JPS63252311A - 組成変調型電導材料 - Google Patents
組成変調型電導材料Info
- Publication number
- JPS63252311A JPS63252311A JP62086065A JP8606587A JPS63252311A JP S63252311 A JPS63252311 A JP S63252311A JP 62086065 A JP62086065 A JP 62086065A JP 8606587 A JP8606587 A JP 8606587A JP S63252311 A JPS63252311 A JP S63252311A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- superconductivity
- magnet
- composition
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 title 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 abstract description 2
- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001257 Nb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005292 diamagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は超電導材料に関し、起電導線として、薄膜型の
小型超電導磁石な、どに応用される他に、半導体の超電
導電極や配線など凡く電子部品に適用される。
小型超電導磁石な、どに応用される他に、半導体の超電
導電極や配線など凡く電子部品に適用される。
従来の技術
旧来の超電材としては、Pb 、 Nb 、 レアー
アースなどが広く知られており、特にNb合金系は超電
導磁石用として、研究用や試験用に用いられている。こ
れらは、液体He温度領域に冷却しないと超電導体とし
て作用しない、これに対して、特に最近、セラミクス材
を中心とした、(LaSr)Cu。
アースなどが広く知られており、特にNb合金系は超電
導磁石用として、研究用や試験用に用いられている。こ
れらは、液体He温度領域に冷却しないと超電導体とし
て作用しない、これに対して、特に最近、セラミクス材
を中心とした、(LaSr)Cu。
ox系がより高温で、ある場合には液体窒素温度でも超
電導性を示し始めると報告され、注目されている。しか
し、これらの材料は、液体窒素温度以上で超電導性をや
や示し始めるだけであり、超電導性を示す完全な反磁性
を示す温度はやはり、液体He温度に近い1ooK近辺
にある。超電導を示す臨界温度が広く分布しているとい
える。
電導性を示し始めると報告され、注目されている。しか
し、これらの材料は、液体窒素温度以上で超電導性をや
や示し始めるだけであり、超電導性を示す完全な反磁性
を示す温度はやはり、液体He温度に近い1ooK近辺
にある。超電導を示す臨界温度が広く分布しているとい
える。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、上述の臨界温度の分布の巾を狭め、完全な超
電導性を示す臨界温度を高めることを目的とする。
電導性を示す臨界温度を高めることを目的とする。
問題点を解決するための手段
超電導性を示す元素と結合し、部分的にはイオン結合性
を示す元素より少なくとも構成された層状結晶構造を有
する化合物の、当該層より構成される異方性薄膜と、そ
の異方性薄膜にエピタキシャル的に成長した類似組成の
異方性薄膜を連続して多層積層して、格子歪の残留する
組成変調型の積層薄膜超電導材料を形成する。
を示す元素より少なくとも構成された層状結晶構造を有
する化合物の、当該層より構成される異方性薄膜と、そ
の異方性薄膜にエピタキシャル的に成長した類似組成の
異方性薄膜を連続して多層積層して、格子歪の残留する
組成変調型の積層薄膜超電導材料を形成する。
作 用
薄層にすることにより、その層内に、層状結晶構造の結
晶層がうまく一致して含まれ、且つ、結晶層がほぼ面内
に連続している。薄層が厚くなると、部分的に柱状構造
に発達するなど結晶性が悪化して上記の連続性が悪くな
るが、組成変調により積層して、層を厚くすることによ
り、このような悪化が防止される。
晶層がうまく一致して含まれ、且つ、結晶層がほぼ面内
に連続している。薄層が厚くなると、部分的に柱状構造
に発達するなど結晶性が悪化して上記の連続性が悪くな
るが、組成変調により積層して、層を厚くすることによ
り、このような悪化が防止される。
超電導性を示す臨界温度の巾が狭まる理由は不明である
が、従来、結晶層が無秩序に交査しているのに対して、
本発明においては、はぼ同一面内に並んでいるためと推
定される。
が、従来、結晶層が無秩序に交査しているのに対して、
本発明においては、はぼ同一面内に並んでいるためと推
定される。
実施例
薄膜の形成には、高周波マグネトスパッタリングを用い
、組成変調をかけるために、第2図に示すような薄膜構
成元素の割合を面積比1.2,3で調整しであるターゲ
ット4の裏面に沿って磁石6をゆっくり移動6せしめた
。磁極esN−、S附近が最もよくスパッターされる事
を利用したものである。磁石6を一ケ所に止めておけば
、その場所(面積割合など)で定まる単一組成の薄膜が
得られる。試料はターゲット4に対向して平行に設置し
、冷却すると共に、面内均−性を向上するため10 r
pmで回転させた。なお、補助ガスとして、プラズマ化
したN2,02.CH4ガスを側面から必要に応じて、
試料上に導入した。
、組成変調をかけるために、第2図に示すような薄膜構
成元素の割合を面積比1.2,3で調整しであるターゲ
ット4の裏面に沿って磁石6をゆっくり移動6せしめた
。磁極esN−、S附近が最もよくスパッターされる事
を利用したものである。磁石6を一ケ所に止めておけば
、その場所(面積割合など)で定まる単一組成の薄膜が
得られる。試料はターゲット4に対向して平行に設置し
、冷却すると共に、面内均−性を向上するため10 r
pmで回転させた。なお、補助ガスとして、プラズマ化
したN2,02.CH4ガスを側面から必要に応じて、
試料上に導入した。
ターゲットは、それぞれの原料粉体をホットプレスして
緻密化した後、ダイヤモンド加工具により所定の形に切
断、研削し、装着した。
緻密化した後、ダイヤモンド加工具により所定の形に切
断、研削し、装着した。
先ずL a 20 s/Cu 20/S r Oの三種
より成るターゲツト材から形成する薄膜超電導材料につ
いて説明する。
より成るターゲツト材から形成する薄膜超電導材料につ
いて説明する。
スパッターガスとしてArガス2X10 Torrを
用い、約2人/SBcでほぼ平均(La、5r)2Cu
o3.6〜4で示される組成変調薄膜材を形成した。
用い、約2人/SBcでほぼ平均(La、5r)2Cu
o3.6〜4で示される組成変調薄膜材を形成した。
磁石を20分の周期で往復させ、組成変調を行なった。
この時、試料側面より、5ooVの変位をかけた酸素プ
ラズマを試料上に常時送風し一酸化度を向上せしめた。
ラズマを試料上に常時送風し一酸化度を向上せしめた。
なお基板としては、厚さ3ws径6径部0鴫Fの結晶基
板を用いた。はぼ10μm厚の組成変調膜を形成した後
、650℃、30分。
板を用いた。はぼ10μm厚の組成変調膜を形成した後
、650℃、30分。
酸素雰囲気中で焼鈍し、5鳩角にクライブし、基板を溶
解した。残留した薄膜を、S IMS (二次イオンマ
ス分析法)により、厚さ方向の組成分析。
解した。残留した薄膜を、S IMS (二次イオンマ
ス分析法)により、厚さ方向の組成分析。
5rm角の試料を多数積層したものでもって、反磁性の
測定を行った。組成は、第1図に示すSIMSによる厚
さ方向の濃度分布で判るように、約2500人の周期を
もち、概略の定量化の結果、はぼLa2””0.1〜0
.2 0.8−0.9 4−aとL a 2Cu
Q Sr2Cu207で表示し得る組成物より成っているこ
とが判った。さらに、700℃の焼鈍前では、X線回折
ピークは低く、ピーク巾も広く、結晶性の低い事ないし
は、連続的に格子定数が変化している事などが示されて
いたが、焼鈍後では少しはっきりとしており、K2Ni
F4構造を有するLa2Cuo4と固定される組成物と
、確認し得ない他の結晶組成物に対応している。
測定を行った。組成は、第1図に示すSIMSによる厚
さ方向の濃度分布で判るように、約2500人の周期を
もち、概略の定量化の結果、はぼLa2””0.1〜0
.2 0.8−0.9 4−aとL a 2Cu
Q Sr2Cu207で表示し得る組成物より成っているこ
とが判った。さらに、700℃の焼鈍前では、X線回折
ピークは低く、ピーク巾も広く、結晶性の低い事ないし
は、連続的に格子定数が変化している事などが示されて
いたが、焼鈍後では少しはっきりとしており、K2Ni
F4構造を有するLa2Cuo4と固定される組成物と
、確認し得ない他の結晶組成物に対応している。
それでも、ピーク巾は広く、面内に強い残留歪のあるこ
とが示瑳されている。又、(200)と(ooe)のX
線強度は、最高強度をもつ(103)に対して、各々、
はぼ0チとyo%になっており、面全体が0面に強く配
向していることが示されていた。
とが示瑳されている。又、(200)と(ooe)のX
線強度は、最高強度をもつ(103)に対して、各々、
はぼ0チとyo%になっており、面全体が0面に強く配
向していることが示されていた。
本材料の超伝導臨界温度は、第3図に示すように、開始
点がほぼ18°にであり、完全になる点が約13°にと
なっており、それらの2点間の巾が約60にと狭くなり
、完全な超電導性を示す温度が高くなっていることか判
る。
点がほぼ18°にであり、完全になる点が約13°にと
なっており、それらの2点間の巾が約60にと狭くなり
、完全な超電導性を示す温度が高くなっていることか判
る。
これに対して、平均組成がほぼ一致するように、磁石を
一ケ所に留めて、同じように薄膜を形成した所、第4図
1に示すように、各々17°K及び7 ’Kを示し、そ
れらの2点間の巾が広くなっているのが測定された。こ
の時、X線回折の結果、(200)ピークが(ooa)
ピークよりやや強く、上述のような強い異方性のないこ
とが判った。
一ケ所に留めて、同じように薄膜を形成した所、第4図
1に示すように、各々17°K及び7 ’Kを示し、そ
れらの2点間の巾が広くなっているのが測定された。こ
の時、X線回折の結果、(200)ピークが(ooa)
ピークよりやや強く、上述のような強い異方性のないこ
とが判った。
なお、第4図2に、文献ジャパニーズ ジャーナル オ
プ アプライド フィジックス(Tap。
プ アプライド フィジックス(Tap。
Journal of Applisd Phgsic
s)28(1)Ll (’B7)より転載した反磁性一
温度曲線を画いである。上記の対比例と同様に、2点間
の巾が20cKに広がっており、超電導性を示し始める
温度はかなり高いにも拘らず、完全な超電導性を示す温
度はかなり低いことが判る。
s)28(1)Ll (’B7)より転載した反磁性一
温度曲線を画いである。上記の対比例と同様に、2点間
の巾が20cKに広がっており、超電導性を示し始める
温度はかなり高いにも拘らず、完全な超電導性を示す温
度はかなり低いことが判る。
次にY 、Ba、Cu、O系について、Y2Q3/Cu
2O/BaOの3ターゲツト材を用いて同様の実験を行
った。実験条件は上述条件であるが、磁石の周期を10
分と早くした。同様の分析の結果、厚さ約1500人の
ほぼY2BaO,1−0,2CuO,8−0,904J
と、約1000人のほぼY1Ba2Cu3O7と見られ
る積層結晶層が認められ、(006)/(103)強度
比は、約76チとなっており、やはりC面配向の強いこ
とが示された。
2O/BaOの3ターゲツト材を用いて同様の実験を行
った。実験条件は上述条件であるが、磁石の周期を10
分と早くした。同様の分析の結果、厚さ約1500人の
ほぼY2BaO,1−0,2CuO,8−0,904J
と、約1000人のほぼY1Ba2Cu3O7と見られ
る積層結晶層が認められ、(006)/(103)強度
比は、約76チとなっており、やはりC面配向の強いこ
とが示された。
同じ平均組成物で単純に一層より成る膜は、X線的にC
面配向は殆んど認められなかった。両者の超電導臨界温
度は、完全な点及び開始する点が、各々、約24°にと
約21°K及び、約20°にと約11 °にであり、そ
の巾は各々、約3°K。
面配向は殆んど認められなかった。両者の超電導臨界温
度は、完全な点及び開始する点が、各々、約24°にと
約21°K及び、約20°にと約11 °にであり、そ
の巾は各々、約3°K。
9°にであり、組成変調をした本発明の方が、完全な超
電導を示す温度の高いことが示された。又、その巾も、
本発明の方が約%と狭く、優れていることが示されてい
る。
電導を示す温度の高いことが示された。又、その巾も、
本発明の方が約%と狭く、優れていることが示されてい
る。
発明の効果
本発明の組成変調構成をとることにより、従来、超電導
を示し始める温度か高くとも、完全な超電導を示す温度
が低いといっだ材料特性劣化を防ぐことができ、両者の
差を大巾に縮めることができる。
を示し始める温度か高くとも、完全な超電導を示す温度
が低いといっだ材料特性劣化を防ぐことができ、両者の
差を大巾に縮めることができる。
このため、実用的にこのような超電導素子を使用する温
度をより高く保つことが可能となった。
度をより高く保つことが可能となった。
さらに本発明によれば、溝膜で形成できるため、超LS
Iの電極や、配線にも使用できることは明らかであり、
これらの素子の大巾な特性改善につながるものといえる
。
Iの電極や、配線にも使用できることは明らかであり、
これらの素子の大巾な特性改善につながるものといえる
。
又、本発明によれば、構成元素が同一であり、組成がほ
ぼ連続的に変化しているのみであるため、組成、微細構
造の制御が非常に容易であり、再現性に富むものである
。
ぼ連続的に変化しているのみであるため、組成、微細構
造の制御が非常に容易であり、再現性に富むものである
。
第1図は本発明の一実施例における変調組成物の断面方
向の組成の解析例を示すグラフ、第2図は本発明におけ
るターゲットの構成を概略を示す平面図、第3図および
第4図は本発明と従来例などの超電導臨界温度を示すグ
ラフである。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 a
向の組成の解析例を示すグラフ、第2図は本発明におけ
るターゲットの構成を概略を示す平面図、第3図および
第4図は本発明と従来例などの超電導臨界温度を示すグ
ラフである。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 a
Claims (1)
- 超電導性を示す元素と当該元素とイオン結合性を部分
的に有する元素を含み、層状結晶構造を有する化合物の
当該層より構成される薄膜と、該薄膜にエピタキシャル
成長し、且つ格子歪の残留する組成変調薄膜とを多層積
層して成ることを特徴とする組成変調型超電導材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62086065A JP2543073B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 超電導薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62086065A JP2543073B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 超電導薄膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63252311A true JPS63252311A (ja) | 1988-10-19 |
JP2543073B2 JP2543073B2 (ja) | 1996-10-16 |
Family
ID=13876296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62086065A Expired - Fee Related JP2543073B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 超電導薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2543073B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0197319A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-14 | Toshiba Tungaloy Co Ltd | 酸化物超電導膜被覆物体の製造方法 |
JP2013540899A (ja) * | 2010-09-28 | 2013-11-07 | ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフト | カソードスパッタリングを用いて合金で被覆した基板 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63242532A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-07 | Komatsu Ltd | 超電導体およびその製造方法 |
-
1987
- 1987-04-08 JP JP62086065A patent/JP2543073B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63242532A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-07 | Komatsu Ltd | 超電導体およびその製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0197319A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-14 | Toshiba Tungaloy Co Ltd | 酸化物超電導膜被覆物体の製造方法 |
JP2013540899A (ja) * | 2010-09-28 | 2013-11-07 | ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフト | カソードスパッタリングを用いて合金で被覆した基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2543073B2 (ja) | 1996-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Huijben et al. | Structure–property relation of SrTiO3/LaAlO3 interfaces | |
US5549977A (en) | Article comprising magnetoresistive material | |
Covington et al. | Tunneling and anisotropic charge transport properties of superconducting (110)‐oriented YBa2Cu3O7 thin films | |
US20200365798A1 (en) | Double-channel topological insulator structure, and method for generating quantized anomalous hall effect | |
US20200365804A1 (en) | Multi-channel topological insulator structure, method for making the same, and electrical device | |
Li et al. | The metallic interface between insulating NdGaO3 and SrTiO3 perovskites | |
US20200365805A1 (en) | Topological insulator structure having insulating protective layer and method for making the same | |
WO1994025969A1 (en) | High-temperature josephson junction and method | |
Xu et al. | Synthesis of La2− xSrxCuO4 films via atomic layer-by-layer molecular beam epitaxy | |
JPH02177381A (ja) | 超伝導体のトンネル接合素子 | |
JP2523647B2 (ja) | 金属酸化物超電導薄膜 | |
JPS63252311A (ja) | 組成変調型電導材料 | |
JPS63306676A (ja) | ジョセフソン素子 | |
JPH0218974A (ja) | 超伝導体素子及びその製法 | |
Zeng et al. | Anisotropic transport properties of single-crystal (La, Ca) MnO δ thin films | |
JPH026394A (ja) | 超伝導薄層 | |
JPH04275470A (ja) | 超電導体/絶縁体層構造からなる製品、およびその製品の製造方法 | |
JP2979422B2 (ja) | 絶縁体および絶縁薄膜の製造方法と、超伝導薄膜および超伝導薄膜の製造方法 | |
JP2852753B2 (ja) | 酸化物超伝導素子および酸化物超伝導体薄膜の製造方法 | |
Trommler et al. | Strain dependence of critical fields—studied on piezoelectric substrates | |
JP3061627B2 (ja) | 酸化物超電導テープ導体の製造方法 | |
JPH03166776A (ja) | トンネル接合素子とその作製方法 | |
JP2844206B2 (ja) | 酸化物超伝導素子および酸化物超伝導体薄膜の製造方法 | |
JP2532986B2 (ja) | 酸化物超電導線材及びそれを用いたコイル | |
JPS63236794A (ja) | 酸化物超伝導薄膜の作製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |