JPS63224974A - 光書込み用光学ヘツド - Google Patents

光書込み用光学ヘツド

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JPS63224974A
JPS63224974A JP62058920A JP5892087A JPS63224974A JP S63224974 A JPS63224974 A JP S63224974A JP 62058920 A JP62058920 A JP 62058920A JP 5892087 A JP5892087 A JP 5892087A JP S63224974 A JPS63224974 A JP S63224974A
Authority
JP
Japan
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electrodes
anode
substrate
cathode
auxiliary
Prior art date
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Pending
Application number
JP62058920A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Toyama
遠山 広
Atsushi Takahashi
敦 高橋
Muneyasu Kimura
統安 木村
Hiroshi Furuya
博司 古谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP62058920A priority Critical patent/JPS63224974A/ja
Publication of JPS63224974A publication Critical patent/JPS63224974A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/447Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using arrays of radiation sources
    • B41J2/4476Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using arrays of radiation sources using cathode ray or electron beam tubes

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
  • Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、例えば電子写真型プリンタの光学ヘッドに
用いる、光書込み用光学ヘッドに関する。
(従来の技術) 従来、放電ガスのプラズマ放電発光を表示画素として構
成したプラズマ番ディスプレイ会パネル(以下、FDP
と称す)が゛提案されており、CRT(Cathode
 Ra7 Tube)に換わる二次元表示パネルとして
その研究及び開発が進められている。尚、FDPについ
ては例えば文献(「表示素子。装置最新技術°85年版
」総合技術出版)に詳細な説明が成されている。
FDPは、その駆動方式の相違によりAC型FDP或は
DC型FDPの2種の構造に大別される。AC型及びD
C型FDPは構造り多少の相違を有するが、いずれの構
造でも通常はマトリクス駆動によって放電発光を行なう
点では一致する。
最も典型的な構造のFDPにおいては、複数個のカソー
ド電極を一方の基板上に及び複数個・のアノード電極を
他方の基板上に設けてそれぞれの基板上に平行電極群を
形成し、アノード及びカソード電極が相交差するように
これら電極の形成面側を向かい合わせて一方及び他方の
基板を貼り合せ、これら両店板間に放電ガスの封入領域
を形成する。刺入領域には、放電ガスとして例えば不活
性ガスが任意好適な封入ガス圧で封入される。そして、
各電極に駆動用のドライバがそれぞれ接続される。この
典型的なFDPは、従来提案されている種々のFDPの
中でも構造が簡単で従って製造歩留りも良く、かつ実用
に供して良好な性能を有するものである。
このFDPを駆動する場合、例えばデータ信号を7メー
ド電極のドライバに及び選択信号をカソード電極のドラ
イバに、これら各信号をクロック信号によって同期させ
て入力し、以ってこれら信号によって選択したアノード
及びカソード電極、極が交差し相対向する領域(以下、
この対向領域を発光部と称す)に電圧を印加する。その
結果、選択的に電圧の印加された発光部でガス放電によ
る発光を生じ、この発光に基づいて例えば文字や図形の
表示を行なうことが出来る。
FDPはプラズマ放電発光を二次元表示パネル(画像表
示装に)に利用した例であるが、プラズマ放電発光にお
いては、種々の感光体の波長感度特性に適合する波長帯
域を封入ガスの組成によって選択出来るので、例えば電
子写真型プリンタの光学ヘッドとしてFDPを構成する
と好都合である。
例えば電子写真型プリンタの光学ヘッドを構成する場合
、一般に複数個の発光部を主走査方向に一列に配列させ
るように形成することによって感光体上に二次元的な静
電潜像を形成出来る。このように構成された光学ヘッド
では、まず主走査方向に配列された各発光部を選択的に
発光させて感光体上に1ライン分の静電潜像を形成し1
次に感光体を副走査方向に移動させて再び主走査方向に
1ライン分の静電潜像を形成する。この工程を繰返し行
なえば、感光体に二次元的な静電潜像を形成出来る。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら上述したプラズマ放電発光型の光書込み用
光学ヘッドを構成する場合、従来の典型的なFDPのよ
うに各々別の基板上にアノード及びカソード電極を設け
これら1に極を相対向させて発光部を形成して光学ヘッ
ドを構成するのでは、一方及び他方の基板を相対的に移
動させて位置関係を副筒し以ってアノード及びカソード
電極の位置合せを行なう工程が必要であり、これがため
製造工程が多くなるという問題点があった。
また発光部が主走査方向に一列に形成されるように別基
板上のアノード及びカソード電極を精度良く位置合せす
ることが難しく、これがため製造歩留りの向上を図れな
いという問題点があった。
この発明の目的は、上述した従来の問題点を解決し、従
って歩留りの向上を図れる構造の光書込み用光学ヘッド
を提供することにある。
(問題点を解決するための手段) この目的の達成を図るため、この発明の光書込み用光学
ヘッドは、一方及び他方の基板間に刺入された放電ガス
をプラズマ放電発光させるために設けられた複数個のア
ノード電極及び複数個のカソード電極を具え、複数個の
発光部を主走査方向に一列に配設して成る光書込み用光
学ヘッドにおいて、一方及び他方の基板のいずれか一方
の同一基板上にアノード及びカソード電極を設けた構成
と成っている。
この発明の実施に当り、特にDC型のプラズマ放電発光
を利用する場合には、放電ガスの補助放電用の複数個の
第一補助電極及び複数個の第二補助電極を設け、第一及
び第二補助電極を、アノード及びカソード電極が設けら
れた基板と同一の基板上に設けた構成とするのが好適で
ある。
またこの発明の実施に当り、特にDC型のプラズマ放電
発光を利用する場合には、放電ガスの補助放電用の複数
個の第一補助電極及び複数個の第二補助゛心極を設け、
第一及び第二補助電極を、アノード及びカソード電極が
設けられた基板と別の基板上に設けた構成とするのが好
適である。
(作用) このような構成の光書込み用光学ヘッドによれば、アノ
ード及びカソード電極を同一基板上に設けるので、これ
ら電極を、従来一般に用いられている厚膜印刷技術及び
又は薄膜形成形成技術によって精度良く位置決めされた
状態で同一基板上に形成出来る。
(実施例) 以下、図面を参照してこの発明の実施例につき説明する
。尚、図面はこの発明が理解出来る程度に概略的に示し
であるにすぎず、従って各構成成分の配置関係、形状、
形成材料及び寸法は必ずしも図示例に関するものに限定
されるものではない。
追二]【I倒 第−実施例では、この発明をDCプラズマ発光型の光学
ヘッドに適用した例につき説明する。
く構成のa剛的な説明〉 第1図はこの第一実施例の構成を概略的に示す要部断面
図である。尚、第1図は第3図におけるI−I線に沿っ
て取って示した断面に対応する断面図である。
同図において、11は一方の基板、13は他方の基板、
15はアノード電極及び17はカソード電極を示し、こ
れらアノード電極15及びカソード電極17を、基板1
1及び13のいずれか一方の同−基板上例えば基板11
上に設ける。
19及び21は放電ガスの補助放電用の第一及び第二補
助電極をそれぞれ示し、この実施例では、DCプラズマ
発光の応答特性の向上のため、これら第一補助電極19
(例えば陰極)及び第二補助電極21(例えば陽極)を
設け、しかもこれら補助電極18及び21を、アノード
及びカソード電極15及び17が設けられた基板と同一
の基板111に設ける。
23はパイヤホール層、25は配線及び27は絶縁層を
示し、この実施例では、これらパイヤホール層23、配
!l1j25及び絶縁層27を、カソード電極17及び
基板11面とへ順次に積層形成する。
29はパイヤホール層23が有するバイヤホール及び3
1はパイヤホール29に設けられた接合部を示し、この
実施例では7、カソード電極17の一方の端部及び配線
25が接合部31を介して電気的に接続される。
33は絶縁層及び35は補助放電発光規制層を示し、こ
の実施例では、絶縁層33、補助電極19.21及び発
光規制層35を、アノード電極15及び基板11面上に
順次に積層形成する。補助電極23及び25は共に絶縁
層33の同一面上に設けられる。
また発光規制層35は窓37を有し、この窓を介して補
助電極19及び21の相対向する部分がそれぞれ露出さ
れる。
39a及び39bも窓をそれぞれ示し、この実施例では
、これら窓39a及び39bを介してアノード電極15
及びカソード電極17の相対向する部分がそれぞれ露出
される。窓3θd及び39bは連続するひとっの窓を形
成しており、窓39aはパイヤホール層23及び絶縁層
33によって又窓39bは絶t&層27及び発光規制層
35によって画成されている。
41は隔壁を示し、この実施例では、この隔壁41を絶
縁層27及び発光規制層35にそれぞれ立設する。
基板11及び13は隔壁41を介して気密封着されてお
り、これら基板11.13及び隔壁41の間に画成され
た封入領域43に放電ガスが封入されている。
くアノード及びカソード電極の構成〉 第2図は第一実施例の説明図であり、主としてアノード
及びカソード電極の電極構成を平面的に示した図である
。同図に示すように、この実施例では、1個のアノード
電極15と、この1個のアノード電極15に対し割当て
られた任意好適な複数個のカソード電極17とから成る
電極ブロック45を、主走査方向Pに複数個(例えばM
個)配置する。
アノード電極15は割当てられたカソード電極17のそ
れぞれと対向する対向部15aとこの対向部15aと結
合して延在する延出部15bとから成り、またカソード
電極17は概略直線状の形状に形成されて基板11に設
けられ、よって平行電極群を形成している。
対向部15bとカソード電極17の他方の端部とは任意
好適なギャップAだけ離間されて対向配置され、これら
対向部15b及び他方の端部の間に放電セル(以下、発
光部と称する)が形成される。
カソード電極17の各アノード電極15に対する割当て
個数は任意好適に設定して良く、この実施例では各アノ
ード電極15に対し一定個数(N個)のカソード電極1
7を割当て、MXN個の発光部を主走査方向Pに一列に
配設した構成と成っている。
く第一及び第二補助電極及び配線の構成〉第3図は第一
実施例の説明図であり、主として第一及び第二補助電極
及び配線の構成を平面的に示す図である。同図に示すよ
うに、この実施例では、配線25は各電極ブロック45
毎に1個ずつ選ばれたカソード電極17を共通接続して
おり、電極ブロック45毎に割当てられたカソード電極
17と同一個数のN個の配線25を設ける。尚、接合部
29を図中斜線を付して示す。
補助電極19.21の先端部は任意好適なギャップDだ
け離間させて対向配置され、これら対向する電極19.
21の先端部の間に補助放電セルが形成される。補助放
電セルと発光部とを任意好適な距離だけ離間配置し、補
助放電によって荷電粒子や励起原子を発光部に供給し、
以って発光部のスイッチング特性の向上を図る。
このように構成された光学ヘッドの駆動に当っては1例
えば、データ信号をアノード電極15と接続するドライ
バに及び選択信号をカソード電極17と+1a続するド
ライバに、クロック信号によって同期させて入力し、以
って従来性なわれるマトリクス駆動によって、任意の発
光部の発光を行なえる。尚、光学ヘッドの駆動方法につ
いては従来のマトリクス駆動の他任意好適な駆動方法を
用いて良い。
この実施例では、アノード電極15と接続されるドライ
バがM個及びカソード電極17と接続されるドライバが
N個、従って総個数(M+N)個のドライバで駆動する
ことが出来、光学ヘッドの駆動に要するドライバの個数
の低減を図れる。
く第一実施例の製造工程〉 第4図(A)〜(D)は第一実施例の製造工程であり、
これら各図は第3図におけるI−I線に沿って取った断
面と対応させて示した断面図である。
まず第4図(A)に示すように、基板ll上にアノード
電極15及びカソード電極17を形成する。基板11と
しては例えば光透過率が高く厚みが均一で絶縁性を有す
るガラスを用いるのが好適である。
アノード電極15及びカソード電極17は同一基板ll
上に設けられるため、従来用いられている例えば厚膜印
刷技術によってこれら電極15及び17の位置合せ精度
を向上させることが出来る。従って、光学ヘッドの高精
細化のためアノード及びカソード電極の実装密度を高く
しても実用上充分な位置合せ精度を得ることが出来る。
また従来のように一方及び他方の基板を相対的に移動さ
せて位首合せを行なわなくて済み、従って製造工程の簡
略化を図れる。
以下、例えば厚膜印刷技術によって各構成成分を形成す
る。
次に第4図(B)に示すように、カソード電極17及び
基板11面を部分的に被覆するパイヤホール層23を形
成し、これと共にアノード電極15及び基板11面を部
分的に被覆する絶縁層33を形成する。これら層23及
び33はそれぞれ絶縁材料例えばガラスから成る。
パイヤホール層23及び絶縁層33の形成に九っては、
バイヤホール28を介してカソード電極17の一方の端
部を露出させ、また窓38aを介してカソード電極17
の他方の端部と、アノード電極15の対向部15aと、
これらカソード電極17の他方の端部及び対向部15a
の間の基板11面とを露出させる。
放電時の荷電粒子による衝撃からの保護及び電気的絶縁
のため、アノード電極15は絶縁層33によって及びカ
ソード電極17はパイヤホール層23によって被覆され
る。
次に第4図(C)に示すように、導電性材料から成る接
合部31を7へイヤホール29に及び導電性材料から成
る配線25をパイヤホール層23上に形成し、これと共
に補助電極19及び21を絶縁層331に形成する。
n膜印刷技術によれば、配線25の形成と同時にパイヤ
ホール28に厚膜材料が流れ込み、よって一度の印刷で
配線25及び接合部31を同時に形成出来る。尚、バイ
ヤホール29の深さが深いため厚膜材料の流れ込みが悪
く、従って一度の印刷でパイヤホール29に厚膜材料を
充満させることの出来ない場合には、印刷を繰り返し行
なう(例えば二回繰り返す)ことによって厚膜材料をパ
イヤホール23に充満させれば良い。
配線25及びカソード電極17は接合部31を介して電
気的に接続され、しかも配線25及びカソード電極17
間の導通経路は接合部31においてのみ形成される。
次に第4図(D)に示すように、絶縁層27を形成し、
この絶縁層27によってパイヤホール層23及び配線2
5を被覆して配線25の荷電粒子の衝撃からの保護及び
電気的絶縁を行なう。
これと共に補助放電セルの発光領域を規制するための発
光規制層35を、絶縁層33及び補助電極13.21上
に形成し、この発光規制層35によって絶縁層33及び
補助電極19.21を被覆する。
この際、補助電極19.21の相対向する先端部分は窓
37を介して露出される。また窓39bが窓39aと連
続して形成され、これら窓39a及び39bを介して、
相対向するアノード電極15の対向部15a及びカソー
ド電極17の他方の端部がそれぞれ露出される。
尚、電極15.17.19及び21は設計に応じて任意
好適に露出させれば良い。
次に第1図に示すように、隔壁41を、絶縁層27及び
発光規制層35上の任意好適位置にそれぞれ形成する。
この際、少なくともアノード電極15、カソード電極1
7、補助電極19及び21の露出部分は、発光規制層3
5及び絶縁層27のそれぞれの隔壁41の間に配設され
る。
その後、他方の基板13例えば気密性の良好なガラス基
板或はセラミクス基板を、隔壁41を介して基板11と
気密封着し、以って封入領域43を画成する。その後、
封入領域43内を真空排気し、放電ガスを封じ込める。
基板13には図示しない封入口が設けられており、従っ
て放電ガスは封入口を介して封入領域43内に封入され
、その後封入口が封止され、よって所要の光学ヘッドを
得る。尚、アノード電極15、配線25.補助電極19
及び21はプラズマ発光の系の外部すなわち封入領域4
3の外側に取出されて駆動用のドライバを含む外部電気
回路とそれぞれ接続される。
このように構成された光学ヘッドにおいては、補助電極
【9及び2Iの間にDC的に高電圧が印加され、これら
電極19及び211′lIIの補助放電セルにおいて、
放電ガスが励起されプラズマ発光する。アノード電極1
5及びカソード電極17間の発□光部に補助放電セルで
励起された放電ガスが供給され、その結果発光部の応答
特性が向上する。
アノード電極15及びカソード電極17間に選択的に高
電圧を印加することによって各発光部をそれぞれ選択的
に発光させることが出来る。
この実施例では、アノード電極15及びカソード電極1
7(第4図(A)参照)を同一工程で、パイヤホール層
23及び絶縁層33(第4図(B)参照)を同一工程で
、配線25、補助電極19及び21(第4図(C) 参
照)を同一工程で、さらに絶縁層27及び発光規制層3
5(第4図(D)をそれぞれ同一工程で形成することが
出来、製造工程の簡略化を図れ製造歩留りの向上を期待
出来る。
(変形例) 第5図は第一実施例の変形例の構成を概略的に示す、第
1図と同様の要部断面図である。尚、第一実施例の構成
成分と対応する構成成分については同一の符号を付して
示し、その詳細な説明を省略する。
第5図及び第3図に示すように、1個のアノード電極1
5に対し割当てられるカソード電極17の個数が多く、
従って隣接するアノード電極15の延出部15b同志の
間に補助電極19及び21の配設スペースを確保出来る
場合には、電極15.17.19及び21を同一工程で
基板11の同一基板面上に形成しても良い。
第5図において、47は絶縁層及び48はこの絶縁層4
7が有する窓を示す。
この変形例では、電極15.17.19及び21を基板
11の同一基板面上に設け、これら電極15.17.1
9.21上及び基板11面上に発光規制層35を設け、
さらに発光規制層35上に絶縁層47を設ける。絶縁層
47の窓48及び発光規制層35の窓37は連続するひ
とつの窓を形成しており、その結果補助電極19及び2
1の相対向する先端部がこれら窓37及び48を介し露
出される。
カソード電極17及び基板11面上には、第一実施例と
同様、パイヤホール層23、配線25及び絶縁層27が
順次に積層形成されている。
また51a及び51bは窓を示し、この変形例では、こ
れら窓51a及び51bから連続するひとつの窓を形成
し、これら窓51a及び51bを介して相対向するアノ
ード電極15の対向部15a及びカソード電極17の他
方の端部を露出させる。
この変形例の窓51aはパイヤホール層23及び発光規
制層35によって画成され及び窓51bは絶縁層27及
び47によって画成される。
第6図(A)〜(D)は第4図(A)〜(D)と同様に
示すこの変形例の製造工程図である。尚、第一実施例と
対応する構成成分については同一の符号を付して示し、
その詳細な説明を省略する。
まず第6図(A)に示すように、基板11の同一基板面
上に電極15.17.19及び21を形成する。
次に第6図(B)に示すように、パイヤホール層23を
形成しカソード電極15及び基板11面を部分的に被覆
する。
これと共に発光規制層35を形成し補助電極13゜21
、アノード電極15及び基板11面を部分的に被覆する
。補助電極19及び21の先端部は窓37を介して露出
される。
また形成したパイヤホール層23及び発光規制層35に
よって窓51aが画成され、この窓51aを介し対向部
15a及びカソード電極17の他方の端部が露出される
次に第6図(C)に示すように、接合部31をパイヤホ
ール29に形成し及び配線25をバイヤホール層23上
に形成する。
次に第6図(D)に示すように、パイヤホール層23及
び配線25を被覆する絶縁層27を積層形成する。
これと共に発光規制層35上にも絶縁層47を積層形成
する。この際、発光規制層35の窓37及び絶縁層47
の窓49によってひとつの窓が形成される。
また形成された絶縁層27及び47によって窓51bが
画成され、この窓51孕及び51bによってひとつの窓
が形成される。
次に第5図に示すように、絶縁層27及び発光規制層4
7上の任意好適位置に隔壁41を形成し、その後隔壁4
1を介し基板13及び11を気密封前し、よって所要の
光学ヘッドを得る。
この変形例では、電極15.17.19及び21(第6
図(A)参照)を同一工程で、パイヤホール層23及び
発光規制層35(第6図(B) 参照)を同一工程で、
絶縁層27及び47(第6図(D)参照)を同一工程で
それぞれ形成することが出来、製造工程の簡略化を図れ
製造歩留りの向上を期待出来る。
第二実施例 第二実施例でも、第一実施例と同様、この発明をDCプ
ラズマ発光型の光学ヘッドに適用した例につき説明する
第7図は第二実施例の構成を概略的に示す、第1図と同
様の要部断面図である。尚、第一実施例の構成成分と対
応する構成成分については同一の符号を利して示し、そ
の詳細な説明を省略する。
第7図に示すように、この実施例では、第一補助電極1
9及び第二補助i「極21を、アノード電極15及びカ
ソード電極17が設けられた基板11と別の基板13上
に設ける。
第7図において、53は補助放電発光規制層(以下、単
に発光規制層と称する)及び55はこの絶縁層53が有
する窓を示す。
この実施例では、基板11に補助電極19及び21を設
け、これら電極19.21及び基板13面を部分的に被
覆する発光規制層53を設ける。補助電極19及び21
の相対向する先端部とこれら先端部間の基板13面は窓
55を介して露出される。
57は絶縁層及び59は窓を示し、この実施例では絶縁
層33」二に絶縁層57を設け、この絶縁層57上の任
意好適位置に隔壁41を設ける。基板11及び13は絶
縁層27及び57の隔壁41を介し気密封着される。
窓59は絶縁層27及び57によって画成され、この窓
59及び39aによって連続したひとつの窓を形成し、
これら窓59及び39aを介してアノード電極15の対
向部15a及びカソード電極17の他方の端部を露出す
る。
次に第二実施例の製造工程につき説明する。第8図(A
)〜(B)は第二実施例の製造工程の工程段階を示す、
第4図(A)〜(D)と同様の断面図である。
この実施例でも、各構成成分の形成を例えば厚1模印刷
技術によって行なう。
まず第一実施例と同様、基板IIとにアノード電極15
及びカソード電極17を形成しく第4図(A)参照)、
その後パイヤホール層23及び絶縁層33を形成し、窓
39aを画成する(第4図(B)参照)。
次に第8図(A)に示すように、バイヤホール31に接
合部31を形成し及びパイヤホール層23上に配線25
を形成する。
次に第8図(B)に示すように、パイヤホール層23及
び配線25を被覆する絶縁層27を形成し、これと共に
絶縁層33上に絶縁層57を形成する。
形成した絶縁層27及び57によって窓59を画成し、
よってこの!!59と窓39aとを介しアノード電極1
5の対向部15a及びカソード電極17の他方の端部を
露出させる。
次に第7図に示すように、絶縁層27及び57上にそれ
ぞれ隔壁41を形成する。窓39a及び59はこれら隔
壁41の間に配設される。
一方、基板13上に補助電極19及び21を形成し、そ
の後発光規制層53を形成して補助電極18.21及び
基板13面を被覆する。
その後、電極15.17.19.21が封入領域41内
に配設されるように基板11及び13を位置合せした状
態で、基板11及び13を隔壁41を介して気密封着し
所要の光学ヘッドを得る。
この実施例では、電極15.17.19.21が封入領
域41内に配設されるように基板11及び13を位置合
せしなければならないが、この位置合せに要求される位
置合せ精度は、従来のようにアノード及びカソード電極
をそれぞれ別基板に設けた場合よりもはるかに容易に行
なえる。
また第一実施例では、電極15.17.19.21を同
一の基板11に設けたため(第1図参照)絶縁層33に
ピンホールが生じないように又光学ヘッド駆動時の電界
に対する絶縁層33の強度を実用玉充分に確保しなけれ
ばならなかったが、この第二実施例では、電極18及び
21を電極15及び17を設けた基板11と別の基板1
3に設けるため、第一実施例のようなピンホール及び電
界強度に対する考慮をしなくとも良く、従って設計及び
製造工程の簡単化が図れるという利点がある。
この発明は上述した実施例にのみ限定されるものではな
く、従って各構成成分の配置関係、形状及び寸法その他
の設計条件は設計に応じて任意好適に変更することが出
来る。
この発明は、DCプラズマ発光型及びACプラズマ発光
型いずれの光学ヘッドに適用しても良い。
またアノード及びカソード電極の構成は、同一基板上に
設けられているのであれば、それらの形状及び配置関係
はどのように構成しても良いし、第一及び第二補助電極
は必ずしも設ける必要はない。
またアノード及びカソード電極、配線、絶縁層その他の
各構成成分の配置関係は任意好適に変更して良く、従っ
て配置関係の変更に応じて各構成成分の製造工程も変更
することが出来る。
また各構成成分の形成は従来用いられている厚膜印刷技
術及び又は薄膜形成技術によって行なって良い。
(発明の効果) 上述した説明からも明らかなように、この発明の光書込
み用光学ヘッドによれば、アノード及びカソード電極を
同一基板に設けるので、製造工程の簡略化を図れ、また
製造精度特にアノード及びカソード電極の位置合せ精度
の向上を図れる。
従ってプラズマ発光型の光学ヘッドの歩留り向上を図れ
、延いては低価格化を図れる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第一実施例の構成を示す要部断面図
。 第2図はこの発明の第一実施例の構成を示す要部平面図
、 第3図はこの発明の第一実施例の構成を示す要部平面図
、 第4図(A)〜(D)はこの発明の第一実施例の製造工
程図、 第5図はこの発明の第一実施例の変形例の構成を示す要
部断面図、 第6図(A)〜(D)はこの発明の第一実施例の変形例
の製造工程図、 第7図はこの発明の第二実施例の構成を示す要部断面図
、 第8図はこの発明の第二実施例の製造工程の説明に供す
る断面図である。 11、13・・・基板、    15・・・アノード電
極17・・・カソード電極、 19.21・・・補助電
極。 特許出願人   沖電気工業株式会社 tt、t、y纂x反          24 : ハ
’ 4 Y /Tl −ル15゛アノード4E7rJ!
!     Jf、挿含音P17  ・カソード電極 
   35°発yt填到漕14.2f   :  fi
’14ra            77.31/cl
、iq’p’j;i23  、バA”C’W、−ルfi
     If: ア山す!25、紅韓       
7J:幇入jしへ27.3j:乾棒層 第−集光41゛)のキ却断酌困 第1図 σ 45  ミオ釘7’Dヅク # −夷* ろJ’l f) +’b? +ffD T
n第2図 hト N\ 第 −づ(1乞4iツ の り弘痘ニオ’4’m第4図 47  屁腸漕 4(/ 、fld、 5fb :”兄・復升多分門の蚤
音?漣な命国 第5図 42 升多 う枦1 の 1! 髪L ゴニ燥m第6図 fJ −、ち九メ見剰漕 55.59: 危。 り7°矩#漕 メ二爽施勃゛)の1舒断面の 第7図 第;輿坪イダjOV遭−オh7テ、孝断勤囮第8図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一方及び他方の基板間に封入された放電ガスをプ
    ラズマ放電発光させるために設けられた複数個のアノー
    ド電極及び複数個のカソード電極を具え、複数個の発光
    部を主走査方向に一列に配設して成る光書込み用光学ヘ
    ッドにおいて、 一方及び他方の基板のいずれか一方の同一基板上にアノ
    ード及びカソード電極を設けて成ることを特徴とする光
    書込み用光学ヘッド。
  2. (2)放電ガスの補助放電用の複数個の第一補助電極及
    び複数個の第二補助電極を設け、 第一及び第二補助電極を、アノード及びカソード電極が
    設けられた基板と同一の基板上に設けて成ることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項に記載の光書込み用光学ヘ
    ッド。
  3. (3)放電ガスの補助放電用の複数個の第一補助電極及
    び複数個の第二補助電極を設け、 第一及び第二補助電極を、アノード及びカソード電極が
    設けられた基板と別の基板上に設けて成ることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項に記載の光書込み用光学ヘッ
    ド。
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