JPS63217308A - Manufacture of optical waveguide applied component - Google Patents

Manufacture of optical waveguide applied component

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JPS63217308A
JPS63217308A JP5036587A JP5036587A JPS63217308A JP S63217308 A JPS63217308 A JP S63217308A JP 5036587 A JP5036587 A JP 5036587A JP 5036587 A JP5036587 A JP 5036587A JP S63217308 A JPS63217308 A JP S63217308A
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JP
Japan
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optical waveguide
substrate
groove
filter film
dielectric
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Application number
JP5036587A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideki Noda
秀樹 野田
Tatsuro Kunikane
国兼 達郎
Norihisa Naganuma
典久 長沼
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To reduce the loss of waveguide light and to easily obtain a high- reliability component by forming a groove in the side surface of a substrate so that a specific place of a filter film is left, and forming an optical waveguide in the groove. CONSTITUTION:A filter film 22 is laminated over the entire surface 19a of a dielectric 19, a layer of a dielectric 20 is laminated over the entire surface of the film 22, and then a filter film 23, a dielectric 21, and a filter 24 are laminated by turns. The surface of the substrate 11 formed of a lamination block like this is polished and the groove 26 is formed by mask etching in the flank if the substrate 11 where the films 22-24 are exposed. At this time, the groove 25 extends penetrating the films 23 and 22 at places indicated by 23a, 22a, and 22b and is parted by the films 23 and 22 at places indicated by 23b and 22c. Then the optical waveguide 26 is formed of a dielectric having a higher refractive index than the dielectrics 19-21 of the substrate 11 in the groove.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 光導波路応用部品の製造方法において、導波される光の
損失が少なく信幀性の高い光導波路応用部品の量産化及
び小型化を可能にするために、誘電体とフィルタ膜との
積層構造を有する基板の側面にフィルタ膜の必要箇所を
残すように先導波路形成用の溝をマスクエツチングによ
り形成し、その後、溝内に基板の誘電体よりも屈折率の
高い誘電体からなる光導波路を蒸着等により形成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] In order to enable mass production and miniaturization of optical waveguide application parts with low loss of guided light and high reliability in a method of manufacturing optical waveguide application parts. , a groove for forming a leading wavepath is formed by mask etching so as to leave a necessary part of the filter film on the side surface of a substrate having a laminated structure of a dielectric and a filter film, and then a groove is formed in the groove that refracts more than the dielectric of the substrate. An optical waveguide made of a dielectric material with a high index is formed by vapor deposition or the like.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は光導波路応用部品の製造方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing an optical waveguide application component.

先導波路を応用した分波器、カブラ等の光学部品は、一
般に、誘電体基板と、該誘電体基板よりも屈折率の高い
先導波路と、光導波路の経路途中に介在されるフィルタ
膜とを備えている。近年においては小型で安価な光導波
路応用部品が要望されており、また、導波される光の損
失が少なく信頼性の高い光導波路応用部品が要望されて
いる。
Optical components such as splitters and couplers that utilize guided waveguides generally include a dielectric substrate, a guided waveguide with a higher refractive index than the dielectric substrate, and a filter film interposed in the path of the optical waveguide. We are prepared. In recent years, there has been a demand for small and inexpensive optical waveguide application components, and there has also been a demand for optical waveguide application components with low loss of guided light and high reliability.

〔従来技術とその問題点〕[Prior art and its problems]

従来の光導波路応用部品の構造例を第8図に示す、、こ
の図を参照すると、誘電体基板1上には光導波路2.3
が設けられ、表面にフィルタ膜4を設けたガラス基板5
は分岐部の近傍の光導波路2゜3間に形成された空隙に
挿入されて誘電体基板1上に固定される。光ファイバ6
.7.8は誘電体基板1上に設けられたファイバ固定用
ブロック9゜10に保持されて対応する先導波路2.3
の端部に接続される。この種の光導波路応用部品におい
ては、導波される光がフィルタ膜4により分波又は結合
されて出力側の光ファイバに導かれる。
An example of the structure of a conventional optical waveguide application component is shown in FIG. 8. Referring to this figure, there are optical waveguides 2.
A glass substrate 5 is provided with a filter film 4 on its surface.
is inserted into the gap formed between the optical waveguides 2 and 3 near the branching portion and fixed onto the dielectric substrate 1. optical fiber 6
.. 7.8 is a corresponding leading waveguide 2.3 held by a fiber fixing block 9゜10 provided on the dielectric substrate 1.
connected to the end of the In this type of optical waveguide application component, guided light is split or combined by a filter film 4 and guided to an optical fiber on the output side.

従来は、上述したごとく、予め誘電体基板1上に光導波
路2,3を形成した後に、光導波路2゜3間に予め設け
た空隙にフィルタJI19を有するガラス基板5を挿入
し、これを誘電体基板1上に接着剤で固着させる方法を
採用していたため、フィルタ膜4と一方の先導波路3の
端面とがフィルタ膜付きガラス基板5の厚さ分だけ離れ
てしまい、このため、ガラス基板5を通じて光の損失が
生じる欠点があった。また、ガラス基板5の挿入の際に
フィルタ膜4に傷を付ける虞れがあった。
Conventionally, as described above, after forming the optical waveguides 2 and 3 on the dielectric substrate 1 in advance, the glass substrate 5 having the filter JI 19 is inserted into the gap previously provided between the optical waveguides 2 and 3, and the glass substrate 5 is connected to the dielectric substrate 1. Since the filter film 4 and the end face of one of the leading waveguides 3 were separated from each other by the thickness of the glass substrate 5 with the filter film, the glass substrate 5, there was a drawback that light loss occurred. Furthermore, there is a risk of damaging the filter membrane 4 when inserting the glass substrate 5.

更に、ガラス基板5と先導波路2.3との間にはガラス
基板5の機械的組付けのためのクリアランスを確保する
必要があるため、そのクリアランスに起因して光導波路
2,3に対するフィルタ膜付きガラス基板5の角度ずれ
が生じて光損失が生じる虞れがあった。このため、フィ
ルタ膜5を設けたガラス基板5の組付は時にその角度調
整を行なう必要があり、光導波路応用部品の量産化を妨
げる原因となっていた。また、ガラス基板5と誘電体基
板1とを接着する接着剤の劣化等により、光導波路2.
3に対するガラス基板5の角度ずれが生じて、導波され
る光の損失が生じる虞れがあった。
Furthermore, since it is necessary to secure a clearance between the glass substrate 5 and the guide waveguides 2.3 for mechanical assembly of the glass substrate 5, the filter film for the optical waveguides 2, 3 must be secured due to the clearance. There was a risk that the angular shift of the attached glass substrate 5 would occur, resulting in optical loss. For this reason, when assembling the glass substrate 5 provided with the filter film 5, it is sometimes necessary to adjust its angle, which has hindered mass production of optical waveguide application parts. Furthermore, due to deterioration of the adhesive that bonds the glass substrate 5 and the dielectric substrate 1, the optical waveguide 2.
There is a possibility that the angle of the glass substrate 5 with respect to the glass substrate 3 may be shifted, resulting in loss of guided light.

更に、フィルタ膜4を設けたガラス基Fi5の機械的組
付は作業や角度調整作業を必要とするため、光導波路応
用部品の量産化や小型化が困難であり、また、製造工数
が増えてコストアップになるという欠点があった。
Furthermore, mechanical assembly of the glass substrate Fi5 provided with the filter film 4 requires work and angle adjustment work, which makes it difficult to mass produce and miniaturize optical waveguide application parts, and also increases manufacturing man-hours. The drawback was that it increased costs.

したがって、本発明の目的は導波される光の損失が少な
く信頼性の高い光導波路応用部品を容易に得ることがで
き、しかも、光導波路応用部品の量産化及び小型化に適
した製造方法を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a manufacturing method that can easily obtain highly reliable optical waveguide application components with little loss of guided light and that is suitable for mass production and miniaturization of optical waveguide application components. The purpose is to provide.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明によれば、誘電体の端面にフィルタ膜及び誘電体
を交互に積層形成することにより、フィルタ膜と誘電体
との積層構造を有する基板を形成し、フィルタ膜が露出
する基板の側面に、フィルタ膜の所定箇所を残すように
先導波路形成用の溝をマスクエツチングにより形成し、
その後、溝内に基板の誘電体よりも屈折率の高い誘電体
からなる先導波路を蒸着等により形成することを特徴と
する光導波路応用部品の製造方法が提供される。
According to the present invention, a substrate having a laminated structure of the filter film and the dielectric is formed by alternately layering the filter film and the dielectric on the end face of the dielectric, and the filter film is formed on the side surface of the substrate where the filter film is exposed. , forming a groove for forming a leading waveguide by mask etching so as to leave a predetermined portion of the filter film;
There is then provided a method for manufacturing an optical waveguide application component, which comprises forming a guide waveguide made of a dielectric material with a higher refractive index than the dielectric material of the substrate in the groove by vapor deposition or the like.

〔作 用〕[For production]

本発明による光導波路応用部品の製造方法においては、
先導波路形成用の溝が基板に予め形成されたフィルタ膜
の所定箇所を残すようにマスクエツチングにより基板の
側面に形成され、その後、溝内に先導波路が蒸着等によ
り形成されるので、フィルタ膜により分断される先導波
路間のギャップは実質的にフィルタ膜の厚さ分だけとな
る。したがって、導波される光の損失は非常に少なくな
る。
In the method for manufacturing optical waveguide application components according to the present invention,
A groove for forming a leading waveguide is formed on the side surface of the substrate by mask etching so as to leave a predetermined portion of the filter film previously formed on the substrate.Then, the guiding wavepath is formed in the groove by vapor deposition, etc. The gap between the leading waveguides separated by is substantially equal to the thickness of the filter film. Therefore, the loss of the guided light becomes very small.

更に、先導波路は化学蒸着、物理蒸着等により溝内に形
成されるので、光導波路と溝との間や光導波路とフィル
タ膜との間にクリアランスが生じることはなく、したが
って、クリアランスに起因した位置ずれや角度ずれ等が
生じる虞れは全くない。また、溝パターンはマスクエツ
チングにより高精度に形成することができるので、フィ
ルタ膜に対する光導波路の角度精度を高めることができ
る。しかも、接着剤を用いることなく光導波路とフィル
タ膜との結合構造を得ることができるので、高精度で信
頼性の高い光導波路応用部品を得ることができる。
Furthermore, since the guide waveguide is formed within the groove by chemical vapor deposition, physical vapor deposition, etc., there is no clearance between the optical waveguide and the groove or between the optical waveguide and the filter film. There is no possibility that positional deviation or angular deviation will occur. Further, since the groove pattern can be formed with high precision by mask etching, the angular precision of the optical waveguide with respect to the filter film can be improved. Moreover, since the coupling structure between the optical waveguide and the filter film can be obtained without using an adhesive, a highly accurate and reliable optical waveguide application component can be obtained.

更に、機械的組付は作業や角度調整作業を必要とするこ
となく、フィルタ膜と光導波路との結合構造を得ること
ができるので、量産化が可能となり、また、光導波路応
用部品の小型化が可能となる。
Furthermore, mechanical assembly does not require any work or angle adjustment work, and it is possible to obtain a coupling structure between the filter film and the optical waveguide, making mass production possible and miniaturization of optical waveguide application parts. becomes possible.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図ないし第4図は本発明による製造方法の一実施例
により得られた光導波路応用部品の構造を示したもので
ある。これらの図を参照すると、光導波路応用部品は基
板11を有しており、基板11の両端には光ファイバ1
4〜18を保持するためのファイバ保持ブロック12.
13が取り付けられている。なお、基板11とファイバ
保持ブロック12.13は一体構造であってもよい。
1 to 4 show the structure of an optical waveguide application component obtained by an embodiment of the manufacturing method according to the present invention. Referring to these figures, the optical waveguide application component has a substrate 11, and optical fibers 1 are connected to both ends of the substrate 11.
Fiber holding block 12 for holding 4-18.
13 is attached. Note that the substrate 11 and the fiber holding blocks 12, 13 may have an integral structure.

ここでは、基板11は例えば石英ガラスからなる3つの
誘電体19.20.21と、例えばTtO/5iO1か
らなる3つのフィルタ膜22.23.24との積層構造
を有している。第2図及び第3図に示すように、フィル
タ膜22,23.24が露出する基板11の側面には導
波路形成用の溝25が形成されており、溝25内には基
板11の誘電体19゜20.21よりも屈折率の高い誘
電体からなる先導波路26が形成されている。光導波路
26はTi、Ge等の高屈折率化ドーパントを5102
に添加したものからなり、例えばTiを含むSiO2の
スパッタリング等によって形成される。第1図では図示
が省略されているが、第2図ないし第4図に示すように
、基板11及び光導波路26の上には光導波路26より
も低屈折率のクラッド層27(例えば5to2からなる
)が全面にわたり形成されている。
Here, the substrate 11 has a laminated structure of three dielectrics 19, 20, 21 made of quartz glass, for example, and three filter films 22, 23, 24 made of, for example, TtO/5iO1. As shown in FIGS. 2 and 3, a groove 25 for forming a waveguide is formed on the side surface of the substrate 11 where the filter films 22, 23, and 24 are exposed, and a groove 25 for forming a waveguide is formed inside the groove 25. A leading waveguide 26 is formed of a dielectric material having a refractive index higher than that of the body 19°20.21. The optical waveguide 26 is doped with a high refractive index dopant such as Ti or Ge.
For example, it is formed by sputtering SiO2 containing Ti. Although not shown in FIG. 1, as shown in FIGS. 2 to 4, a cladding layer 27 with a refractive index lower than that of the optical waveguide 26 (for example, from 5to2 ) is formed over the entire surface.

第1図に示すように、光導波路26はフィルタ膜24の
内側から途中で分岐してブロック13に接合される基板
11の端部まで延びており、符号23a、22a、22
bの箇所ではフィルタ膜23.22を貫通して延びてお
り、符号23b。
As shown in FIG. 1, the optical waveguide 26 branches from the inside of the filter film 24 midway and extends to the end of the substrate 11 bonded to the block 13, with reference numerals 23a, 22a, 22
At point b, it extends through the filter membrane 23.22, reference numeral 23b.

22Cの箇所ではフィルタ膜23.22により分断され
ている。
It is separated by a filter membrane 23.22 at a point 22C.

ブロック12.13には7字状溝12a、13aが形成
されており、光ファイバ14〜18は例えば接着剤でブ
ロック12.13の溝12a、13内に固着される。こ
のとき、第4図から判るように、光ファイバ14〜18
のコア14a〜18aは光導波路26の対応する端部に
接合される。
Seven-shaped grooves 12a, 13a are formed in the block 12.13, and the optical fibers 14-18 are fixed in the grooves 12a, 13 of the block 12.13, for example with adhesive. At this time, as can be seen from FIG. 4, the optical fibers 14 to 18
The cores 14a to 18a are joined to corresponding ends of the optical waveguide 26.

この光導波路応用部品においては、光ファイバ14から
入射した光はフィルタ膜24. 23. 22により順
次に分岐されて光ファイバ15〜18に導かれる。
In this optical waveguide application component, light incident from the optical fiber 14 is filtered through the filter film 24. 23. 22 and are sequentially branched into optical fibers 15-18.

第5図ないし第7図は上記光導波路応用部品の製造方法
の一実施例を示したものである。これらの図を参照する
と、まず、基板11は第5図(a)〜(d)に示す手順
で作られる。すなわち、誘電体19の端面19aの全域
にフィルタ膜22を真空蒸着等により例えば2〜3μm
の厚さに積層形成しく第5図(a)、 (b)) 、次
いで、フィルタ膜22の表面の全域に誘電体20の層を
真空蒸着等により積層形成しく第5図(C1)、更にそ
の後、フィルタ膜23と誘電体21とフィルタ膜24と
を交互に積層形成する(第5図(d))。なお、このよ
うにして作られた積層ブロックをそのまま基板11とし
て用いることができるが、この積層ブロックを第5図(
d)中点線で示す箇所で切断して複数個の基板11を得
ることができる。
FIGS. 5 to 7 show an embodiment of the method for manufacturing the above-mentioned optical waveguide application component. Referring to these figures, first, the substrate 11 is manufactured according to the procedure shown in FIGS. 5(a) to 5(d). That is, the filter film 22 is deposited over the entire area of the end surface 19a of the dielectric 19 to a thickness of, for example, 2 to 3 μm by vacuum deposition or the like.
5(a), (b)), then a layer of the dielectric material 20 is formed over the entire surface of the filter film 22 by vacuum evaporation or the like as shown in FIG. 5(C1). Thereafter, filter films 23, dielectrics 21, and filter films 24 are alternately laminated (FIG. 5(d)). Note that the laminated block made in this way can be used as it is as the substrate 11, but this laminated block is shown in FIG.
d) A plurality of substrates 11 can be obtained by cutting at locations indicated by dotted lines.

形成された基板11は必要に応じて表面研摩され、フィ
ルタ膜22〜24が露出する基板11の側面には、第6
図に示すように、溝26がマスクエツチングにより形成
される。このとき、符号23a、22a、22bの箇所
ではフィルタ膜23.22がエツチングされ、符号24
a、23b。
The surface of the formed substrate 11 is polished as necessary, and a sixth
As shown, grooves 26 are formed by mask etching. At this time, the filter membranes 23.22 are etched at locations 23a, 22a, and 22b, and 24.
a, 23b.

22Cの箇所ではフィルタ膜24.23.22が残され
る。したがって、符号23a、22a、22bの箇所で
は溝25はフィルタ膜23.22を貫通して延び、符号
23b、22cの箇所では溝25がフィルタ膜23.2
2で分断される。
Filter membranes 24, 23, and 22 remain at location 22C. Thus, at locations 23a, 22a, 22b the grooves 25 extend through the filter membrane 23.22, and at locations 23b, 22c the grooves 25 extend through the filter membrane 23.22.
Divided by 2.

次に、第7図に示すように、基板11の誘電体19〜2
1よりも屈折率の高い誘電体からなる光導波路26が化
学蒸着又は物理蒸着により溝25内に形成される。なお
、化学蒸着又は物理蒸着により基板11の側面上に形成
される誘電体層は研磨により除去される。更に、その後
、基板11及び光導波路26の上にクラッド層27が形
成される。
Next, as shown in FIG.
An optical waveguide 26 made of a dielectric material with a refractive index higher than 1 is formed in the groove 25 by chemical or physical vapor deposition. Note that the dielectric layer formed on the side surface of the substrate 11 by chemical vapor deposition or physical vapor deposition is removed by polishing. Furthermore, after that, a cladding layer 27 is formed on the substrate 11 and the optical waveguide 26.

上記製造方法により作られた光導波路応用部品において
は、基板11に予め形成されたフィルタ膜22〜24の
必要箇所を残すように光導波路形成用の溝25がマスク
エツチングにより基板11の側面に形成されるので、フ
ィルタ膜22.23により分断される先導波路26間の
ギャップは実質的にフィルタ膜22.23の厚さ分だけ
となる。
In the optical waveguide application component manufactured by the above manufacturing method, the groove 25 for forming the optical waveguide is formed on the side surface of the substrate 11 by mask etching so as to leave the necessary portions of the filter films 22 to 24 previously formed on the substrate 11. Therefore, the gap between the leading waveguides 26 separated by the filter films 22, 23 is substantially equal to the thickness of the filter films 22, 23.

したがって、導波される光の損失は非常に少なくなる。Therefore, the loss of the guided light becomes very small.

更に、先導波路26は化学蒸着法又は物理蒸着法により
溝25内に形成されるので、光導波路26と溝25との
間や先導波路26とフィルタ膜22〜24との間にクリ
アランスが生じることはなく、したがって、クリアラン
スに起因した位置ずれや角度ずれ等が生じる虞れは全く
ない、また、溝25のパターンはマスクエッチジグによ
り高精度に形成することができるので、フィルタ膜22
〜24に対する先導波路26の角度精度を高めることが
できる。しかも、接着剤を用いることなく先導波路26
とフィルタ膜22〜24との結合構造を得ることができ
るので、高精度で信顛性の高い光導波路応用部品を得る
ことができる。
Furthermore, since the leading waveguide 26 is formed within the groove 25 by chemical vapor deposition or physical vapor deposition, a clearance may occur between the optical waveguide 26 and the groove 25 or between the leading waveguide 26 and the filter films 22 to 24. Therefore, there is no possibility that positional or angular deviations due to clearance will occur.Furthermore, since the pattern of the grooves 25 can be formed with high precision using a mask etching jig, the filter film 22
The angular precision of the leading waveguide 26 relative to 24 can be improved. Furthermore, the leading waveguide 26 can be constructed without using adhesive.
Since it is possible to obtain a bonding structure between the filter films 22 to 24 and the filter films 22 to 24, it is possible to obtain a highly accurate and highly reliable optical waveguide application component.

更に、機械的組付は作業や角度調整作業を必要とするこ
となく、フィルタ膜22〜24と光導波路26との結合
構造を得ることができるので、量産化が可能となり、ま
た、光導波路応用部品の小型化が可能となる。
Furthermore, mechanical assembly does not require any work or angle adjustment work, and the coupling structure between the filter films 22 to 24 and the optical waveguide 26 can be obtained, making mass production possible. It becomes possible to downsize parts.

以上、図示実施例につき説明したが、本発明は上記実施
例の態様のみに限定されるものではなく、例えば、基板
内のフィルタ膜の個数や光導波路のパターン形状等は光
導波路応用部品の用途に応じて変更することができる。
Although the illustrated embodiments have been described above, the present invention is not limited to the aspects of the above embodiments. For example, the number of filter films in the substrate, the pattern shape of the optical waveguide, etc. can be changed accordingly.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の説明から明らかなように、本発明によれば、誘電
体とフィルタ膜との積層構造を有する基板の側面にフィ
ルタ膜の必要箇所を残すように光導波路形成用の溝をマ
スクエツチングにより形成し、その後、溝内に基板の誘
電体よりも屈折率の高い誘電体からなる先導波路を蒸着
により形成するから、機械的組付は作業や角度調整作業
等を全く必要とすることなく、低光損失で信幀性の高い
光導波路応用部品を得ることができ、光導波路応用部品
の量産化及び小型化を図ることができるようになる。
As is clear from the above description, according to the present invention, a groove for forming an optical waveguide is formed by mask etching so as to leave a necessary area for a filter film on the side surface of a substrate having a laminated structure of a dielectric material and a filter film. After that, a guiding waveguide made of a dielectric material with a higher refractive index than that of the substrate dielectric material is formed in the groove by vapor deposition, so the mechanical assembly is low-cost and does not require any work or angle adjustment work. It is possible to obtain optical waveguide application parts with high reliability due to optical loss, and it becomes possible to mass produce and miniaturize optical waveguide application parts.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明方法により得られる光導波路応用部品に
ファイバ保持用ブロックを組み付けた状態を示す平面図
、 第2図は第1図に示す光導波路応用部品の第1図中■−
■線に沿った断面図、 第3図は第1図に示す光導波路応用部品の第1回申m−
m線に沿った断面図、 第4図は第1図中IV−IV線に沿った断面図、第5図
(al〜(d)はそれぞれ本発明による光導波路応用部
品の製造方法の一実施例における基板の製造工程を示す
斜視図、 第6図は本発明による光導波路応用部品の製造方法の一
実施例における溝の形成工程を示す平面図、 第7図は本発明による光導波路応用部品の製造方法の一
実施例における光導波路の形成工程を示す平面図、 第8図は従来の光導波路応用部品の製造方法により得ら
れる光導波路応用部品の斜視図である。 図に置いて、11は基板、19〜21は誘電体、22〜
24はフィルタ膜、25は溝、26は光導波路をそれぞ
れ示す。
FIG. 1 is a plan view showing a state in which a fiber holding block is assembled to an optical waveguide application component obtained by the method of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of the optical waveguide application component shown in FIG.
■A cross-sectional view taken along the line, Figure 3 is the first diagram of the optical waveguide application parts shown in Figure 1.
4 is a sectional view taken along the line IV-IV in FIG. FIG. 6 is a plan view showing the step of forming a groove in an embodiment of the method for manufacturing an optical waveguide application component according to the present invention; FIG. 7 is a perspective view showing the manufacturing process of a substrate according to the present invention; FIG. FIG. 8 is a plan view showing the process of forming an optical waveguide in an embodiment of the manufacturing method of FIG. is a substrate, 19-21 are dielectrics, 22-
24 represents a filter film, 25 represents a groove, and 26 represents an optical waveguide.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、誘電体(19)の端面にフィルタ膜(22〜24)
及び誘電体(20、21)を交互に積層形成することに
より、フィルタ膜と誘電体との積層構造を有する基板(
11)を形成し、 フィルタ膜(22〜24)が露出する基板(11)の側
面に、フィルタ膜(22〜24)の所定箇所を残すよう
に光導波路形成用の溝(25)をマスクエッチングによ
り形成し、 その後、溝(25)内に基板(11)の誘電体(19〜
21)よりも屈折率の高い誘電体からなる光導波路(2
6)を形成することを特徴とする光導波路応用部品の製
造方法。
[Claims] 1. Filter film (22 to 24) on the end face of the dielectric (19)
By alternately laminating the filter film and the dielectric (20, 21), a substrate (
11), and mask-etch a groove (25) for forming an optical waveguide so as to leave a predetermined portion of the filter film (22-24) on the side surface of the substrate (11) where the filter film (22-24) is exposed. After that, the dielectric material (19 to 19) of the substrate (11) is formed in the groove (25).
The optical waveguide (21) is made of a dielectric material with a higher refractive index than the optical waveguide (21).
6) A method for manufacturing an optical waveguide application component, characterized by forming.
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