JPS63254725A - X線リソグラフイ用マスクメンブレン及びその製造方法 - Google Patents
X線リソグラフイ用マスクメンブレン及びその製造方法Info
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- JPS63254725A JPS63254725A JP62088934A JP8893487A JPS63254725A JP S63254725 A JPS63254725 A JP S63254725A JP 62088934 A JP62088934 A JP 62088934A JP 8893487 A JP8893487 A JP 8893487A JP S63254725 A JPS63254725 A JP S63254725A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62088934A JPS63254725A (ja) | 1987-04-13 | 1987-04-13 | X線リソグラフイ用マスクメンブレン及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62088934A JPS63254725A (ja) | 1987-04-13 | 1987-04-13 | X線リソグラフイ用マスクメンブレン及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63254725A true JPS63254725A (ja) | 1988-10-21 |
| JPH054805B2 JPH054805B2 (enExample) | 1993-01-20 |
Family
ID=13956720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62088934A Granted JPS63254725A (ja) | 1987-04-13 | 1987-04-13 | X線リソグラフイ用マスクメンブレン及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63254725A (enExample) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007099588A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | National Institute For Materials Science | フッ素原子が導入された窒化ホウ素ナノチューブ及びその製造方法 |
-
1987
- 1987-04-13 JP JP62088934A patent/JPS63254725A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007099588A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | National Institute For Materials Science | フッ素原子が導入された窒化ホウ素ナノチューブ及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH054805B2 (enExample) | 1993-01-20 |
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