JPS63231028A - 振動減衰装置 - Google Patents
振動減衰装置Info
- Publication number
- JPS63231028A JPS63231028A JP62062737A JP6273787A JPS63231028A JP S63231028 A JPS63231028 A JP S63231028A JP 62062737 A JP62062737 A JP 62062737A JP 6273787 A JP6273787 A JP 6273787A JP S63231028 A JPS63231028 A JP S63231028A
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- Japan
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- liquid
- liquid tank
- viscous resistance
- movable body
- vibration damping
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Links
- 238000013016 damping Methods 0.000 title claims description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000011553 magnetic fluid Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 3
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F9/00—Springs, vibration-dampers, shock-absorbers, or similarly-constructed movement-dampers using a fluid or the equivalent as damping medium
- F16F9/32—Details
- F16F9/53—Means for adjusting damping characteristics by varying fluid viscosity, e.g. electromagnetically
- F16F9/535—Magnetorheological [MR] fluid dampers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
- Fluid-Damping Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の分野］
本発明は半導体露光装置用ＸＹステージ等の高速移動、
微小位置決めを繰返す装置において装置の振動を減衰さ
せるための振動減衰装置に関する。
微小位置決めを繰返す装置において装置の振動を減衰さ
せるための振動減衰装置に関する。
［従来の技術］
半導体露光装置用ＸＹステージ等においてＸＹステージ
の高速移動に伴い、移動停止時の微小位置決めを行なう
際ステージに振動が発生する。このような振動を防止ま
たは抑制するため従来は、第６図に示すように、ステー
ジ１０４の下面に予圧用ローラ１０１および摺動板１０
２を設け、摺動板１０２を摺動ガイド１０３に沿って摺
動させていた。
の高速移動に伴い、移動停止時の微小位置決めを行なう
際ステージに振動が発生する。このような振動を防止ま
たは抑制するため従来は、第６図に示すように、ステー
ジ１０４の下面に予圧用ローラ１０１および摺動板１０
２を設け、摺動板１０２を摺動ガイド１０３に沿って摺
動させていた。
このとき予圧用ローラ１０１ により摺動板１０２と摺
動ガイド１０３とを圧接させ摩擦力を付与していた。こ
の摩擦力の調整は、予圧用ローラ１０１の予圧力の調整
により行なっていた。
動ガイド１０３とを圧接させ摩擦力を付与していた。こ
の摩擦力の調整は、予圧用ローラ１０１の予圧力の調整
により行なっていた。
しかしながら、このような従来の装置においては、摩擦
力を利用して振動を減衰させる構造であるため、予圧用
ローラ等に不要な摩擦力が発生し、姿勢や位置決め精度
に悪影響を及ぼしていた。また、ステージの高速移動中
にも停止時の位置決め制御時と同様の大きな抵抗が作用
するため高速移動時に制御系、モータ等に加わる負荷が
増大するという問題があった。
力を利用して振動を減衰させる構造であるため、予圧用
ローラ等に不要な摩擦力が発生し、姿勢や位置決め精度
に悪影響を及ぼしていた。また、ステージの高速移動中
にも停止時の位置決め制御時と同様の大きな抵抗が作用
するため高速移動時に制御系、モータ等に加わる負荷が
増大するという問題があった。
［発明の目的］
本発明は前記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、高速移動中にはステージ等の移動体に作用する抵抗
を減少させ、かつ微小位置決め時には抵抗を増加させて
効率良く振動の減衰を可能とする振動減衰装置の提供を
目的とする。
て、高速移動中にはステージ等の移動体に作用する抵抗
を減少させ、かつ微小位置決め時には抵抗を増加させて
効率良く振動の減衰を可能とする振動減衰装置の提供を
目的とする。
［実施例］
第１図に本発明の第１の実施例の外観を示す。
第２図および第３図は各々第１の実施例の分解図および
断面図である。１は非磁性体からなる移動体、２は非磁
性体からなる液槽、３は磁性流体、４は電磁石、５は電
源である。移動体１はＸＹステージ等の移動ステージ（
図示しない）に連結されていてもよい。電磁石４は電源
投入により、第３図の矢印６方向に磁界が発生し磁性流
体３の粘性抵抗を増加させるように構成しておく。移動
体１は矢印Ｘのように直線的に往復方向に移動し、この
移動方向に沿フて液［２の液体収容部２ａが配置される
。移動体１は液槽２内の磁性流体３中に一部が寝潰して
浮いた状態で保持され液槽２に接触しない。
断面図である。１は非磁性体からなる移動体、２は非磁
性体からなる液槽、３は磁性流体、４は電磁石、５は電
源である。移動体１はＸＹステージ等の移動ステージ（
図示しない）に連結されていてもよい。電磁石４は電源
投入により、第３図の矢印６方向に磁界が発生し磁性流
体３の粘性抵抗を増加させるように構成しておく。移動
体１は矢印Ｘのように直線的に往復方向に移動し、この
移動方向に沿フて液［２の液体収容部２ａが配置される
。移動体１は液槽２内の磁性流体３中に一部が寝潰して
浮いた状態で保持され液槽２に接触しない。
次に上記構成の振動減衰装置の作用について説明する。
移動体１の高速移動時には電源５はＯＦＦとし電磁石４
を励磁しない。従って、磁性流体の粘性抵抗は増加せず
低い抵抗状態で移動体１は磁性流体中を液槽と非接触で
移動する。移動体１の移動が終了した微小位置決め制御
を行なうときには電源５をＯＮ状態とし電磁石４を励磁
する。これにより磁界が発生しく矢印６）、磁性流体３
の粘性抵抗が増加して移動体１から作用する抵抗を増加
させ振動を減衰させる。このときの粘性抵抗Ｃは、第３
図に示すように、移動体１と液槽２間の隙間をｄ、移動
体１と磁性流体との接触面積をＡ１粘土をμとすると、
Ｃ＝２μＡ／ｄで表わされる。従って、粘度μ、接触面
積Ａ、隙間ｄを調整することにより必要な減衰力を得る
ことができる。磁性流体の粘度μは磁界の強さに応じて
変化する。従って電磁石４により作用させる磁界の強さ
を調整すること（例えば電磁石の数、電圧、距離等）に
より必要な粘度μを得ることができ所望の減衰力を得る
ことができる。
を励磁しない。従って、磁性流体の粘性抵抗は増加せず
低い抵抗状態で移動体１は磁性流体中を液槽と非接触で
移動する。移動体１の移動が終了した微小位置決め制御
を行なうときには電源５をＯＮ状態とし電磁石４を励磁
する。これにより磁界が発生しく矢印６）、磁性流体３
の粘性抵抗が増加して移動体１から作用する抵抗を増加
させ振動を減衰させる。このときの粘性抵抗Ｃは、第３
図に示すように、移動体１と液槽２間の隙間をｄ、移動
体１と磁性流体との接触面積をＡ１粘土をμとすると、
Ｃ＝２μＡ／ｄで表わされる。従って、粘度μ、接触面
積Ａ、隙間ｄを調整することにより必要な減衰力を得る
ことができる。磁性流体の粘度μは磁界の強さに応じて
変化する。従って電磁石４により作用させる磁界の強さ
を調整すること（例えば電磁石の数、電圧、距離等）に
より必要な粘度μを得ることができ所望の減衰力を得る
ことができる。
第４図は本発明の第２の実施例の断面図である。この実
施例では、第１の実施例の電磁石４に代えて、永久磁石
７が設けられている。この永久磁石７は移動装置８によ
り矢印Ｆのように液槽２に対し接離可能である。永久磁
石７の穆勤により磁界を変化させ磁性流体３の粘性抵抗
を変化させることができる。その他の構成、作用は前述
の第１実施例と同様である。
施例では、第１の実施例の電磁石４に代えて、永久磁石
７が設けられている。この永久磁石７は移動装置８によ
り矢印Ｆのように液槽２に対し接離可能である。永久磁
石７の穆勤により磁界を変化させ磁性流体３の粘性抵抗
を変化させることができる。その他の構成、作用は前述
の第１実施例と同様である。
第５図は本発明の第３の実施例の断面図である。この実
施例においては移動体１１および液槽１２を導電材料で
構成し移動体１１および液槽１２に電源５を接続する。
施例においては移動体１１および液槽１２を導電材料で
構成し移動体１１および液槽１２に電源５を接続する。
液槽１２内にはウィンスロー効果（電圧をかけると流れ
抵抗が増加する）を持つ液体９を収容する。この液体９
に対し必要に応じて電圧を印加することにより、粘性抵
抗を変化させることができる。その他の構成、作用は前
述の第１実施例と同様である。
抵抗が増加する）を持つ液体９を収容する。この液体９
に対し必要に応じて電圧を印加することにより、粘性抵
抗を変化させることができる。その他の構成、作用は前
述の第１実施例と同様である。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明においては、移動体を非接
触で液槽内の液体中に支持し、この液体の粘性抵抗を可
変とすることにより、移動体の高速９動中は粘性抵抗を
減少させ、微小位置決め時には粘性抵抗を増加させて振
動を効率良く減衰させ短時間で位置決め制御を行なうこ
とができる。
触で液槽内の液体中に支持し、この液体の粘性抵抗を可
変とすることにより、移動体の高速９動中は粘性抵抗を
減少させ、微小位置決め時には粘性抵抗を増加させて振
動を効率良く減衰させ短時間で位置決め制御を行なうこ
とができる。
第１図は本発明の第１実施例の外観図、第２図は第１実
施例の分解図、第３図は第１実施例の断面図、第４図は
本発明の第２実施例の断面図、第５図は本発明の第３実
施例の断面図、第６図は従来技術の構成図である。 １．１１：移動体、 ２．１２：液槽、 ３：磁性流体、 ４：電磁石、 ５：電源、 ７：永久磁石、 ９：ウィンスロー効果を持つ液体。 第３図 第４図
施例の分解図、第３図は第１実施例の断面図、第４図は
本発明の第２実施例の断面図、第５図は本発明の第３実
施例の断面図、第６図は従来技術の構成図である。 １．１１：移動体、 ２．１２：液槽、 ３：磁性流体、 ４：電磁石、 ５：電源、 ７：永久磁石、 ９：ウィンスロー効果を持つ液体。 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、液槽内に収容した液体中に一部を浸漬させた状態で
該流体中を移動する移動体と、該液体の粘性を変化させ
るための粘性抵抗調整手段とを具備したことを特徴とす
る振動減衰装置。 ２、前記移動体および液槽は非磁性体からなり、該液槽
に磁性流体を収容し、前記粘性抵抗調整手段は前記液槽
側面に設けた複数の電磁石からなることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の振動減衰装置。 ３、前記移動体および液槽は非磁性体からなり、該液槽
に磁性流体を収容し、前記粘性抵抗調整手段は前記液槽
に対し接離可能に設けた複数の永久磁石からなることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の振動減衰装置。 ４、前記移動体および液槽は導電材料からなり、該液槽
にウインスロー効果を有する液体を収容し、前記粘性抵
抗調整手段は該液体に対する電圧印加手段からなること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の振動減衰装置
。 ５、前記移動体は直線的に移動し、前記液槽は移動体の
直線移動方向に沿って液体収容部を有し、該移動体は該
液槽に対し非接触で液体中を移動するように構成したこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項から第４項までの
いずれか１項記載の振動減衰装置。 ６、前記粘性抵抗調整手段は、前記移動体が高速移動中
は前記液体の粘性抵抗を減少させ、前記移動体の位置決
め制御時には液体の粘性抵抗を増加させるように構成し
たことを特徴とする特許請求の範囲第１項から第５項ま
でのいずれか１項記載の振動減衰装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62062737A JPS63231028A (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | 振動減衰装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62062737A JPS63231028A (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | 振動減衰装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63231028A true JPS63231028A (ja) | 1988-09-27 |
Family
ID=13208994
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62062737A Pending JPS63231028A (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | 振動減衰装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63231028A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5125338A (en) * | 1989-12-30 | 1992-06-30 | Alcatel Business Systems Limited | Article feeding apparatus with electro-rheological fluid-type damper |
| US5368140A (en) * | 1990-12-10 | 1994-11-29 | Bridgestone Corporation | Damper device and method of its use, and a device for manufacturing semiconductors using the damper device |
| JP2001524648A (ja) * | 1997-11-25 | 2001-12-04 | ロード コーポレーション | 加減弁及びそれを利用している振動ダンパ |
| FR2922287A1 (fr) * | 2007-10-15 | 2009-04-17 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif d'amortissement apte a offrir une raideur augmentee |
| JP2012177406A (ja) * | 2011-02-25 | 2012-09-13 | Kyb Co Ltd | 磁気粘性流体緩衝器 |
| CN104141730A (zh) * | 2014-06-30 | 2014-11-12 | 北京交通大学 | 一种磁固式磁性液体阻尼减振器 |
| CN104976271A (zh) * | 2015-07-15 | 2015-10-14 | 安徽工程大学 | 适于磁流变阻尼器的阻尼调节装置 |
| JP2018124464A (ja) * | 2017-02-02 | 2018-08-09 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置 |
-
1987
- 1987-03-19 JP JP62062737A patent/JPS63231028A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5125338A (en) * | 1989-12-30 | 1992-06-30 | Alcatel Business Systems Limited | Article feeding apparatus with electro-rheological fluid-type damper |
| US5368140A (en) * | 1990-12-10 | 1994-11-29 | Bridgestone Corporation | Damper device and method of its use, and a device for manufacturing semiconductors using the damper device |
| JP2001524648A (ja) * | 1997-11-25 | 2001-12-04 | ロード コーポレーション | 加減弁及びそれを利用している振動ダンパ |
| JP4778140B2 (ja) * | 1997-11-25 | 2011-09-21 | ロード・コーポレーション | 加減弁及びそれを利用している振動ダンパ |
| FR2922287A1 (fr) * | 2007-10-15 | 2009-04-17 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif d'amortissement apte a offrir une raideur augmentee |
| WO2009050135A1 (fr) * | 2007-10-15 | 2009-04-23 | Commissariat A L'energie Atomique | Dispositif d'amortissement permettant d'obtenir une raideur augmentée |
| US8547191B2 (en) | 2007-10-15 | 2013-10-01 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Damping device capable of providing increased stiffness |
| JP2012177406A (ja) * | 2011-02-25 | 2012-09-13 | Kyb Co Ltd | 磁気粘性流体緩衝器 |
| CN104141730A (zh) * | 2014-06-30 | 2014-11-12 | 北京交通大学 | 一种磁固式磁性液体阻尼减振器 |
| CN104976271A (zh) * | 2015-07-15 | 2015-10-14 | 安徽工程大学 | 适于磁流变阻尼器的阻尼调节装置 |
| JP2018124464A (ja) * | 2017-02-02 | 2018-08-09 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置 |
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