図である。 1・・・XYステージ、2・・・プリント基板保持板。 3・・・空気排気ブロワ、5・・・パターン、6・・・
光源、7・・・集光レンズ、8・・・半透視鏡、9・・
・レンズ、10・・・パターン検出器、11・・・検出
信号、12・・・ベース、13・・・テーブル、14・
・・送りモータ、14a・・・送り螺子軸、23・・・
LED、26・・・LED透過照明装置、27・・・ク
ランプ、28・・・割算機、29・・・デコーダ。 代理人 弁理士  秋 本 正 実 第 1 区 I  XYステージ     71し七、レソス’  
  t5  ホトマス72 プリント基力え探杵板 B
牛先鋭    23発九μオード3 す気柳大7゛ロア
  9 レンス゛      26 姪ヒ角J罠明装置
5 ハ゛ダーン      10  パダーソ糎ツl(
27グランプロ丸木    11授良信号 第 Z 区 2デ 第 3 図 第李図 第5図 第 6 区

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、XYステージ上に搭載され、上面にパターンを有す
    るホトマスクを載置する透過照明手段内に多数個の発光
    ダイオードを配置し、これら多数個の発光ダイオードの
    うち、前記検出するパターンの検出範囲の発光ダイオー
    ドのみを前記XYステージの移動に同期して点灯させる
    ことを特徴とする透過照明方法。
JP8993487A 1987-04-14 1987-04-14 透過照明方法 Pending JPS63256841A (ja)

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JP8993487A JPS63256841A (ja) 1987-04-14 1987-04-14 透過照明方法

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JPS63256841A true JPS63256841A (ja) 1988-10-24

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ID=13984525

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JP8993487A Pending JPS63256841A (ja) 1987-04-14 1987-04-14 透過照明方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0735361A2 (en) * 1995-03-31 1996-10-02 LINTEC Corporation Apparatus for inspecting semiconductor substrates

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0735361A2 (en) * 1995-03-31 1996-10-02 LINTEC Corporation Apparatus for inspecting semiconductor substrates
EP0735361A3 (en) * 1995-03-31 1998-06-10 LINTEC Corporation Apparatus for inspecting semiconductor substrates

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