JPS63247002A - セラミックス鋳込成形法 - Google Patents

セラミックス鋳込成形法

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JPS63247002A
JPS63247002A JP8343787A JP8343787A JPS63247002A JP S63247002 A JPS63247002 A JP S63247002A JP 8343787 A JP8343787 A JP 8343787A JP 8343787 A JP8343787 A JP 8343787A JP S63247002 A JPS63247002 A JP S63247002A
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JP
Japan
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ceramic
mold
casting method
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mold release
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JP8343787A
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健 福田
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NGK Insulators Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はセラミックス鋳込成形法に関する。
〔従来技術〕
セラミックス泥漿を成形型に鋳込んで所定のセラミック
ス成形体を得るセラミックス鋳込成形法においては、セ
ラミックス泥漿を前記成形型に鋳込むに先立って同成形
型の型面に離型剤を塗布するのが一般であり、従来は離
型剤の種類に応じて3つの手段が採られている。
その第1の手段は成形原料として用いるセラミックス泥
漿と同じセラミックス成分を有し焼成してなるセラミッ
クス粉体と水との混合物を離型剤として塗布する手段、
その第2の手段はオリーブ油、各種石ケン液、ワックス
エマルジョン等を離型剤として塗布する手段、その第3
の手段は成形原料として窒化珪素、炭化珪素等の泥漿を
使用する場合にカーボン粉末を塗布する手段である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、セラミックス鋳込成形法において上記し
た第1の手段、第3の手段を採用する場合には離型剤の
塗布状態が不均一になりやすく、型面には離型剤が厚く
付着している部分と付着していない部分が生じて成形体
の離型不良が生じる。
また、第2の手段を採用する場合は離型剤の膜厚が薄く
なりすぎて、特に複雑な形状の成形体においては離型不
良が生じる。
従って、本発明の目的は、単純な形状の成形体を成形す
る場合においては勿論のこと複雑な形状の成形体を成形
する場合においても、成形体の離型が良好な鋳込成形法
を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は上記したセラミックス鋳込成形法において、セ
ラミックス泥漿を成形型に鋳込むに先立って同成形型の
型面に下記(a)、 (blの組成を有する離型剤を塗
布することを特徴とするものである。
(a):成形原料として用いるセラミックス泥漿と同じ
セラミックス成分を有し800〜1400℃で熱処理し
てなるセラミックス粉体10〜50部 山):造膜性有機物を含有する水90〜50部本発明に
おいて、成形原料として用いるセラミックスはジルコニ
ア、アルミナ、シリカ−アルミナ、ムライト、コープエ
ライト、炭化珪素、窒化珪素等鋳込成形法に用いられる
公知のものを挙げることができ、特にジルコニア、アル
ミナ、炭化珪素等が好ましい。従って、離型剤を構成す
るセラミックス粉体はこれらに対応するものであり、使
用すべき成形用原料であるセラミックス泥漿を800〜
1400℃で焼成し粉砕して形成される。セラミックス
粉体の粒径は45〜125μmが好ましい。
また、離型剤を構成する造膜性有機物としては水透過性
の膜を形成する特性を有していることが必要で、カルボ
キシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ポリアクリル酸ソーダ、ポリビニ
ルアルコール、アルギン酸ソーダ、アルギン酸アンモニ
ウム等が好ましい。これらの水中への添加量は、0.5
〜3.Owt%であることが好ましい。
本発明においては、セラミックス泥漿を成形型に鋳込む
に先立って成形型面に上記した離型剤を塗布し、同型面
に離型薄膜を形成する。離型剤を塗布する手段としては
、離型剤を成形型内に流込んで所定時間後排出する方法
、刷毛により塗布する方法、スプレーにより塗布する方
法等公知の適宜の方法が採用される。
〔発明の作用・効果〕
本発明の鋳込成形法によれば、離型剤を構成するセラミ
ックス成分と造膜性成分との協働作用にて開離型剤が成
形型の複雑な型面にまでほぼ均等に塗布され、型面全面
にほぼ均一な厚みの離型薄膜が形成される。このため、
成形体の型面からの離型が良好で、成形体の外部に亀裂
や欠如部が発生することがなく、損傷のない優れた成形
体が得られる。
しかして、本発明における離型剤を構成するセラミック
ス成分は800〜1400℃で熱処理してなるセラミッ
クス粉体である。ジルコニア、アルミナ、炭化珪素等一
般のセラミックスは850℃で収縮を開始しかつ140
0℃の範囲で収縮を完了するが、かかる熱処理を施した
セラミックス成分はスラリー化せず、かつ離型剤として
用いた場合成形体とは異なる収縮挙動を示すため、離型
効果が極めて高い。また、離型剤中のセラミックス粉体
は10〜50部であるが、離型剤の有効な膜厚は100
〜200μmであり、これを1〜2層で形成するにはセ
ラミックス粉体は上記範囲にあることが必要である。
なお、セラミックス粉体の粒径は40〜125μmであ
ることが好ましく、粒径がこれより小さくまたは大きい
場合には上記範囲の膜厚が得がたい。
上記粒径の範囲にあれば、型面に1〜2層で100〜2
00μmの有効膜が得られる。
〔実施例!〕
セラミックス泥漿としてアルミナ(Aj!20y)、部
分安定化ジルコニア(PSZ)、炭化珪素(SiC)の
泥漿を採用するとともに、離型剤としてこれらに対応す
るセラミックス粉体および造膜性有機物であるカルボキ
シメチルセルロース(CMC) 、ポリビニルアルコー
ル(PVA ’) 、アルギン酸ソーダ(ARA )の
水溶液の混合物を採用した。また、成形型としては第1
図に示す試験用の石膏型10を採用し、セラミックス泥
漿の鋳込みに先立って同型10の各型面11.12に上
記した離型剤を塗布して離型薄膜を形成し、その後同型
lO内に各離型剤に対応するセラミックス泥漿を鋳込ん
で成形し、乾燥後成形体を同型10から離型させた。
成形体の離型時、同型10の型面11における各部位1
1a、llbに対する付着状態を観察した。
この結果を第1表に示す。
なお、各離型剤の開塾に用いたセラミックス粉体のうち
、^1203粉体およびPSz粉体は泥漿をスプレード
ライヤで乾燥後1200℃で2時間焼成し粉砕したもの
、SiC粉体は泥漿をスプレードライヤで乾燥後N、雰
囲気中1200℃で2時間焼成し粉砕したものである。
また、水溶液の造膜性有機物の含有率はwt、%である
(以下余白) 第1表 第1表を参照すると、試験N081〜NO63、N00
6、N007、NO,11の場合を除いては離型状態は
良好であり、従って成形体はti傷のない良好なもので
ある。かかる良好な結果が得られる条件は全て本発明の
要旨の範囲内にある。
〔実施例■〕
実施例!における試験N001〜N0.4およびNO,
6〜N0.8の条件にて第2図[al、(bll来示バ
タフライ弁20を鋳込成形した。バタフライ弁20は筒
状の軸支部21と同軸支部21から側方に延びる弁体部
22からなり、本実施例においては成形体であるバタフ
ライ弁20における最も付着しやすくかつ亀裂の発生し
やすい弁体部22でのこれらの発生の有無を観察した。
この結果を第2表に示す。
第2表 本実施例においては、試験N004およびN088の条
件で成形した場合に好結果が得られ、またかかる成形条
件により得られた成形体を十分に加熱乾燥しても亀裂の
発生はなかった。
〔実施例■〕
実施例■における試験N002〜NO,4、NO,7お
よびNO,8の条件にて第3図[a)、(b)に示すポ
ンプ用インペラー30を鋳込成形した。インペラー30
はバタフライ弁20に比し複雑な形状を呈しており、筒
状ボス部31、ボス部31から外方へ延びる円板状プレ
ート部32、プレート部32の一側面に突出し径内外方
向へ屈曲して延びる複数の羽根部33、プレート部32
の他側面に突出し径外方向へ放射状に延びる複数の突起
部34からなる。本実施例においては、成形体であるイ
ンペラー30における最も付着しやすくかつ亀裂の発生
しやすい羽根部33でのこれらの有無、およびボス部3
1とプレート部32との境界部における形状歪を観察し
た。この結果を第3表に示す。
第3表 本実施例においては、試験NO,4およびNO,8の条
件で成形した場合に好結果が得られ、またかかる成形条
件により得られた成形体は実施例■の場合と同様、十分
に加熱乾燥しても亀裂の発生はなかった。
【図面の簡単な説明】
第1図は試験用石膏型の概略的縦断面図、第2図(a)
、(′b)は実施例Hにて成形したバタフライ弁の一側
面図および平面図、第3図(al、(blは実施例■に
て成形したインペラーの平面図および縦断面図である。 符号の説明 10・・・石膏型、20・・・バタフライ弁、30・・
・インペラー。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)セラミックス泥漿を成形型に鋳込んで所定のセラ
    ミックス成形体を得るセラミックス鋳込成形法において
    、セラミックス泥漿を前記成形型に鋳込むに先立って同
    成形型の型面に下記(a)、(b)の組成を有する離型
    剤を塗布することを特徴とするセラミックス鋳込成形法
    。 (a):成形原料として用いるセラミックス泥漿と同じ
    セラミックス成分を有し800〜1400℃で熱処理し
    てなるセラミックス粉体10〜50部 (b):造膜性有機物を含有する水90〜50部(2)
    セラミックス泥漿の主成分がジルコニア、アルミナ、シ
    リカ−アルミナ、ムライト、コーディエライト、炭化珪
    素、窒化珪素のいずれかである特許請求の範囲第1項に
    記載のセラミックス鋳込成形法。 (3)造膜性有機物がカルボキシメチルセルロース、メ
    チルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリ
    アクリル酸ソーダ、ポリビニルアルコール、アルギン酸
    ソーダ、アルギン酸アンモニウムのいずれかである特許
    請求の範囲第1項または第2項に記載のセラミックス鋳
    込成形法。 (4)水中に造膜性有機物を0.5〜3.0wt%含有
    している特許請求の範囲第1項、第2項または第3項に
    記載のセラミックス鋳込成形法。
JP8343787A 1987-04-03 1987-04-03 セラミックス鋳込成形法 Granted JPS63247002A (ja)

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JPS63247002A true JPS63247002A (ja) 1988-10-13
JPH0377044B2 JPH0377044B2 (ja) 1991-12-09

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0417603A (ja) * 1990-05-09 1992-01-22 Honda Motor Co Ltd スリップキャスティング製法
JP2007112058A (ja) * 2005-10-21 2007-05-10 Bridgestone Corp 炭化ケイ素焼結体からなる立体成形体及びその製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56161106A (en) * 1980-05-19 1981-12-11 Toyota Motor Co Ltd Molding method for gyps mold

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