JPS63233305A - 変位センサ - Google Patents

変位センサ

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JPS63233305A
JPS63233305A JP62066934A JP6693487A JPS63233305A JP S63233305 A JPS63233305 A JP S63233305A JP 62066934 A JP62066934 A JP 62066934A JP 6693487 A JP6693487 A JP 6693487A JP S63233305 A JPS63233305 A JP S63233305A
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JP
Japan
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light
displacement
receiving system
mirror surface
measured
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Application number
JP62066934A
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English (en)
Inventor
Nobuo Nakatsuka
中塚 信雄
Junichi Takagi
高木 潤一
Maki Yamashita
山下 牧
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Omron Corp
Original Assignee
Omron Tateisi Electronics Co
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は、例えばフィゾー型光干渉計応用の光フアイ
バセンサに関連する技術であって、可動物体の直線方向
の変位量を測定するための変位センサに関する。
〈従来の技術〉 例えば光フアイバ変位センサは、光ファイバの一端より
光を導入し、この伝播光の一部を光ファイバの他端で反
射させて参照光を得ると共に、伝播光の残りを光ファイ
バの他端より出射させて検出光となすものである。この
検出光は被測定物体に連動する反射鏡面で反射して信号
光となり、この信号光は再び前記他端より光ファイバに
戻ることになる。前記参照光と信号光とは光フアイバ内
で相互に干渉し、この干渉光はこれら光の位相差に応じ
た光強度をもつ、この干渉光を光ファイバの一端より取
り出して光電変換し、その強度変化を計数することで被
測定物体の変位量を測定する。
このような光フアイバ変位センサに関して、出願人はす
でにいくつかの提案を行っている。
例えば特開昭61−256203号は、光ファイバにお
ける検出光の出射端と反射鏡面との間にコリメート・レ
ンズを設けたものであり、これにより光ファイバに戻る
信号光の光量を確保すると共に、被測定物体の変位量に
かかわらず信号光のピーク強度をほぼ一定に保ち、もっ
て測定可能な変位量を増大させている。
また特開昭61−256204号は、上記のコリメート
・レンズの焦点を光ファイバにおける検出光の出射端か
ら軸方向へずらしてコリメート・レンズを配置したもの
であり、これにより被測定物体の変位量を測定するだけ
でなく、変位方向の判別も可能としている。
〈発明が解決しようとする問題点〉 ところが上記光フアイバセンサの場合、被測定物体(反
射鏡面)に対する検出光の照射や信号光の受光を開放さ
れた空間領域で行っているため、空気や温度のゆらぎの
影響を受は易く、また反射鏡面にゴミや汚れが付着して
、測定誤差が発生するという問題がある。
この発明は、このような問題点に着目してなされたもの
で、反射鏡面への検出光の照射や信号光の受光を密閉さ
れた空間内で行うことにより、空気や温度のゆらぎの影
響を受けず、また反射鏡面へのゴミなどの付着を防止し
た新規な変位センサを提供することを目的とする。
く問題点を解決するための手段〉 上記目的を達成するため、この発明では、゛ 投受光系
と、この投受光系で発せられた検出光を被測定物体と連
動する反射鏡面へ導きかつその反射鏡面での反射光を投
受光系へ導(ための案内部と、前記投受光系による反射
光の受光信号信号に基づき被測定物体の変位量を算出す
すための演算処理部とで変位センサを構成している。
そしてこの変位センサにおける案内部は、一端部に前記
投受光系が接続された密閉構造の筒状ガイドと、この筒
状ガイドの内部に往復動自在に配備される可動体とを備
えており、前記可動体には投受光系と対向する端面に前
記反射鏡面を設けると共に、その他端面には検出軸の一
端を接続して、この検出軸の他端を筒状ガイドの他端部
より外部へ突出させている。
く作用〉 被測定物体が変位すると、その変位量に応じて可動体(
反射鏡面)が筒状ガイド内を移動する。よって反射鏡面
への検出光の照射や信号光の受光は筒状ガイド内の密閉
空間内で行われることになるから、空気や温度のゆらぎ
の影響を受けず、また反射鏡面へのゴミや汚れの付着が
完全に防止される。
〈実施例〉 第3図〜第6図は、この発明が実施される光フアイバ変
位センサの基本原理を示している。
第3図において、光源1は波長λが0.633〔μm〕
のHe−Neレーザであって、そのレーザ光はアイソレ
ータ2およびビームスプリッタ3を経てレンズ4により
シングル・モードの偏波面保存光ファイバ(シングル・
ボラリゼーシツン・ファイバ)5にその一端(以下、「
入射端」という)より入射する。なおアイソレータ2は
反射光が光源lに戻らないようにするためのものである
前記光源1は、直線偏光のレーザ光の偏波面が偏波面保
存光ファイバ5のX軸およびy軸(第5図参照)に対し
て45°の角度で入射するようにその配置などを定めで
ある。従って光フアイバ5内を伝播する光はその基本モ
ードの相互に直交する成分E、、E、の大きさが等しく
なる。この偏波面保存光ファイバ5は、第5図に示す如
く中心のコア5aのX軸方向の上下位置に応力発生用の
ガラス・ファイバ5bがそのサポート内に挿入されて成
るもので、上記の2成分E、、E、はその偏波面を一方
向に保存して伝播される。
第4図は、光フアイバ変位センサのセンサ部12の構成
を拡大して示しである0図中、8はミラーなどの反射鏡
面であって、被測定物体に連動する。この反射鏡面8と
光ファイバ5との間にはロッドレンズ6が配置してあり
、このロッドレンズ6の焦点面は光ファイバ5の他端(
以下、「出射端」という)5cに位置決めされる。この
ロッド・レンズ6と反射鏡面8との間にはSiO□結晶
のような複屈折率をもつ結晶体(以下、「複屈折率結晶
」という)7が配置され、さらに前記ロッド・レンズ6
の複屈折率結晶7側の面にはハーフミラ−として作用す
る金属薄膜6aが蒸着などの方法で形成しである。
なおこの金属薄膜6aはロッド・レンズ6の他の面や光
ファイバ5の出射端面に形成してもよい。これらロッド
・レンズ6や複屈折率結晶7は光ファイバ5の出射端5
Cに対し適当な手段をもって固定される。
光フアイバ5内を伝播してくる光は出射端5cより出射
し、ロッド・レンズ6でコリメートされて平行光となる
。この平行光の一部は金属薄膜6aで反射し、ロッド・
レンズ6により集光されて前記出射端5Cより光フアイ
バ5内へ参照光として入射し、光フアイバ5内を逆方向
に伝播してゆく。前記平行光の残りはロッド・レンズ6
より出射し、検出光として複屈折率結晶7を経て反射鏡
面8へ向かう。この検出光は反射鏡面8で反射し、再び
複屈折率結晶7およびロッド・レンズ6を通過して集光
され、前記出射端5cより光フアイバ5内に信号光とし
て入射する。
ところで前記複屈折率結晶7は、Sin、結晶の場合、
第5図に示す如くそのZ軸方向の屈折率n、およびY軸
方向の屈折率n0はそれぞれna #1.48.  n
o″−1,52(λ#0.6μm)である。ロッド・レ
ンズ6からの出射光が平行平板のSiO□結晶の面に垂
直に入射し、この光の成分EX、E、にそれぞれ上記の
屈折率n、、n。
が作用したとすると、これら互いに直交する成分E、、
E、は異なる位相速度でSi0g結晶内を伝播し、結晶
をその厚さd方向に通過したときには両者の間につぎの
位相差Δが生じる。
Δ=(2πd/λ)(no−n、) 直交する2成分E、、Eyの位相差はSin、結晶の厚
さdによって定まり、d + = 15.825μmで
1波長分の位相差が生じる。従って複屈折率結晶7の厚
さdを次式で設定したとき1/N波長分の位相差が生じ
ることになる(1/N波長板)。
d = m−d I+ (d t / N)  (ただ
しmは正の整数) 前記検出光は複屈折率結晶7を通過し、反射鏡面8で反
射した後、信号光として再び複屈折率結晶7を通過する
。従って成分EつとE、との位相差は2/N波長分((
2/N)2π〕となる。一方、金属薄膜6aで反射する
参照光の2成分E、、E、には位相差は生じない。
一方の成分Exにつき考えると、金属薄膜6aで反射し
た参照光の成分E、と反射鏡面8で反射した信号光の成
分E8とは光フアイバ5内を逆方向に伝播するときに相
互に干渉し、この干渉光にはこれら2つの光の光路差に
応じた光強度変化が生じる。他方の成分Eyについても
その参照光と信号光とが同様に干渉するもので、これら
各成分についての干渉光は、偏波面保存光ファイバ5内
を直交する2つの偏波光として入射端の方へ伝播してゆ
(。しかも信号光の2成分の間には前記したとおり2/
N波長分の位相差があるから、成分E8の干渉光と成分
E、の干渉光との間にも2/N波長分の位相差が生じる
ことになる。
これら干渉光の強度は、第6図に示すように光路差の変
化に対してλ(光の波長)の周期で正弦的に変化する0
図中、No、1の変化曲線は成分E、の干渉光の強度変
化を示し、No、2  の変化曲線は成分E、の干渉光
の強度変化を示している。信号光は光ファイバ5の出射
端5cと反射鏡面8との間を往復するので光路差は反射
鏡面8の変位量の2倍に等しい、すなわち干渉光の一周
期は光路差λに等しいが、これは反射鏡面8の変位量で
表すとλ/2となる。
第3図に戻って、光ファイバ5を戻ってきた各成分Ex
、E、の干渉光は、ビームスプリッタ3で反射された後
、偏光ビームスプリッタ9で分離され、一方の成分E、
の干渉光は受光素子10Aで、他方の成分E、の干渉光
は受光素子10Bで、それぞれ受光される。
各受光信号は受光素子10A、10Bでそれぞれ電気信
号に変換された後、適当なスレシホールド・レベルをも
つ2値化回路11A、IIBでレベル弁別されて2値化
される。
第6図に、上記スレシホールド・レベルTHと各成分E
、、E、の干渉光についての2値化  ′信号とを対応
させて示しである。
この2値化信号の立上りまたは立下り、或いはその両方
をカウンタで計数することにより、反射鏡面8の変位量
を測定できる。従って反射鏡面8の変位量はλ/2また
はλ/4単位で測定されることになり、例えばλ/4の
場合は約0.16μmの分解能で変位量を測定できる。
なお第6図に示すNo、1またはNo、2の光信号のい
ずれか一方のみを用いて変位量が測定できることはいう
までもない。
上記2つの2値化信号は微分回路を用いてその立上りま
たは立下り、或いはその両方を検出し、これら微分され
た信号に基づき反射鏡面8の変位方向を判別する。すな
わち反射鏡面8が光ファイバ5の出射端5Cから遠ざか
る方向へ変位するときは、一方の2値化回路11Aの出
力信号の立上り(立下り)が他方の2値化回路11Bの
出力信号の立上り(立下り)よりも先に現れ、また反射
鏡面8が逆方向に変位するときは、これら2°つの信号
の変化の順序が逆になる。従って微分された信号の変化
が現れる順序をチェックすることにより、反射鏡面8の
変位方向を判別できる。
なお第6図に示す2つの干渉光信号(No、1とNo、
2)の位相差はg/8.x/4.n/2程度が好ましい
が、π、2π以外であればいかなる値でもよい。
またロッド・レンズ6の出射端における光の反射率と透
過率は金属薄膜6aの膜厚によって定まる。従って金属
薄膜6aの厚さを制御することにより参照光と信号光の
強度の比を任意に定めることができ、例えばこれをl:
lとすることもできる。
かくして上記構成の光フアイバ変位センサの場合、光フ
ァイバ5の出射光はロフト・レンズ6により平行化され
るから、反射鏡面8が変位してロッド・レンズ6と反射
鏡面8との距離が変動しても、検出光や信号光は平行光
となって拡散することはない、また信号光はロッド・レ
ンズ6で集光されて光ファイバ5へ入射するから、反射
鏡面8の位置に殆ど関係な(光ファイバ5に戻る反射光
強度をほぼ一定に保持できる。
よって反射鏡面8の変位に対して信号光強度がほぼ一定
となり、正確な変位測定が可能となると共に、変位の測
定可能範囲が広くなる。
第1図は、上記光フアイバ変位センサを基本構成とする
この発明の一実施例を示すもので、投受光系20.案内
部21.干渉波形検出器22、演算処理部23および、
出力部24をその構成として含んでいる。
投受光部20は、前記の参照光や検出光を生成して出力
すると共に信号光を取り込んで干渉光を生成するための
もので、レーザ光を出力する光源25.入出力光をコリ
メートするためのコリメート光学系26.干渉光を生成
するための干渉光学系27を含んでいる。これらコリメ
ート光学系26や干渉光学系27は、前記光ファイバ5
.ロッド・レンズ6、複屈性率結晶7などの各光学部材
を組み合わせて構成される。
案内部21は、投受光系20より照射された検出光を被
測定物体28と連動する反射鏡面29へ珈きかつその反
射鏡面29で反射した信号光を投受光系20へ導くため
のものであり、第1図および第2図に示すように筒状ガ
イド30の中空内部に反射鏡面29を備えた円筒形状を
なす可動体31を往復動自在に配備した構造のものであ
る。
前記筒状ガイド30は、一端部に前記投受光系20が接
続され、また他端部はブツシュ32により密閉された構
造であり、これにより中空内部を外気や温度のゆらぎの
影響から遮断し、また前記反射鏡面29へのゴミや汚れ
の付着を防止している。前記反射鏡面29にはミラーや
再帰性及財物などが用いられ、可動体31の投受光系2
0と対向する端面に配置しである。可動体31の反対側
端面には検出軸33の一端が接続され、この検出軸33
の他端を前記ブツシュ32を突き抜けて外部へ突出させ
、その先端を被測定物体28に当接させる。従って被測
定物体28が軸方向に変位すると、検出軸33がこれと
連動するため、可動体31が筒状ガイド30内で変位量
に応じて移動する。
第7図および第8図は、上記案内部21の具体構成例を
示している。
図示例のものは、長尺かつ密閉構造の筒状ガイド30の
内部に反射鏡面29を備えた可動体31を往復摺動自在
に配備すると共に、この可動体31を圧縮バネ35によ
り検出軸31の突出方向へ常時付勢している。前記可動
体31は潤滑性処理の施された摺動部34.34を備え
ており、また検出軸33はその先端に先細の接触子36
が形成しである。なお第7図中、37゜38は圧縮バネ
35の端部を支えるバネ受けである。
第1図に戻って、干渉波形検出器22は投受光系20で
得た干渉光を前記各成分EX、E。
についての干渉光に分離して受光し、゛それぞれ光電変
換を行って各成分Ex、E、の干渉光信号を生成するた
めのもので、前記偏光ビームスプリッタ9.受光素子I
OA、10Bなどの各構成がこれに相当する。
演算処理部23は、干渉波形検出器22で得た各成分E
XIE、の干渉光信号に基づき被測定物体28の変位方
向とその変位量を算出するためのもので、第9図にこの
演算処理部23の具体回路構成が、また第10図にその
回路各部の信号波形が、−例として示しである。
第9図中、一対の干渉波形検出器22A。
22Bは各成分EX+E、についての干渉光信号A、 
B (第10図(1)参照)を生成するためのもので、
一方の干渉光信号Aは2個の2値化回路41.42に、
他方の干渉光信号Bは他の2個の2値化回路43.44
に、それぞれ与えられる。
なお第10図の例では、被測定物体2日の変位方向は図
中Pで示す点で正の方向から負の方向へ変化している。
上記4個の2値化回路のうち、2値化回路41.43は
第10図(1)中T Hrで示すスレシホールド・レベ
ルをもち、また他の2値化回路42.44は同図中TH
,で示すスレシホールド・レベルをもっており、前記干
渉光信号A。
Bは各2値化回路41〜44でそれぞれレベル弁別され
て第10図(2) (31で示すような2値化体号C−
Fが生成される。
2値化体号C,Dは論理和回路45および制御信号生成
回路46に与えられ、他の2値化体号E、Fは他の制御
信号生成回路47へ与えられる。前記論理和回路45は
カウンタ48の計数人力G(第10図(7)参照)を与
えるためのもので、カウンタ48は後記する計数制御信
号にの制御下でアップ・ダウンカウントを行って被測定
物体28の変位量を計数する。
各制御信号生成回路46.47は被測定物体28の変位
方向を示す制御信号H,I  (第10図(41(51
参照)を生成するもので、制御信号生成回路46は一方
の2値化信号りを他方の2値化信号Cの立上りでラッチ
することにより制御信号Hを得、また制御信号生成回路
47は一方の2値化信号Fを他方2値化信号Eの立上り
でラッチすることにより制御信号lを得ている。これら
制御信号H,Iは論理和回路49に与えられて、第10
図(6)に示す計数制御信号Kが生成される。この計数
制御信号には前記のカウンタ48の計数動作を制御する
ためのもので、カウンタ48は計数制御信号Kが“LO
W ”のレベルのときアップカウントし、“旧Gli″
のレベルのときダウンカウントする。
このカウンタ4Bの計数データJは変位量演算器50へ
出力され、この変位量演算器50にて計数データJが被
測定物体2Bの変位量に換算されて入出力装置51へ出
力される。
なお図中リセット回路52は、カウンタ31の計数値を
リセットするためのもので、これにより可動体31の原
点が位置設定される。
第11図は上記変位センサの使用例を示しており、テー
ブル60の上方位置に変位センサの案内部21が検出軸
33を下方に向けて配備されている。この案内部21は
検出軸33先端の接触子36がテーブル上面と接触する
ようにその高さが位置決めされており、テーブル60が
移動して被測定物体28a、28bが前記接触子36の
下方を通過するとき、検出軸33が押し上げられ、筒状
ガイド30内の可動体31が変位することになる。
この可動体の変位量ΔXは、上記構成の光フアイバ変位
センサによって測定されるもので、この変位センサは第
12図に示す如く、変位量ΔXに比例する測定出力を出
力する。
従って第13図に示すように、テーブル60の移動量y
に対する検出軸33の変位量ΔXを求めることにより、
各被測定物体28a。
28bのプロファイルが求められ、これにより各被測定
物体がいずれの物体であるかを認識で゛きる。
〈発明の効果〉 この発明は上記の如く、反射鏡面への検出光の照射や信
号光の受光を密閉された筒状ガイド内で行うようにした
から、空気や温度のゆらぎの影響を受けず、また反射鏡
面にゴミや汚れが付着して測定誤差が生ずるなどの虞れ
がない。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例にかかる変位センサの概略
構成を示す説明図、第2図は案内部の内部構造を示す斜
面図、第3図は光フアイバ変位センサの基本構成を示す
説明図、第4図はセンサ部を拡大して示す側面図、第5
図は光ファイバの軸方向と複屈折率結晶の軸方向との関
係を示す説明図、第6図は干渉光信号および2値化信号
の波形図、第7図は案内部の具体例を示す断面図、第8
図は案内部の内部構造を示す斜面図、第9図は演算処理
部の回路構成例を示すブロック図、第1θ図は回路各部
の信号波形を示す波形図、第11図はこの発明の変位セ
ンサの使用例を示す正面図、第12図は変位置に対する
変位センサの測定出力を示す説明図、第13図は被測定
物体のプロファイルを示す説明図である。 20・・・・投受光系  21・、・・案内部23・・
・・演算処理部 29・・・・反射鏡面30・・・・筒
状ガイド 31・・・・可動体33・・・・検出軸 特許出願人  立石電機株式会社 →イ)3+”l   光ファイへ傭ヒイitンサめ」1
オきす1ノにを元I免e月12÷+ムJffl   セ
ン4j酔tホ(人して元4イ貝・16丁a、2 (ご)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)投受光系と、 この投受光系で発せられた検出光を被測定物体と連動す
    る反射鏡面へ導きかつその反射鏡面での反射光を投受光
    系へ導くための案内部と、前記投受光系による反射光の
    受光信号に基づき被測定物体の変位量を算出するための
    演算処理部とから構成され、 前記案内部は、 一端部に前記投受光系が接続された密閉構造の筒状ガイ
    ドと、 この筒状ガイドの内部に往復動自在に配備される可動体
    とを備え、 前記可動体には投受光系と対向する端面に前記反射鏡面
    を設けると共に、その他端面には検出軸の一端を接続し
    て、この検出軸の他端を筒状ガイドの他端部より外部へ
    突出させて成る変位センサ。
  2. (2)前記投受光系は、レーザ光を出力する光源と、入
    出力光をコリメートするためのコリメート光学系と、干
    渉光を生成するための干渉光学系とを含んでいる特許請
    求の範囲第1項記載の変位センサ。
  3. (3)前記演算処理部は、被測定物体の変位量を検出す
    るための変位量検出回路部と、被測定物体の変位方向を
    検出するための変位方向検出回路部とを含んでいる特許
    請求の範囲第1項記載の変位センサ。
  4. (4)前記案内部の筒状カイドは、その内部に可動体を
    検出軸の方向へ常時付勢するためのバネが配設されてい
    る特許請求の範囲第1項記載の変位センサ。
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