JPS5910938B2 - 光伝送用ガラスの製造方法 - Google Patents

光伝送用ガラスの製造方法

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Publication number
JPS5910938B2
JPS5910938B2 JP5756476A JP5756476A JPS5910938B2 JP S5910938 B2 JPS5910938 B2 JP S5910938B2 JP 5756476 A JP5756476 A JP 5756476A JP 5756476 A JP5756476 A JP 5756476A JP S5910938 B2 JPS5910938 B2 JP S5910938B2
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JP
Japan
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glass
glass powder
deposit
optical transmission
temperature
Prior art date
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Expired
Application number
JP5756476A
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English (en)
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JPS52141236A (en
Inventor
直樹 吉岡
国生 藤原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp, Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00—Other methods of shaping glass
    • C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1415—Reactant delivery systems
    • C03B19/1423—Reactant deposition burners
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413—Reactant delivery systems
    • C03B37/0142—Reactant deposition burners
    • C03B37/01426—Plasma deposition burners or torches

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光伝送用ガラス及びファイバーの製造方法に関
するものである。
石英系ファイバーの素材となるガラスバルクおよびファ
イバーを作る技術に於て、コア部、クラッド部で純粋石
英に屈折率を高めたり、低くするためにＧｅｏ２、Ｂ２
Ｏ３、ｐ２ｏ５のようなドーパントを入れる必要がある
。
本発明はこのようなドープされた石英ガラスを作る方法
に関するものである。
従来は気相酸化分解をプラズマ炎で行なう場合第２図に
示す如くガスの反応とガラス化が同時にク 行なわれて
いた。
図においてＢはバブラー系、Ｎは原料ガスノズル、ＰＦ
は高周波プラズマ炉、Ｐｓはプラズマ炎、Ｄは回転板、
Ｇはガラス体である。
このような方法では反応と焼結ガラス化が同一０ 熱源
で同時に行われており高温であるためドーパント収率が
悪い。
即ちドープできないか又はドープ量が大きくとれなかつ
た。
従つてロッドインチューブ法でファイバー化するとき屈
折率差が小さいものしか出来５ なかつた。本発明は以
上の欠点を除く目的でなされたものであり、以下図に示
す実施例によつて詳述する。
第１図に示すようにプラズマ炎Ｐｓ中にＳｉ及びＧｅ、
Ｂ、Ｐのハロゲン化物、水素化物あるいはフ０ 有機化
物と酸素を送り込み気相化分解によつてガラス粉末ＧＰ
を作り、これを回転するガラス基板Ｄ上に積層させ所定
の速度で降下させる事により円柱で均一なガラス粉末の
塊ＧＢを作る。さらにこの円柱の粉末の塊を加工整形し
円柱又は円筒と２５する。しかる後に電気抵抗加熱、高
周波炉、ＣＯ２レーザープラズマ炎等で焼結する事によ
り透明なガラスバルクを作るものである。ファイバー化
するにはこれらガラスを研磨、洗浄し、それぞれドーパ
ントに応じてクラッド用の３０パイプあるいは、コア用
のロッドとし石英パイプを組み合せて公知のロッドイン
チューブ法にてファイバー化するものである。
次に本発明の実施例を示す。
第１図に示す如く高周波誘導プラズマ炎の軸方向に堆積
させる方法３５で、ＧｅＣｌ４、ＳｉＣｌ４、Ｏ２の原
料ガスをプラズマ炎ＰｓにノズルＮから吹込んだ。この
ときの高周波誘導プラズマヘの電力投入量は１５ＫＷで
あり、プラズマ炎発生用のトーチの先端から堆積体の先
端までの距離は１００ｍ１であつた。
このときの堆積体表面の温度は９００℃前後の値になつ
ていた。
この条件で作製された堆積体ＧＢは外径５０詣φで高さ
１００１１の粉末の集合体であつた。これを円柱（４０
１１φ）に整形し、高周波誘導加熱炉で１４５０℃で３
０分焼結すると透明なバルクとなつた。Ｇｅのドーブ量
は純粋石英との屈折率差にして△ｎ＝０．６％で、これ
を洗浄研磨して石英パイプと組合せロツドインチユーブ
によりフアイバ化すると０．８５μｍの波長で１０ｄＢ
／ＫＷの損失のものが得られた。次に同じ原料投入量で
高周波電力を３０ＫＷに増し、またプラズマ炎トーチの
先端と堆積体との距離を６０ｍｍ１こ近づけて作製した
。
このとき堆積したものは完全に透明な状態となつていた
。この透明ガラス体のＧｅドーブ量を石英との屈折率差
として測定すると△ｎ−０％、つまりまつたくドーブさ
れていなかつた。またこの時の堆積体表面温度は１８０
０℃以上であつた。この両者の差は高周波電力とトーチ
と堆積体の距離であり、いづれのパラメータも堆積体の
加熱温度に関係している。すなわち堆積体表面温度を下
げる事により粉体状の堆積が可能となり更には揮発性ド
ーパントの添加が可能となつた。本発明の方法によれば
、雰囲気を制御する事により原理的に無水かつ不純物の
少ないバルクが製造可能であり低損失のものが得られる
。
また酸化反応温度及び焼結ガラス化温度が低く出来るか
らシリカに比して高温での蒸気圧の高いドープ材（Ｇｅ
Ｏ２，Ｐ２Ｏ５，Ｂ２Ｏ３）を収率よくドープできる、
即ちドーブ量を大きくとることが出来る。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の方法の説明図、第２図は従来の方法の
説明図を示す。 Ｂ：バブラ一系、Ｎ：ノズル、ＰＦ：高周波プラズマ炉
、Ｐｓ：プラズマ炎、ＧＰ：ガラス粉末、ＧＢ：ガラス
粉末体、Ｄ：回転基板、Ｇ：ガラス体。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 高周波誘導プラズマ炎中にガラス原料ガスを送り込
    み、気相酸化分解によりガラス粉末を作り、該ガラス粉
    末を回転するガラス基板の軸方向に堆積表面温度を焼結
    温度より低い温度に保持して積層し、該ガラス粉末の状
    態で積層したガラス粉末堆積体を形成し、該ガラス粉末
    堆積体を円柱または円筒に整形した後焼結してなる工程
    を含むことを特徴とする光伝送用ガラスの製造方法。
JP5756476A 1976-05-19 1976-05-19 光伝送用ガラスの製造方法 Expired JPS5910938B2 (ja)

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JP5756476A JPS5910938B2 (ja) 1976-05-19 1976-05-19 光伝送用ガラスの製造方法

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JPS52141236A JPS52141236A (en) 1977-11-25
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Family

ID=13059319

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54112218A (en) * 1978-02-20 1979-09-03 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Production of optical fiber
JPS5510471A (en) * 1978-07-10 1980-01-24 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Production of single mode optical fiber
IT1308786B1 (it) * 1999-07-05 2002-01-10 Cselt Centro Studi Lab Telecom Procedimento e apparecchiatura per la formazione di strati piani disilice vetrosa mediante l'uso di una torcia a plasma ad accoppiamento

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JPS52141236A (en) 1977-11-25

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