JPS63236727A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JPS63236727A JPS63236727A JP7249187A JP7249187A JPS63236727A JP S63236727 A JPS63236727 A JP S63236727A JP 7249187 A JP7249187 A JP 7249187A JP 7249187 A JP7249187 A JP 7249187A JP S63236727 A JPS63236727 A JP S63236727A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、VAD法あるいは外付は法などで製造された
光ファイバ母材用多孔質ガラス母材のガラス化を行なう
際に、屈折率分布を制御する方法を提供する光ファイバ
母材の製造方法に関するものである。
光ファイバ母材用多孔質ガラス母材のガラス化を行なう
際に、屈折率分布を制御する方法を提供する光ファイバ
母材の製造方法に関するものである。
[従来技術およびその問題点]
VAD法などで製造された多孔質ガラス母材は0.1〜
0.5μm程度のガラス粒子の集合体であり、この状態
では、光を通さないので、光伝送路として機能しない。
0.5μm程度のガラス粒子の集合体であり、この状態
では、光を通さないので、光伝送路として機能しない。
そこで、この多孔質ガラス母材から透明ガラス体を得る
工程がガラス化(以下ガラス化工程という)である。
工程がガラス化(以下ガラス化工程という)である。
ガラス化工程は、多孔質ガラス母材に含まれる(数11
00pp+の)OH基を除去する脱水過程と、多孔質ガ
ラス粒子を高温でガラス化するガラス化過程の2過程か
ら成っている。
00pp+の)OH基を除去する脱水過程と、多孔質ガ
ラス粒子を高温でガラス化するガラス化過程の2過程か
ら成っている。
脱水過程においては、C02がO)1基を存効に除去し
得ることが知られており、従来のガラス化工程はCl2
を含む雰囲気で行なわれていた。すなわち、炉内にC(
12を吹き込みながら、昇温し、一定時間一定温度に維
持して脱水過程を終了し、さらに同一雰囲気において昇
温することによりガラス化過程を行なっていた。
得ることが知られており、従来のガラス化工程はCl2
を含む雰囲気で行なわれていた。すなわち、炉内にC(
12を吹き込みながら、昇温し、一定時間一定温度に維
持して脱水過程を終了し、さらに同一雰囲気において昇
温することによりガラス化過程を行なっていた。
このようなガラス化工程は温度プログラムパターンが単
純で、かつ、炉内雰囲気も一定であるために、工程の操
作が容易であり、得られる透明ガラス体の光損失量も極
めて低損失であるという特徴があった。
純で、かつ、炉内雰囲気も一定であるために、工程の操
作が容易であり、得られる透明ガラス体の光損失量も極
めて低損失であるという特徴があった。
しかしながら、Cl2添加に伴なうG e O2の揮発
により、例えばGl型光ファイバ母材製造においては屈
折率分布の変化が生じてしまうという問題があった。
により、例えばGl型光ファイバ母材製造においては屈
折率分布の変化が生じてしまうという問題があった。
これは以下の理由による。すなわち、多孔質ガラス母材
は、粒子体積:空間体積が1:5〜10のポーラスな状
態であり、炉内雰囲気ガスはこの多孔質ガラス母材の径
方向へ侵入する。
は、粒子体積:空間体積が1:5〜10のポーラスな状
態であり、炉内雰囲気ガスはこの多孔質ガラス母材の径
方向へ侵入する。
Cl2は脱OH剤として作用するが、(1)式に示す反
応の如く、ガラス粒子中のG e O2の揮発にも関与
する。
応の如く、ガラス粒子中のG e O2の揮発にも関与
する。
G e O+ 2 C(1−4G e CQ 4 +
02 ・” (1)(G e CQ 4は気体) この反応は比較的おだやかな反応ではあるが、ガラス化
過程の中で十分に脱OHをしようとする場合に生じるこ
とになる。その際、Cl2気体分子は多孔質母材全体に
行きわたり、屈折率分布を全体的に変化させるが、変化
の程度は特にコア周辺部はど大きくなる。
02 ・” (1)(G e CQ 4は気体) この反応は比較的おだやかな反応ではあるが、ガラス化
過程の中で十分に脱OHをしようとする場合に生じるこ
とになる。その際、Cl2気体分子は多孔質母材全体に
行きわたり、屈折率分布を全体的に変化させるが、変化
の程度は特にコア周辺部はど大きくなる。
第4図は、上記のガラス化条件で得られた屈折率分布を
示したものであるが、点線で示した理想的な屈折率分布
に対して実線で示した屈折率分布はコア周辺部で理想か
ら大きく外れてしまう傾向を示している。
示したものであるが、点線で示した理想的な屈折率分布
に対して実線で示した屈折率分布はコア周辺部で理想か
ら大きく外れてしまう傾向を示している。
本発明は、第4図に示したような屈折率分布の不整を解
決せんとするもので、本発明のり的は、ガラス化工程で
発生する屈折率分布の不整を修正もしくは防止する屈折
率分布の制御方法を提供することにある。
決せんとするもので、本発明のり的は、ガラス化工程で
発生する屈折率分布の不整を修正もしくは防止する屈折
率分布の制御方法を提供することにある。
[問題点を解決するための手段および作用]本発明者は
、第4図に示した屈折率分布の不整がガラス化過程で発
生することに着目し、ガラス化過程における炉内雰囲気
の組成および昇温を制御することにより、多孔質ガラス
母材の全体的な屈折率分布を変化させることなく、コア
周辺部に発生する局所的な不整のみを修正することかで
きることを見い出した。
、第4図に示した屈折率分布の不整がガラス化過程で発
生することに着目し、ガラス化過程における炉内雰囲気
の組成および昇温を制御することにより、多孔質ガラス
母材の全体的な屈折率分布を変化させることなく、コア
周辺部に発生する局所的な不整のみを修正することかで
きることを見い出した。
すなわち、本発明の光ファイバ母材の製造方法は、脱水
過程とガラス化過程とから成る多孔質ガラス母材のガラ
ス化工程において、C(12を含む炉内雰囲気において
脱水を行ない、次に、5oca でCl2を置換した炉
内雰囲気において昇温してガラス化を行なうことを特徴
とするものである。
過程とガラス化過程とから成る多孔質ガラス母材のガラ
ス化工程において、C(12を含む炉内雰囲気において
脱水を行ない、次に、5oca でCl2を置換した炉
内雰囲気において昇温してガラス化を行なうことを特徴
とするものである。
光ファイバ母材の製造に用いる多孔質ガラス母材は、粒
子体積:空間体積が1:5〜10のポーラスな状態であ
り、炉内雰囲気ガスはこの多孔質ガラス母材の径方向へ
侵入する。SOCg2は脱OH剤としても作用するが、
(2)式に示す如く、ガラス粒子中のGeO□の揮発に
も関与する。
子体積:空間体積が1:5〜10のポーラスな状態であ
り、炉内雰囲気ガスはこの多孔質ガラス母材の径方向へ
侵入する。SOCg2は脱OH剤としても作用するが、
(2)式に示す如く、ガラス粒子中のGeO□の揮発に
も関与する。
G e O+2 S OC(12→G e C(14+
2802− (2) (G e C(14は気体)
この反応は非常に反応性の高い反応であり、SOCl2
の大部分は多孔質ガラス母材に侵入後直ちに反応が終了
する。したがって、多孔質ガラス母材の外周辺部からG
eO2が揮発し、時間とともに揮発界面が径方向内部へ
侵入していくのであるが、その際、SOCl2添加量を
制御するとともに、昇温を制御することにより、適正な
屈折率分布が得られることになる。
2802− (2) (G e C(14は気体)
この反応は非常に反応性の高い反応であり、SOCl2
の大部分は多孔質ガラス母材に侵入後直ちに反応が終了
する。したがって、多孔質ガラス母材の外周辺部からG
eO2が揮発し、時間とともに揮発界面が径方向内部へ
侵入していくのであるが、その際、SOCl2添加量を
制御するとともに、昇温を制御することにより、適正な
屈折率分布が得られることになる。
ここに、ガラス化過程の炉内雰囲気は、SOCl2を0
.02〜0.5%含むことが好ましい。
.02〜0.5%含むことが好ましい。
また、反応量は反応性ガスの添加量と反応時間の積によ
って決まるので、反応時間を短縮すること(ガラス化昇
温速度を速めること)は、屈折率分布の変化量を減少さ
せることに効果的であり、本発明においては、ガラス化
過程における昇温速度をlθ〜50℃/分とすることが
好ましい。
って決まるので、反応時間を短縮すること(ガラス化昇
温速度を速めること)は、屈折率分布の変化量を減少さ
せることに効果的であり、本発明においては、ガラス化
過程における昇温速度をlθ〜50℃/分とすることが
好ましい。
なお、脱水過程の炉内雰囲気は、脱水剤としてのCl2
量を0.1−1%、また、Cl22によるG e 02
の脱離反応を抑制するための一種の緩衝剤としての02
ffiを0.1〜30%とするのが好ましい。
量を0.1−1%、また、Cl22によるG e 02
の脱離反応を抑制するための一種の緩衝剤としての02
ffiを0.1〜30%とするのが好ましい。
[実施例]
次に、実施例により本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明のガラス化工程の一実施例を示すタイ
ムチャートであり、炉内の温度を時間の経過とともに示
している。
ムチャートであり、炉内の温度を時間の経過とともに示
している。
本実施例においては、VAD法により得たGI型母材用
の多孔質ガラス母材(外形55mm、長さ 400關)
を用い、電気炉は内径12hm、発熱長100 mmの
ゾーン類に内径100mm、長さ1300+amの石英
製炉心管を装着したものを使用した。このゾーン類は、
上記多孔質ガラス母材の移動速度を制御することによっ
て、任意の昇温速度を得ることができるものであった。
の多孔質ガラス母材(外形55mm、長さ 400關)
を用い、電気炉は内径12hm、発熱長100 mmの
ゾーン類に内径100mm、長さ1300+amの石英
製炉心管を装着したものを使用した。このゾーン類は、
上記多孔質ガラス母材の移動速度を制御することによっ
て、任意の昇温速度を得ることができるものであった。
炉心管内に導入されるガスは炉心管底部より供給した。
第1図に示す本実施例の脱水過程は、 He87.3%
、0 12.5%、およびC220,2%から成る炉内
界1囲気において、第1図に示す温度状態で行なわれ、
脱水過程の終了時点(A点)でCl および02の供給
を止めて、代わりに80Cl2の供給を開始した。従っ
て、ガラス化過程は、He 99.9%および5OCf
f20.1%から成る炉内雰囲気において、第1図に示
す温度状態で行なわれた。
、0 12.5%、およびC220,2%から成る炉内
界1囲気において、第1図に示す温度状態で行なわれ、
脱水過程の終了時点(A点)でCl および02の供給
を止めて、代わりに80Cl2の供給を開始した。従っ
て、ガラス化過程は、He 99.9%および5OCf
f20.1%から成る炉内雰囲気において、第1図に示
す温度状態で行なわれた。
ガラス化過程の当初の昇温段階においては、スート中に
Cl が残っており、このCl2と0Hとが昇温により
十分に反応して脱水が完全に行なわれるとともに、Cl
2によって不整となった屈折率分布が、炉内雰囲気に含
まれる5OCI22により修正されることになる。
Cl が残っており、このCl2と0Hとが昇温により
十分に反応して脱水が完全に行なわれるとともに、Cl
2によって不整となった屈折率分布が、炉内雰囲気に含
まれる5OCI22により修正されることになる。
比較例1として、実施例で用いたのと同じ多孔質ガラス
母材と電気炉を用いて、He 99.7%とCl2 o
、a%とから成る炉内雰囲気において、第2図に示す温
度状態で脱水過程およびガラス化過程を行なった。
母材と電気炉を用いて、He 99.7%とCl2 o
、a%とから成る炉内雰囲気において、第2図に示す温
度状態で脱水過程およびガラス化過程を行なった。
また、比較例2として、実施例で用いたのと同じ多孔質
ガラス母材と電気炉を用いて、He87.5%と021
2.5%とから成る炉内雰囲気において、比較例1と同
じ温度状態で脱水過程およびガラス化過程を行なった。
ガラス母材と電気炉を用いて、He87.5%と021
2.5%とから成る炉内雰囲気において、比較例1と同
じ温度状態で脱水過程およびガラス化過程を行なった。
第3図は、実施例および比較例1.2においてガラス化
した母材の屈折率分布を測定したものである。屈折率分
布の測定には、英国ヨークテクノロジー社製プリフォー
ム・アナライザを使用した。
した母材の屈折率分布を測定したものである。屈折率分
布の測定には、英国ヨークテクノロジー社製プリフォー
ム・アナライザを使用した。
第3図中の■は本実施例で得た母材の屈折率分布であり
、コア全域にわたって理想的なGI型屈折率分布を示し
ている。
、コア全域にわたって理想的なGI型屈折率分布を示し
ている。
第3図中の■、■は、それぞれ比較例1.2で得られた
母材の屈折率分布であり、いずれもコア周辺部において
理想的な分布から大きく外れている。
母材の屈折率分布であり、いずれもコア周辺部において
理想的な分布から大きく外れている。
更に、実施例で得られた母材のファイバ特性を調べた結
果、第1表に示すように、GI型光ファイバとして良好
な値を得た。
果、第1表に示すように、GI型光ファイバとして良好
な値を得た。
第1表
なお、本実施例における炉内雰囲気は02を含むが、本
発明はこれに限定されない。
発明はこれに限定されない。
[発明の効果〕
以上に説明したように、本発明はVAD法などで得られ
る多孔質ガラス母材をガラス化する際に、屈折率分布を
部分的に制御しつるガラス化方法であるから、光ファイ
バ母材製造に関して極めて精度の良い屈折率分布を得る
ことができるという利点がある。
る多孔質ガラス母材をガラス化する際に、屈折率分布を
部分的に制御しつるガラス化方法であるから、光ファイ
バ母材製造に関して極めて精度の良い屈折率分布を得る
ことができるという利点がある。
また、このようにして作られたガラス母材は単に光ファ
イバ用としてのみでなく、高精度な屈折率分布が要求さ
れる光学レンズやロッドレンズ等への分野へも応用が可
能であり、VAD法や外付は法などの高生産性を有する
多孔質ガラス母材製造方法と組合せることにより低価格
、高品質の光学部品を提供することができる。
イバ用としてのみでなく、高精度な屈折率分布が要求さ
れる光学レンズやロッドレンズ等への分野へも応用が可
能であり、VAD法や外付は法などの高生産性を有する
多孔質ガラス母材製造方法と組合せることにより低価格
、高品質の光学部品を提供することができる。
第1図は、本発明の一実施例における脱水過程およびガ
ラス化過程の炉内の温度状態を示すタイムチャート、 第2図は、比較例1.2の炉内の温度状態を示すタイム
チャート、 第3図は、実施例および比較例で得られた光ファイバ母
材の屈折率分布を示す図、 第4図は、従来の製法で得られた光ファイバ母材の屈折
率分布を示す図である。 吟rjI(r+−)
ラス化過程の炉内の温度状態を示すタイムチャート、 第2図は、比較例1.2の炉内の温度状態を示すタイム
チャート、 第3図は、実施例および比較例で得られた光ファイバ母
材の屈折率分布を示す図、 第4図は、従来の製法で得られた光ファイバ母材の屈折
率分布を示す図である。 吟rjI(r+−)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、脱水過程とガラス化過程とから成る多孔質ガラス母
材のガラス化工程において、Cl_2を含む炉内雰囲気
において脱水を行ない、次に、SOCl_2でCl_2
を置換した炉内雰囲気において昇温してガラス化を行な
うことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 2、脱水過程の炉内雰囲気が、Cl_2を0.1〜0.
5%、O_2を0.1〜30%含むことを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の光ファイバ母材の製造方法。 3、ガラス化過程の炉内雰囲気が、SOCl_2を0.
02〜0.5%含むことを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の光ファイバ母材の製造方法。 4、ガラス化過程における昇温速度が10〜50℃/分
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第3項
のいずれかに記載の光ファイバ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7249187A JPS63236727A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7249187A JPS63236727A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63236727A true JPS63236727A (ja) | 1988-10-03 |
Family
ID=13490843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7249187A Pending JPS63236727A (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63236727A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010520140A (ja) * | 2007-02-28 | 2010-06-10 | コーニング インコーポレイテッド | 圧密中の光ファイバケーン/プレフォーム変形の削減 |
JP2020055721A (ja) * | 2018-10-04 | 2020-04-09 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ用ガラス体の製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60215536A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-28 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 石英系多孔質ガラス母材の処理方法 |
-
1987
- 1987-03-25 JP JP7249187A patent/JPS63236727A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60215536A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-28 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 石英系多孔質ガラス母材の処理方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010520140A (ja) * | 2007-02-28 | 2010-06-10 | コーニング インコーポレイテッド | 圧密中の光ファイバケーン/プレフォーム変形の削減 |
JP2020055721A (ja) * | 2018-10-04 | 2020-04-09 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ用ガラス体の製造方法 |
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