JPS63226625A - 液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液晶表示素子に関し、さらに詳細には特定の
液晶配向膜を有する液晶表示素子に関する。

〔従来の技術〕

従来、正の誘電異方性を有するネマチック液晶を液晶配
向膜を塗布した透明電極でサンドインチし、液晶分子長
軸が上下の基板間で９０度連続的に槻じれるようにした
ＴＮ配列セルを有する表示素子（ＴＮ型表示素子）が知
られている。このような液晶の配向状態は、透明電極上
に塗布されたポリイミドなどからなる液晶配向膜を合成
繊維製からなる布を巻きつけたロールなどで一方向にラ
ビングし、上下の基板上の配向膜をラビング方向がお互
いに直交した状態となるように組み込むことにより発現
させることができる。

しかし、このＴＮ型表示素子は、コントラストおよび視
角依存性に問題があり、最近、コントラストおよび視角
依存性の向上した液晶表示素子としてＳ　Ｂ　Ｅ　（Ｓ
ｕｐｅｒ　ｔｗｓｔｔｅｄ　Ｂｉｒｅｆｒｅｎｇｅｎｃ
ｙ　Ｅｆｆｅｃｔ）表示素子が知られるようになった。

この表示素子は、液晶としてネマチック型液晶に光学活
性物質をブレンドしたものを用い、液晶分子長軸を上下
の基板間で１８０度以上に連続的に捻ることにより生じ
る複屈折効果を利用した表示モードである。

従来、この表示素子は、液晶を配向させるために二酸化
ケイ素を斜方蒸着した基板を用いることにより作製され
ているが、この方法は表示の再現性および製造コストの
面から問題がある。

また、前記したようなポリイミドを液晶配向膜として用
いて、このＳＢＥ表示素子を作製した場合、配向した分
子長軸と配向膜とのプレチルト角が小さいために、１８
０度以上液晶を捻ることができず、目的とする表示機能
を発現しにくい問題点を有している。

本発明は、かかる従来の技術的課題を背景になされたも
ので、プレチルト角の大きい液晶表示素子、特にＳＢＥ
表示素子として有用な液晶表示素子を提供することを目
的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

すなわち、本発明は、液晶配向膜を有する液晶表示素子
において、液晶配向膜が下記一般式（Ｉ）で表される繰
り返し構造単位を有するポリアミドあるいは該ポリアミ
ドから得られるポリイミドを２５０℃を超える温度で熱
処理して変性した塗膜よりなることを特徴とする液晶表
示素子を提供するものである。

（式中、Ｒは４価の脂肪族基または脂環族基、Ｒ１は２
価の有機基、Ｒ２およびＲ３は同一または異なってもよ
く、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。

） 本発明で用いるポリアミドは、例えば脂肪族または脂環
族テトラカルボン酸類とジアミンとを反応させることに
より得られる。

なお、本発明において、テトラカルボン酸類とは、テト
ラカルボン酸、テトラカルボン酸−無水物、テトラカル
ボン酸二無水物、テトラカルボン酸モノアルキルエステ
ル、テトラカルボン酸ジアルキルエステル、テトラカル
ボン酸トリアルキルエステル、およびテトラカルボン酸
テトラアルキルエステルを表すものである。

かかるテトラカルボン酸類としては、ブタンテトラカル
ボン酸類、１，２，３．４−シクロブタンテトラカルボ
ン酸類、１．２．３．４−シクロペンクンテトラカルボ
ン酸類、２．３．５−トＩＪカルボキシシクロペンチル
酢酸類、３，５．６−ドリカルポキシーノルボルナンー
２−酢酸類、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリ
ル）−３−メチル−シクロヘキセンジカルボン酸類、ビ
シクロ（２，２，２）−オクト−７−ニンーテトラカル
ボン酸類、１．２，３．４−フランテトラカルボン酸類
、３．３’、４．４’−パーフルオロイソプロピリデン
テトラカルボン酸類などの脂肪族または脂環族テトラカ
ルボン酸を挙げることができる。これらのテトラカルボ
ン酸類のうち、特に好ましいものとしては、２．３．５
−）リカルボキシシクロペンチル酢酸類、１．２，３．
４−シクロペンテンテトラカルボン酸類などを挙げるこ
とができる。

また、本発明においては、前記テトラカルボン酸のほか
に、４，４′−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ
）ジフェニルスルフィド類、４゜４′−ビス（３，４−
ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン類、４．
４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェ
ニルプロパン類、３．３’、４．４’−パーフルオロイ
ソプロピリデンテトラカルボン酸類、３．３’、４．４
’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸類、ヒス（フ
タル酸）フェニルホスフィンオキサイド類、ｐ−フェニ
レン−ビス−（トリフェニルフタル酸）類、ｍ−フェニ
レン−ビス−（トリフェニルフタル酸）　類、ビス（ト
リフェニルフタル酸）−４゜４′−ジフェニルエーテル
類、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェ
ニルメタン類、ピロメリット酸類、３．３’、４．４’
−ベンゾフヱノンテトラカルボン酸類、３．３’、４．
４’−ビフエニルスルホンテトラカルボン酸Ｉ！、１゜
４．５．８−ナフタレンテトラカルボン酸類、２゜３，
６．７−ナフタレンテトラカルボン酸類、３゜３’、４
．４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸類、３．
３’、４．４’−ジメチルジフェニルシランテトラカル
ポン酸類、３．３’、４゜４′−テトラフェニルシラン
テトラカルボン酸類などの芳香族テトラカルボン酸類を
併用することができる。これらの芳香族テトラカルボン
酸類の混合割合は、前記脂肪族または脂環族テトラカル
ボン酸頻に対して、２０〜５０モル％である。

また、前記テトラカルボン酸類と反応させる一般的なジ
アミンとしては、一般式； Ｈｚ　Ｎ　　Ｒ’−ＮＨｚで示される化合物（Ｒ’　は
、２価の芳香族基、脂肪族基、脂環族基、オルガノシロ
キサン基などの有機基を示す）を挙げることができる。

前記ジアミンの具体例としては、パラフェニレンジアミ
ン、メタフェニレンジアミン、４．４′−ジアミノジフ
ェニルメタン、４．４’−ジアミノジフェニルエタン、
ベンジジン％４．４’　−’／’アミノジフェニルスル
フィド、４．４’−ジアミノジフェニルスルホン、４．
４′−ジアミノジフェニルエーテル、１．５−ジアミノ
ナフタレン、３．３′−ジメチル−４，４′−ジアミノ
ビフェニル、３．４′−ジアミノベンズアニリド、３゜
４′−ジアミノジフェニルエーテル、３．３’−ジアミ
ノベンゾフェノン、３，４′−ジアミノベンゾフェノン
、４．４’−ジアミノベンゾフェノン、２．２−ビス（
４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、ビ
ス（４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕スルホン
、■、４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１
，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１．３
−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９．９−ビ
ス（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロ−アンスラセ
ン、９．９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、
４．４′−メチレン−ビス（２−クロロアニリン）、２
．２’、５．５’−テトラクロロ−４，４′−ジアミノ
ビフェニル、２゜２′−ジクロロ−４，４−ジアミノ）
−５，５’−ジメトキシビフェニル、３．３′−ジメト
キシ−４，４’−ジアミノビフェニルなどの芳香族ジア
ミン、１．１’−メタキシリレンジアミン、１゜３−プ
ロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチ
レンジナミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレ
ンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジ
アミン、４，４′−ジメチルへブタメチレンジアミン１
．１．４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミ
ン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、
ヘキサヒトロー４．７−メタノインダニレンシメチレン
ジアミン、トリシクロ（６，２，１，０”・）〕−ウン
デシレンジメチルジアミンなどの脂肪族または脂環族ジ
アミン、および などで示されるジアミノオルガノシロキサンを挙げるこ
とができる。

これらのテトラカルボン酸類、およびジアミンは、それ
ぞれ１種単独でも、２種以上を組み合わせても使用する
ことができる。

本発明のポリ、アミドは、従来から知られた方法により
溶媒中で前記のテトラカルボン酸類とジアミンとを反応
させることにより得られる。

このポリアミドの製造にに用いることのできる有機溶媒
としては、前記ポリアミドを溶解させるものであれば特
に制限はなく、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、Ｔ−ブチロラクトン、
テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミドな
どの非プロトン系極性溶媒、ｍ−クレゾール、キシレノ
ール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノ
ール系溶媒を挙げることができる。

ポリアミドを合成する際の反応温度は、例えばテトラカ
ルボン酸および核酸のモノアルキルエステル、ジアルキ
ルエステル、トリアルキルエステル、テトラアルキルエ
ステル、および−無水物を原料とする場合には、ジアミ
ンとの縮合を行わせるために、通常、５０〜２５０℃、
好ましくは７０〜２３０℃である。

また、テトラカルボン酸二無水物を原料とする場合には
ジアミンとは付加重合するので、必ずしも高温で反応さ
せる必要はな（、通常は０〜１００℃で反応を行えばよ
い。

本発明に用いられるポリアミドは、前記の合成段階で一
部、または全部が脱水閉環してイミド化していてもよく
、また合成後に化学的または熱的に一部をイミド化させ
たものであってもよい。

本発明に用いられるポリアミドの固有粘度Ｃηｉｎｂ　
＝＝６ｎ　（７７ｒｓｔ　／ｃ）　、ｃ＝０．　５ｇ／
ｄ、３０℃、ジメチルホルムアミド中〕は、通常、０．
０５〜１０ｊ／ｇ、好ましくは０．０５〜５ｄｌ／ｇで
ある。

本発明に使用されるポリアミドの最も好ましい例は、下
記一般式（ｎ）もしくは（ＩＩＩ）で表される繰り返し
構造単位を有するポリアミドである。

（式中、Ｒ１、ＲＺおよびＲ３は、前記に同じ、）特に
、前記一般式（ｎ）または（Ｉ［［）で表される構造単
位のいずれかが、好ましくは５０重量％以上、特に好ま
しくは７５重量％以上有するポリアミドが好適である。

なお、前記一般式（ｎ）および（Ｉ［［）で表される繰
り返し構造単位を有する本発明に好ましく用いられるボ
リア−ミドは、例えば２．３．５−）リカルボキシシク
ロペンチル酢酸類、および必要に応じて２．　３．　５
−１−リカルボキシシクロペンチル酢酸類以外のテトラ
カルボン酸類とジアミンとの反応から製造することがで
きる。

本発明に用いられるポリアミドは、有機溶媒に溶けやす
く、かつ溶液状態でも非常に安定で、長期の保存に対し
ても白濁したり、粘度が変化する現象がみられない。

かかるポリアミドを溶解する有機溶媒としては、前記ポ
リアミドの製造に用いる溶媒と同様の有機溶媒を挙げる
ことができる。

なお、この場合の有機溶媒には、その他一般的有機溶媒
であるアルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル
類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、例えばメチル
アルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、１．４−ブタジジオール、トリエチレ
ングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル
、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエ
チルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エ
チレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール
−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコール−１−プ
ロピルエーテル、エチレングリコール−ｎ−ブチルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレン
グリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジクロ
ルメタン、１．２−ジクロルエタン、１．４−ジクロル
ブタン、トリクロルエタン、クロルベンゼン、Ｏ−ジク
ロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどを、該ポリアミド樹脂を析
出させない程度に混合することができる。

本発明において、ポリアミド溶液を調製するに際しては
、通常、前記ポリアミドを溶媒に溶解し、固形分濃度０
．１〜３０重量％、好ましくは０．５〜１５重量％の溶
液に調製する。

このとき、前記ポリアミドの５重量％溶液の溶液粘度は
、通常、１０〜１００ｃｐｓである。

本発明の液晶表示素子は、例えば次の方法によって製造
することができる。

まず、透明電極を存する基板の電極配線部以外に、前記
ポリアミドの溶液をロールコータ−法、スピンナー法、
印刷法などで塗布し、塗膜を形成させ、この塗膜を２５
０を超える温度から、通常、ポリアミドまたはポリイミ
ドの分解温度である４００℃以下、好ましくは２９０〜
３５０℃で、処理時間を、通常、０．１〜２時間、好ま
しくは０．５〜１時間で熱処理することによって変性さ
せ、液晶配向膜となす。

かくて、本発明において、液晶配向膜は、加熱によるイ
ミド化反応が進行するとともに、一般式Ｎ）中のＲ，Ｃ
０ＯＲ”　、Ｃ０ＯＲ’が分解または架橋することによ
り、従来のポリイミド膜あるいはポリアミド膜とは異な
る性質を有し、プレチルト角の大きい液晶配向膜になる
ものと推定される。この事実は、例えば赤外吸収スペク
トルより、ポリアミドのアミド結合部分およびカルボン
酸部分に起因する１、　　６００〜１．　８００ｃｍ−
’の吸収の変化によって確認することができる。

前記熱処理温度が２５０℃以下では、前記したような塗
膜の変性効果が見られず、一方４００℃を超えるとポリ
アミドの熱分解が著しく進行し、塗膜に着色を生じ、液
晶配向膜として使用できなくなる。

この塗膜の厚さは、通常、ｏ、ｏｉ〜１μｍ、好ましく
は０．０１〜０．５μｍである。

なお、本発明においては、必要に応じて基板と液晶配向
膜との接着性をさらに良好にするために、基板上にあら
かじめアミノ基含有シラン化合物、チタネート化合物な
どを塗布し、基板と液晶配向膜との接着性を高めること
もできる。

また、本発明の液晶表示素子に用いられる基板としては
、フロートガラス、ソーダガラスや可撓性のポリエチレ
ンテレフタレート、ボリプチレンチレフタレートなどの
ポリエステルフィルム、さらにはポリエーテルスルホン
、ポリカーボネート、その他のプラスチックフィルムな
どからなる透明基板を用いることができ、透明電極（電
極）としては、ＳｎＯ，からなるＮＥＳＡ膜、）ｎ、Ｑ
、。

−３ｎＯ□からなるＩＴＯ膜を用いることができ、これ
らの電極のパターニングには、フォト・エツチング法や
、あらかじめマスクを用いる方法が用いられる。

本発明において、かくして得られた液晶配向膜は、ナイ
ロンなどの合成繊維製からなる布を巻きつけたロールで
ラビングを行い、液晶配向処理が施される。

次いで、上述の処理をされた基板と、基板上に液晶配向
膜を有する対極基板電極側の基板とを間隙を有するよう
に周辺部をシール剤でシールし、２枚の基板間に液晶を
充填し、封入口封止剤で封止して液晶表示セルとし、そ
の両面に直交した偏光板を圧着することにより液晶表示
素子とする。

前記シール剤としては、例えばフィラー、硬化剤および
スペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有したエポ
キシ樹脂組成物などを用いることができる。

また、液晶表示素子に用いる液晶゛としては、正の誘電
異方性を持つ液晶であれば特に限定されないが、ネマチ
ック液晶を形成させるものが好ましい。

例えば、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェ
ニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル
系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサ
ン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシ
クロオクタン系液晶、キュパン系液晶などのネマチック
液晶を挙げることができる。これらの液晶は、通常、混
合物として使用されるが、単独で使用してもよい。

さらに、これらの液晶に対して、コレスチルクロリド、
コレステリルノナエート、コレステリルカーボネートな
どのコレステリック液晶や商品名Ｃ−１５、ＣＢ−１５
（英国、ブリティッシュドラックハウス社製）として販
売されているようなカイラル剤などを添加して使用する
こともできる。

また、ＤＯＢＡＭＢＣなどの強誘電性液晶も使用するこ
とができる。

液晶封入口封止剤としては、有機系封止剤と無機系封止
剤とがあり、特に有機系封止剤が低温で操作できるので
好ましい。

基板の外側（液晶セルの外側）に使用される偏光板とし
ては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ
素を吸収させたＨ膜と呼ばれる偏光膜を挟んだ酢酸セル
ロース保護膜からなる偏光板またはＨ膜そのものからな
る偏光板などを挙げることができる。

本発明の液晶表示素子は、使用する液晶を選択すること
により、ＳＢＥ表示、ＴＮ型表示、あるいは強誘電液晶
表示のいずれの表示にも使用することができるが、特に
ＳＢＥ表示に好適に使用することかできる。

特に、本発明の液晶表示素子は、優れた配向性と、信顛
性を有し、直線偏光板、円偏光板などの偏光子、あるい
は反射板とを組み合わせることにより、種々の装置に有
効に使用でき、例えば電子式卓上計算機、腕時計、置時
計、係数表示板、ワードプロセッサー、パーソナルコン
ピューター、液晶テレビなどの表示装置に用いられる。

〔実施例〕

以下、実施例を挙げ本発明をさらに具体的に説明するが
、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。

参考例１ ｐ−フェニレンジアミン１１．９０ｇ　（０，１１モル
）を、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）３２９ｇに溶解
し、かきまぜながら２．３．５−トリカルボキシシクロ
ペンチル酢酸二無水物２４．６７ｇ（０，１１モル）を
加え、室温で３時間反応させてポリアト溶液を得た。得
られたポリアミドのη五ｙ＋ｈ　　（０，５ｇ／ａ、３
０℃、ジメチルホルムアミド このポリアミドをＮＭＰで希釈して５重量％溶液に調製
した。このポリアミド溶液の溶液粘度は、３９ｃｐｓ（
２５℃）であった。

参考例２ ４、４′−ジアミノジフェニルエーテル１８．００ｇ　
（０．０８９９モル）、２．３．５−）リヵルボキシシ
クロペンチル酢酸二無水物２０．１５ｇ（０．０８９９
モル）、およびＮＭＰ３４３ｇを用い、参考例１と同様
に反応を行い、ηｌ，，ｋ（ｏ．５ｇ／ｄｌ，３０℃、
ジメチルホルムアミド中）が、０、６３ｄｌ／ｇのポリ
アミドを得た。

このポリアミドをＮＭＰで希釈して５重量％溶液に調製
した．この溶液の溶液粘度は、４２ｃｐｓ（２５℃）で
あった。

参考例３ ４、４′−ジアミノジフェニルメタン１７．８０ｇ　（
０．０８９９モル）、および２．３．５−トリカルボキ
シシクロペンチル酢酸二無水物２０、１５ｇ　（０．０
８９９モル）　に、γーブチロラクトン３４２ｇを加え
、０℃で３時間反応させて、η轟ｆｉｈ　　（０．５ｇ
／ａ、３０℃、ジメチルホルムアミド中）が、０．７８
ａｊ／ｇのポリアミドを得た。このポリアミドをγーブ
チロラクトンで希釈して５重量％溶液に調製した。この
ポリアミド溶液の溶液粘度は、６０ｃｐｓ　　（２５℃
）であった。

参考例４ １、４−ビスアミノメチルヘキサン２．８４ｇ（０．０
２０モル）　、２．３．５−）リカルボキシシクロペン
チル酢酸二無水物４．４８ｇ（０．０２０モル）、およ
びＮＭＰ２９．３ｇを用い、参考例１と同様に反応を行
い、ηｉ７ゎ（０．　　５　ｇ／ｄ１、３０℃、ジメチ
ルホルムアミド中）が、０．５３ｄ１／ｇのポリアミド
を得た。

このポリアミドをＮＭＰで希釈して５重量％溶液に調製
した。このポリアミド溶液の溶液粘度は、４１ｃｐｓ（
２５℃）であった。

参考例５ ４、４′−ジアミノジフェニルエーテル４．００ｇ　（
０，０２０モル）、シクロペンタンテトラカルボン酸二
無水物４．２０ｇ　（０，０２０モル）、およびＮＭＰ
７３．８ｇを用い、参考例１と同様に反応を行い、ηｉ
、、ｈ　　（０，５ｇ／ａｊ、３０℃、ジメチルホルム
アミド中）が、０．３８ａｊ／ｇのポリアミドを得た。

このポリアミドをＮＭＰで希釈して５重量％溶液に調製
した。このポリアミド溶液の溶液粘度は、３８ｃｐｓ　
　（２５℃）であった。

参考例６ ｐ−フェニレンジアミン２．１６ｇ　（０，０２０モル
）、無水ピロメリット酸４．３６ｇ　（０，０２０モル
）、およびＮＭＰ５８．７ｇを用い、参考例１と同様に
反応を行い、ηｉｎｋ　　（０，５ｇ／ｄＩ、３０℃、
ジメチルホルムアミド中）が、０．６９４ｉ／ｇのポリ
アミドを得た。

このポリアミドをＮＭＰで希釈して５重量％溶液に調製
した。このポリアミド溶液の溶液粘度は、４８ｃｐｓ　
（２５℃）であった。

実施例１〜８、比較例１〜９ 前記各参考例で得られたポリアト溶液を、それぞれ孔径
０．２２μｍのメンブランフィルタ−で濾過し、不溶分
を除去した。

このポリアミド溶液を、ＩＴＯからなる透明電極付きガ
ラス基板上の透明電極面に、スピンナーを用い回転数５
．００Ｏｒｐｍで塗布し、乾燥した後の基板を所定温度
で所定時間、熱処理した。

熱処理後の基板上の熱処理膜を、ナイロン製の布を巻き
つけたロールを有するラビングマシーンにより、ロール
の回転数５０Ｏｒｐｍ、ステージ移動速度ＩＣＩＩ／秒
でラビング処理を行った。

次いで、基板上に直径１７μｍのスペーサー入り接着剤
（三井東圧化学側製、ストラクトボンドＸＮ−５Ａ）を
スクリーン印刷したのち、上下基板をラビング方向が逆
平行になるように圧着した。

次に、所定のＴＮ液晶を注入したのち、注入口を封止し
て液晶表示素子を作製した。

作製した液晶表示素子は、文献（Ｔ、　Ｊ、　５ｃｈｅ
ｆｆｅｒ。

ｅｔ、　ａｌ、、　Ｊ、　Ａｐｐｌ、　Ｐｈｙｓ、、　
４８．１７８３　（１９７７）。

Ｆ、　Ｎａｋａｎｏ、　ｅｔ、　ａｌ、、　ＪＰＮ、　
Ｊ、　Ａｐｐｌ、　Ｐｈｙｓ、、ユ扛２０１３　（１９
８０）　）記載の方法に従い、レーザー光（Ｈｅ−Ｎｅ
）を用いる結晶回転法により、プレチルト角を測定した
。結果を第１表に示す。

また、実施例１および比較例５で熱処理した後のポリア
ミド塗膜の赤外吸収スペクトルを、第１図および第２図
に示す。

（以下余白） ＊）ａ；米国メルク社製、ＺＬＩ−１５６５ｂ；米国メ
ルク社製、ＺＬＩ−２２９３〔発明の効果〕 本発明の液晶表示素子は、基板および（または）透明電
極のパターン上に、特定のポリアミド溶液を塗布し、特
定の温度で熱処理することにより得られる液晶配向膜を
有するものであり、プレチルト角が大きく、特にＳＢＥ
表示素子として有用である。

【図面の簡単な説明】

第１〜２図は熱処理した後のポリアミド塗膜の赤外吸収
スペクトルであり、第１図は実施例１におけるポリアミ
ド塗膜の赤外吸収スペクトル、第２図は比較例５におけ
るポリアミド塗膜の赤外吸収スペクトルである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）液晶配向膜を有する液晶表示素子において、液晶
   配向膜が下記一般式（ I ）で表される繰り返し構造単
   位を有するポリアミドあるいは該ポリアミドから得られ
   るポリイミドを２５０℃を超える温度で熱処理して変性
   した塗膜よりなることを特徴とする液晶表示素子。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・（ I ） （式中、Ｒは４価の脂肪族基または脂環族基、Ｒ＾１は
   ２価の有機基、Ｒ＾２およびＲ＾３は同一または異なっ
   てもよく、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を
   表す。）
2. （２）熱処理温度が２９０〜３５０℃である特許請求の
   範囲第１項記載の液晶表示素子。