JPS63217376A

JPS63217376A - 現像剤供与部材

Info

Publication number: JPS63217376A
Application number: JP5179287A
Authority: JP
Inventors: Toshiya Natsuhara; 敏哉夏原; Mochikiyo Osawa; 大澤　以清
Original assignee: Minolta Co Ltd
Current assignee: Minolta Co Ltd
Priority date: 1987-03-05
Filing date: 1987-03-05
Publication date: 1988-09-09

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は現像剤供与部材、特に、電子写真複写機の現体
器における現像剤供与部材に関する。

従来の技術カールソン法に代表されるごとく、一般に、電子写真複
写法においては、光導電性を有する感光体上に帯電およ
び露光工程により静電潜像を形成し、その後、トナーと
キャリアとからなる二成分系現像剤あるいはトナーだけ
からなる一成分系現像剤を回転可能な現像剤供与部材周
面上に保持し、これを前記静電潜像に接触せしめ、トナ
ー像として顕像化する現像工程が用いられる。従来より
これらの現像方法における問題点の一つとしていわゆる
カブリ現象があることは周知の事実である。

これは静電潜像形成工程において感光体上露光部の電荷
が完全に消滅しない状態で現像を行なうために残留電荷
によりトナーが静電的に付着し、その結果、複写物が全
体的に汚れた状態を呈する現象をいう。この様な問題を
解決するために、現像バイアス印加法が常用されている
。

現像バイアス法とは、現像に際して感光体上の露光部の
有する残留電位と同極性で、かつ、それ以上の直流電圧
を現像剤供与部材側に設けた電極に印加せしめると共に
、この電極の対向電極となるべき前記感光体もしくは感
光体を構成するための一要素である導電性支持体を接地
に保って両者間に電界を形成せしめ、前記感光体の露光
部の有する帯電極性と印加バイアス電圧極性との反撥作
用を利用して、前記露光部へのトナー付着を防止する方
法である。上述したものは、感光体上に形成された静電
潜像と逆極性の電荷を持つトナーによって現像動作を行
なう正規現像に関するものであるが、潜像と同極性の電
荷を持つトナーを使用する反転現像の場合においても、
極性あるいは電位量等に差異はあるものの、同様の手法
によりバイアス電圧が印加される。この現像バイアス印
加法は、カブリ現象を防止するためには有効な方法では
あるが、反面それに付随して新たな問題を引き起こす。

例えば、前記現像剤供与部材側電極及び前記感光体側電
極間が電気的にリークした場合、現像バイアスの低減に
よるカブリ現象を生じせしめることがある。このような
電気的リークの発生要因には幾つかのものが挙げられる
が、例えば、二成分現像の場合において現像剤のキャリ
アとして常用される磁性体粒子が感光体層を貫通し、導
電性基板にまで達したような場合に発生する。この現象
は感光体が低硬度な時しばしば発生するが、特に、最近
進歩が著しい有機感光体は、硬度が低いため問題となる
。また、感光体上に往々にして発生する感光層のいわゆ
るピンホール状の欠陥部においても、二成分現像ではキ
ャリアとして常用される磁性体粒子と感光体の導電性基
板とが接触した場合、また、−成分現像では前記現像剤
供与部材側電極と感光体の導電性基板とが直接接触した
場合に発生する。このような現象に基づくいわゆるバイ
アス落ちは、リークが発生した部分のみならずリーク発
生時に現像剤と感光体が接している部分全体に影響が及
ぶため、実用の複写機においては画像上に帯状のカブリ
が発生し、リーク発生自体はわずかの欠陥部位における
現象であるにもがかわらず画像品位を著しく損なう。

一方、−成分現像の場合においては静電潜俄の極性並び
に正規現像か反転現像かの種別に応じて現像前にトナー
を所定の極性に帯電させる必要があり、例えば、トナー
と摩擦帯電序列において隔たっている摩擦帯電ブレード
を使用する方法や、コロナ帯電器によりトナーを帯電き
せる方法や、バイアス電圧の印加された金属ブレードを
トナーと接触させてトナーに電荷を付与して帯電きせる
方法等が考えられている。しかしながら、摩擦帯電ブレ
ード方法はトナーの帯電量が不充分なため高速現像には
適ざないとか、充分にトナーを帯電きせるために多数の
摩擦帯電ブレードを配置しなければならないという開国
があった。コロナ放電器による方法は、コロナ帯電時ト
ナーが電界の作用で飛散したり、トナ一層の内部まで充
分に帯電しない等の問題を有していた。また、金属ブレ
ードによる電荷付与方法は、上述の間層は少ないものの
、現像剤供与部材を導電性にして金属ブレードと現像剤
供与部材との間に電位差を形成し、この間を通過するト
ナーを帯電させるため、現像時、現像剤供与部材による
電極効果が効き過ぎてエツジ効果がでないという現象が
生ずる。即ち、〒成分トナーを用いる現像においては、
現像剤供与部材上のトナ一層厚は、高々５０μｍである
ため、静電潜像面と現像剤供与部材表面とがトナーＦ！
Ｊ厚以下に接近するため極めて大きな電極効果が生じ、
従って、階調性が悪く、低濃度原稿の再現性が悪いとい
った問題があった。

これらの間誼点を解決するために現像剤供与部材に高抵
抗層或は高硬度層を被覆する手法がある。

即ち、感光体と現像剤供与部材との間に常に一定の抵抗
層を介在きせる事によって、前述した如きいわゆるバイ
アス落ち、帯電量不足あるいは過大な電極効果を防止し
ようとするものである。

例えば、特開昭５１−６７３０号公報には、エンドレス
部材表面にアルマイト処理による高抵抗層、あるいは、
珪素樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリビニールブチ
ラール樹脂等による被覆層を設けた電子写真複写法にお
ける現像方法が開示されている。また、特開昭５５−４
６７６８号公報には、現像剤供与部材に体積固有抵抗率
が１０８Ωｃｍ乃至１０１５ｃｍのシリコンゴム、ネオ
ブレンゴム、ニトリルゴム等による表面層を約５ｍｍ設
けた静電潜像現像装置が開示されている。

発明が解決しようとする４題点前述した如きバイアス落ち、帯電量不足あるいは過大な
電極効果による画像品位の低減を解決するために現像剤
供与部材に被覆層を設ける技術において、この被覆層は
相応の高抵抗を有する必要がある。また、この被覆層は
、複写機内での実使用時にしばしば発生する現像剤によ
る汚染あるいは他部材との接触摩耗による傷を発生しな
いように、現像剤との融着性が低くかつ高硬度な材料で
ある必要がある。また、この被覆層は、現像剤供与部材
上に設けられた被覆層全域にわたっていわゆる抵抗値の
ムラを有さず、さらにこの被覆層と前記感光体との間の
いわゆる現像ギャップを一定に保つために、均質で均等
な膜厚を有する膜でなくてはならない。しかしながら、
従来例は、必ずしもこれらの性能を充分に満足するもの
とはいえず、より高性能な被覆層材料が必要とされてい
た。

本発明は、これらの問題点を全て解消すると共に、従来
とは全く材料も製法も異なる被覆層を有する現像剤供与
部材を提供しようとするものである。

問題７１．を　°するための　段即ち、本発明は、フルオロアルキルシランガスの真空中
グロー放電分解法から生成されるプラズマ重合膜により
被覆されたことを特徴とする現像剤供与部材に関する。

本発明におけるプラズマ重合膜の作製には、少なくとも
一種類のフルオロアルキルシランが用いられる。フルオ
ロアルキルシランとしては、例えば、ＣＦ　３ＣＨ２Ｃ
Ｈ２Ｓ　ｉ　（ＱＣＨ３）３、ＣＦ　３ＣＨ２ＣＨ２Ｓ
　ｉ　Ｃ１３、ＣＦ３（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣ
１３、ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓ　１（ＯＣＨ
３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣ１３、
ＣＦ　３（ＣＦ　２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）
３、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓ　　ｉ　　ＣＨ
３Ｃｌ　　２、　ＣＦ　３（ＣＦ　２）７Ｃ８２ＣＨ２
Ｓ　ｉ　（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）３、等が挙ケラレル。

これらの有機化合物の相状態は常温常圧において液体ま
たは固体であるが、加熱あるいは減圧等により容易に融
解を経て気化でき、従って本発明におけるプラズマ重合
反応はプラズマＣＶＤの常法を用いて容易に行なうこと
が可能である。即ち、気相状態にある少なくとも一種類
のフルオロアルキルシランを減圧下で放電分解し、発生
したプラズマ雰囲気中に含まれる活性中性種あるいは荷
電極を基板上に拡散、電気力、あるいは磁気力等により
誘導し、基板上での再結合反応により固相として堆積き
せる、いわゆるプラズマＣＶＤ反応から重合生成される
。

これらの有機化合物ガスは、プラズマＣＶＤ反応におけ
る放電安定性、成膜安定性、あるいは、ガス供給安定性
等を保つために、例えば、水素、ヘリウム、アルゴン、
あるいは、キセノン等のキャリアガスと混合して用いる
ことができる。

また、これらの有機化合物ガスは、作製されるプラズマ
重合膜の電気的特性を調整するために、例えば、周期律
表第１ＩＩ族に属する原子を含むガス、周期律表第■族
に属する原子を含むガス、アルカリ金属原子を含むガス
、あるいは、ハロゲン原子を含むガスと混合して用いる
ことができる。

本発明におけるプラズマ重合膜の膜厚は、１μｍ乃至２
ｍｍ％好ましくは１０μｍ乃至１ｍｍ。

最適には１００μｍ乃至５００μｍとすることが好まし
い。膜厚が１μｍより薄いと必要とされる抵抗値が必ず
しも確保されなくなり、また、＃摩耗性が低下し好まし
くない。膜厚が２ｍｍより厚いと生産性の面で好ましく
ない。また、このプラズマ重合膜の堆積速度は、０．０
１μｍ／分乃至５０μｍ／分とすることが好ましい。堆
積速度が０．０１μｍ／分より低いと、生産性の面で好
ましくない。堆積速度が５０μｍ／分より高いとプラズ
マ重合膜の成膜性が低下し、いわゆる荒れた膜となり基
板表面の被覆性が低下し好ましくない。

このプラズマ重合膜の膜厚は、成膜時間の調整により容
易に制御可能である。また、このプラズマ重合膜の堆積
速度は、使用するプラズマＣＶＤ装置の形態により制御
量の差異はあるが、堆積速度を高くするには、例えば、
前記有機化合物の流量を増やす、印加電力を大きくする
、印加電力の周波数を低くする、基板温度を低くする等
の手段、あるいはこれらの手段の組合せを用いることに
より容易に制御可能である。

また本発明におけるプラズマ重合膜中に含有される弗素
原子の量は０．１乃至３５原子％、好ましくは２乃至３
０原子％、最適には１０乃至２５原子％とすることが好
ましい。弗素原子の含有量が０．１原子％より少ないと
現像剤による汚染あるいは他部材との接触摩耗による傷
が発生しやすくなり耐久性の面で好ましくない。弗素原
子の含有量が３５原子％より多いと前記帯電量の低下を
招き好ましくない。

また、本発明における現像剤供与部材の形状は、製法的
にも実用的にも特に限定を受けるものではなく、例えば
円筒形状あるいはベルト形状等を有することができる。

次に、本発明について図面を参照しながら説明する。こ
こでは、本発明における現像剤供与部材の形状として円
筒形状を用′いて説明するが、他の形状についても同様
にして本発明における現像剤供与部材を得ることができ
る。

第１図は、本発明における現像剤供与部材の植成を示し
、図中（１）は現像剤供与部材、（２）はバイアス印加
電極となりうる導電性円筒形部材、（３）はプラズマ重
合膜からなる被覆層である。

第２図は、本発明における現像剤供与部材を搭載した二
成分用現像装置の一例を示し、図中（１１）は現像器、
（１２）は現像剤供与部材、（１３）は現像剤、（１４
）はバイアス印加電源である。

現像剤（１３）中のトナーは１．キ↑リアと混合・攪拌
されることによって摩擦帯電され、磁石を内蔵した現像
剤供与部材（１２）上に磁気力によってキャリアととも
に磁気ブラシを形成し、現像剤供与部材（１２）の回転
によって感光体対向面（現像領域）まで移動される。

第３図は、本発明における現像剤供与部材を搭載した一
成分用現像装置の一例を示し、図中（２１）は現像器、
（２２）は現像剤供与部材、（２３）は現像剤、（２４
）はバイアス印加電源、（２５）は規制部材である。

現像剤（２３）は現像剤供与部材（２２）の回転に伴っ
て移動し、規制部材（２５）と現像剤供与部材（２２）
との間隙を規制部材（２５）の圧接力に抗して通過する
ときに摩擦帯電される。それと同時に現像剤供与部材（
２２）上にトナー薄層が形成されて、感光体対向面（現
像領域）まで移動される。

第４図は本発明に係わる現像剤供与部材の被覆層製造装
置を示し、図中（７０１）乃至（７０６）は常温におい
て気相状態にある原料化合物およびキャリアガスを密封
した第１乃至第６タンクで、各々のタンクは第１乃至第
６調節弁（７０７）乃至（７１２）と第１乃至第６流量
制御器（７１３）乃至（７１８）に接続されている。図
中（７１９）乃至（７２１）は常温において液相または
固相状態にある原料化合物を封入した第１乃至第３容器
で、各々の容器は気化のため第１乃至第３温調器（７２
２）乃至（７２４）により与熱可能であり、さらに各々
の容器は第７乃至第９調節弁（７２５）乃至（７２７）
と第７乃至第９流量制御器（７２８）乃至（７３０）に
接続されている。これらのガスは混合器（７３１）で混
合された後、主管（７３２）を介して反応室（７３３）
に送り込まれる。途中の配管は、常温において液相また
は固相状態にあった原料化合物が気化したガスが、途中
で凝結しないように、適宜配置された配管加熱器（７３
４）により、与熱可能とされている。反応室内には接地
電極（７３５）と電力印加電極（７３６）が対向して設
置され、各々の電極は電極加熱器（７３７）により与熱
可能とされている。

電力印加電極（７３６）には、泗周波電力用整合蕃（７
３８）を介して高周波電源（７３９）、低周波電力用整
合器（７４０）を介して低周波電源（７４１）、ローパ
スフィルタ（７４２）を介して直流電源（７４３）が接
続されており、接続選択スイッチ（７４４）により周波
数の異なる電力が印加可能とされている。反応室（７３
３）内の圧力は圧力制御弁（７４５）により調整可能で
あり、反応室（７３３）内の減圧は、排気系選択弁（７
４６）を介して、拡散ポンプ（７４７）　、油回転ポン
プ（７４８）　、あるいは、冷却除外装置（７４９）　
、メカニカルブースターポンプ（７５０）、油回転ポン
プ（７４８）により行なわれる。

排ガスについては、ざらに適当な除外装置（７５３）に
より安全無害化した後、大気中に排気される。これら排
気系配管についても、常温において液相または固相状態
にあった原料化合物が気化したガスが、途中で凝結しな
いように、適宜配置された配管加熱器（７３４）により
、与熱可能とされている。反応室（７３３）も同様の理
由から反応室加熱器（７５１）により与島可能とされ、
その内部には、接地電極（７３５）を兼ｆａた導電性円
筒形部材が基板（７５２）として設置され、内側には電
極加熱器（７３７−）が配されている。基板（７５２）
周囲には同じく円筒形状をした電力印加電極（７３６）
が配され、外側には電極加熱器（７３７）が配されてい
る。基板（７５２）は、外部より駆動モータ（７５４）
を用いて自転可能となっている。

本発明に係わる現像剤供与部材の被覆層の製造において
は、適当な基板搬送装置およびゲートバルブ等を用いて
プラズマＣＶＤ工程を真空を破らずに連続して行なえる
様にしてもよい。また、そうする事により、真空外へ基
板を取り出した時の基板及び装置に対する種々のコンタ
ミネーションを防止でき、本発明現像剤供与部材の作製
を安定した条件下で行なえる様になり好ましい。

第４図に示した本発明に係わる現像剤供与部材の被覆層
製造装置において、反応室は拡散ポンプにより予め１０
−４乃至１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程度にまで減圧し、真空度の
確認と装置内部に吸着したガスの脱離を行なう。同時に
電極加熱器により、電極並びに電極に装着された基板を
所定の温度まで昇温する。次いで、第１乃至第６タンク
及び第１乃至第３容器から、原料ガスを適宜第１乃至第
９流量制御器を用いて定流量化しながら反応室内に導入
し、圧力調節弁により反応室内を一定の減圧状態に保つ
。ガス流量が安定化した後、接続選択スイッチにより、
例えば低周波電源を選択し、電力印加電極に低周波電力
を投入する。両電極間には放電が開始きれ、時間と共に
基板上に両相の膜が形成される。反応時間により膜厚を
制御し、所定の膜厚並びに積層構成に達したところで放
電を停止し、本発明現像剤供与部材を得る。次いで、第
１乃至第９調佃弁を閉じ、反応室内を充分に排気し、最
後に、真空を破り基板を取り出す。

以下実施例を挙げながら、本発明を説明する。

実施例１現像剤供与部材の被覆層製造装置を用いて、第１図に示
す現像剤供与部材を作製した。

第４図に示す現像剤供与部材の被覆層製造装置において
、まず、反応室（７３３）の内部を１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程
度の高真空にした後、第７調節弁（７２５）を解放し、
第１容器（７１９）よりＣＦ　３（ＣＦ２）５ＣＨ２Ｓ
ｉ（ＯＣＨ３）３ガスを第１温調器（７２２）温度８０
℃の下で、第７流量制御器（７２８）内へ流入させた。

モして流量制御器の目盛を調整して、ＣＦ３（ＣＦ２）
５ＣＨ２Ｓ　ｉ　（ＯＣＨ３）３ガスの流量を１８ｓｅ
ｃｍとなるように設定して、主管（７３２）より反応室
（７３３）内へ流入した。流量が安定した後に、反応室
（７３３）内の圧力が０．２Ｔｏｒｒとなるように圧力
調節弁（７４５）を調整した。一方、基板（７５２）と
しては、直径２２×長さ３３０ｍｍの円筒形アルミニウ
ム基板を用いて予め９０℃に加熱しておき、ガス流量お
よび圧力が安定した状態で、予め接続選択スイッチ（７
４４）により接続しておいた低周波電源（７４１）を投
入し、電力印加電極（７３６）に１０５Ｗａｔｔの電力
を周波数３０ＫＨｚの下で印加して約３０分間プラズマ
重合反応を行ない、基板（７５２）上に厚さ１００μｍ
のプラズマ重合膜を形成した。成膜完了後は、電力印加
を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を充分に
排気した。

以上のようにして得られたプラズマ重合膜につき元素分
析を行なったところ、全構成原子に対し含有される水素
原子の量は２７原子％、弗累原子の量は２５原子％、酸
素原子の量は２．５原子％、珪素原子の量は２．４原子
％であった。

得られた現像剤供与部材の性能を評価するために、本実
施例１で得られた現像剤供与部材を搭載した第２図に示
す如き二成分用現像装置を備えたＥＰ４７０Ｚ　（ミノ
ルタカメラ（ｌ■製）を用いて、常用のカールソンプロ
セス内にて、いわゆるバイアス落ちに関する実写評価を
行なった。感光体としては感光層に意図的にピンホール
を設け、その部分の基板を露出させた有機感光体を用い
、現像方式は正規現像とした。

まず、常用のコロナ放電により感光体表面を一７００Ｖ
に帯電した後、感光体全面に露光を行ない表面電位を一
５０Ｖにまで減衰させた。次いで、本実施例１で得られ
た現像剤供与部材を搭載した現像装置により一１５０Ｖ
のバイアス電位を印加しながら感光体表面を現像した後
、トナー像を転写紙上に転写、定着した。感光体の除電
、清掃を行なった後、本プロセスを１０００回繰り返し
た。

この実写評価中、転写紙上には前記電位設定通りトナー
像は形成されず、また、いわゆるバイアス落ちによる帯
状のカブリも現れなかった。しかし、プラズマ重合膜を
設けない現像剤供与部材について同様の評価を行なった
ところ、帯状のカブリが発生した。このことから、本実
施例１による現像剤供与部材がいわゆるバイアス落ちを
効果的に防止することが確認された。

次に、バイアス電位を一４５０Ｖに変え、反転現像にお
ける１０００回繰り返しの実写評価を行なった。この実
写評価中、転写紙上には前記電位設定通りいわゆるベタ
黒画像が形成され、また、正規現像におけるカブリに対
応するいわゆる帯状の白抜けも現れなかった。しかし、
プラズマ重合膜を設けない現像剤供与部材について同様
の評価を行なったところ、帯状の白抜けが発生した。こ
のことから、本実施例１による現像剤供与部材がいわゆ
るバイアス落ちを効果的に防止することが確認された。

ざらに、得られた現像剤供与部材の性能を評価するため
に、本実施例１で得られた現像剤供与部材を搭載した第
３図に示す如き一成分用現像装置を用いて、トナー帯電
量に関する試験を行なった。

まず、所定のトナーを前記−成分用現像装置に入れ、本
実施例１で得られた現像剤供与部材を１１００ｒｐで５
秒間回転させた。回転終了後、この現像剤供与部材上に
付着したトナーにつき帯電量を測定したところ１８μＣ
／ｇの帯電量が得られた。しかし、プラズマ重合膜を設
けない現像剤供与部材について同様の評価を行なったと
ころ、７μＣ／ｇの帯電量しか得られなかった。このこ
とから、本実施例１による現像剤・供与部材が一成分現
像用トナーを好適に帯電することが確認された。

さらに、得られた現像剤供与部材の性能を評価するため
に、本実施例１で得られた現像剤供与部材を搭載した第
２図に示す如き二成分用現像装置を備えたＥＰ４７０Ｚ
（ミノルタカメラｑＱ製）を用いて、常用の複写機内に
て耐刷試験を行なった。

Ａ４紙３万枚の耐刷試験後、現像剤供与部材の表面を観
察したところ、プラズマ重合膜の膜剥離は無く、また、
トナー付着、傷の発生等も認められなかった。しかし、
プラズマ重合膜を設けない現像剤供与部材について同様
の評価を行なったところ、トナーがいわゆるフィルミン
グ状に付着し、トナーの搬送性低下による画像濃度の低
下が認められた。このことから、本実施例１による現像
剤供与部材が耐刷性に優れたものであることが確認され
た。

又施健旦現像剤供与部材の被覆層製造装置を用いて、第１図に示
す現像剤供与部材を作製した。

第４図に示す現像剤供与部材の被覆層製造装置において
、まず、反応室（７３３）の内部を１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程
度の高真空にした後、第７調り弁（７２５）を解放し、
第１容器（７１９）よりＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ
２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ガスを第１温調器（７２２）温度
１０５℃の下で、第７流量制御！　（７２８）内へ流入
させな。同時に、第１調節弁（７０７）を解放し、第１
タンク（７０１）より水素ガスを第１流量制御器（７１
３）内へ流入させた。そして流量制御器の目盛を調整し
て、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）
３ガスの流量を３１ｓｅｃｍ、並びに、水素ガスの流量
を３０ｓｅｃｍとなるように設定して、主管（７３２）
より反応室（７３３）内へ流入した。流量が安定した後
に、反応室（７３３）内の圧力が０．２２Ｔｏｒｒとな
るように圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、基板
（７５２）としては、直径２２Ｘ長ざ３３０ｍｍの円筒
形アルミニウム基板を用いて予め１００℃に加熱してお
き、ガス流量および圧力が安定した状態で、予め接続選
択スイッチ（７４４）により接続しておいた低周波電源
（７４１）を投入し、電力印加電極（７３６）に２１５
Ｗａｔｔの電力を周波数２００ＫＨｚの下で印加して約
１時間プラズマ重合反応を行ない、基板（７５２）上に
厚さ５００ｕｍのプラズマ重合膜を形成した。成膜完了
後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３
３）内を充分に排気した。

以上のようにして得られたプラズマ重合膜につき元素分
析を行なったところ、全構成原子に対し含有される水素
原子の量は２２原子％、弗素原子の量は３Ｑ原子％、酸
素原子の量は１．９原子％、珪素原子の量は２原子％で
あった。

得られた現像剤供与部材の性能を実施例１と同様にして
評価したところ、−成分用現像装置による帯電量に関す
る試験で１４μＣ／ｇと若干帯電量の低下が認められた
が、他は実施例１とほぼ同等の結果が得られた。このこ
とから、本実施例２による現像剤供与部材がいわゆるバ
イアス落ち、トナー帯電性、並びに、耐刷性に優れたも
のであることが確認きれた。

害旗Ａ旦現像剤供与部材の被覆層製造装置を用いて、第１図に示
す現像剤供与部材を作製した。

第４図に示す現像剤供与部材の被覆層製造装置において
、まず、反応室（７３３）の内部を１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程
度の高真空にした後、第７調節弁（７２５）を解放し、
第１容器（７１９）よりＣＦ　３（ＣＦ２）７ＣＨ２Ｃ
Ｈ２Ｓ　ｉ　ＣＨ３Ｃ１２ガスを第１温調器（７２２）
温度１００℃の下で、第７流量制御器（７２８）内へ流
入させた。そして流量制御器の目盛を調整して、ＣＦ３
（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉｃＨ３ｃ１２ガス、の流
量を３８ｓｅｃｍとなるように設定して、主管（７３２
）より反応室（７３３）内へ流入した。流量が安定した
後に、反応室（７３３）内の圧力が０．２Ｔｏｒｒとな
るように圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、基板
（７５２）としては、直径２２×長さ３３０ｍｍの円筒
形アルミニウム基板を用いて予め１００℃に加熱してお
き、ガス流量および圧力が安定した状態で、予め接続選
択スイッチ（７４４）により接続しておいた低周波電源
（７４１）を投入し、電力印加電極（７３６）に１１０
Ｗａｔｔの電力を周波数７０ＫＨｚの下で印加して約４
０分間プラズマ重合反応を行ない、基板（７５２）上に
厚き３００μｍのプラズマ重合膜を形成した。成膜完了
後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３
３）内を充分に排気した。

以上のようにして得られたプラズマ重合膜につき元素分
析を行なったところ、全構成原子に対し含有される水素
原子の量は２８原子％、弗素原子の量は３５原子％、゛
酸素原子の量ば２．３原子％、珪素原子の量は２．１原
子％、塩素原子の量は３゜９原子％であった。

得られた現像剤供与部材の性能壱実施例１と同様にして
評価したところ、−成分用現像装置による帯電量に関す
る試験で１２μＣ／ｇと帯電量の低下が認められたが実
用上は問題なく、また、他は実施例１とほぼ同等の結果
が得られた。このことから、本実施例３による現像剤供
与部材がいわゆるバイアス落ち、トナー帯電性、並びに
、耐刷性に優れたものであることが確認された。

発明の効果本発明の現像剤供与部材は、バイアス落ち、帯電量不足
、あるいは過大な電極効果による画イ９品位の低減を解
決でき、かつ耐刷性にも閃れている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明における現像剤供与部材の構成を示す図
面、第２図及び第３図は本発明における現像剤供与部材
を搭載した現像装置の一例を示す図面、および、第４図
は本発明に係わる現像剤供与部材の被覆層製造装置を示
す図面である。出願人　ミノルタカメラ株式会社第２図Ｉｆ第３図

Claims

【特許請求の範囲】

フルオロアルキルシランガスの真空中グロー放電分解法
から生成されるプラズマ重合膜により被覆されたことを
特徴とする現像剤供与部材。