JPS63210392A - シ−ルド工法 - Google Patents

シ−ルド工法

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JPS63210392A
JPS63210392A JP62040129A JP4012987A JPS63210392A JP S63210392 A JPS63210392 A JP S63210392A JP 62040129 A JP62040129 A JP 62040129A JP 4012987 A JP4012987 A JP 4012987A JP S63210392 A JPS63210392 A JP S63210392A
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JP
Japan
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soil cement
shield
excavation
mortar
machine
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JP62040129A
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JPH0814235B2 (ja
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憲二 三戸
利侑 藤井
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Nishimatsu Construction Co Ltd
Original Assignee
Nishimatsu Construction Co Ltd
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Publication date
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  • Excavating Of Shafts Or Tunnels (AREA)
  • Lining And Supports For Tunnels (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 r産業上の利用分野」 本発明は、シールド工法に関するものである。
「従来の技術」 従来の最も一般的なシールド工法を第3図に基すいて説
明すると、同図図示の状態からシールドジヤツキ5を伸
長方向に作動させシールド機1に推力を与えつつ掘進を
行ない。所定距離掘進すると掘進を一時中断して、シー
ルドジヤツキ5を収縮方向に作動させ、シールド機1内
のシールドジヤツキ5が収縮した空隙に一次覆玉用のセ
グメントVを組立てて初期の状態に戻り、このセグメン
1− vで土圧・水圧による地山の崩壊を防ぎながら上
記工程を繰返して順次面方に掘進じ、公認に応じて該セ
グメント部内には場所打ちコンクリート等による二次覆
工(図示せず)をするようになっている。
r発明が解決しようとする問題点」 しかし、L記従来のシールドT法は工事費に占めるセグ
メントの費用の割合が大きいこと、セグメントVの外径
はシールド機1の内径より小さくせねばならず、シール
ド機1の掘削径に対してトンネル内径か小さくなること
、このシールド機1とセグメントVとの径の相違によっ
てテールホイト(第3図に符号りで示す)が生じ掘進に
ともなってこのテールボイド0分の地盤沈下が問題にな
ること等の欠点を有することが知られている。
そこで、本発明は1−記欠点に鑑みなされたもので、セ
グメントVは使用せずに掘削した他山を直接硬化させな
がら掘進する新たなシールヒエ法を提供することを目的
としたものである。
「問題点を解決するための手段」 上記の目的に沿い、先述特許請求の範囲を要旨とする本
発明の構成は前述問題点を解決するために、シールド機
1の外周部にモルタル噴出[12とビット3を有した回
転体4とからなるソイルセメント造成部Aを設け、さら
にこのシールド機1の上記ソイルセメント造成部Aより
後方部位には該ソイルセメント造成部Aで造成されたソ
イルセメントSか硬化するまで保持する硬化保持部Bを
設け、上記シールド機1で所定距離掘進を行なった後、
掘進を一時中断し又は掘進を継続しつつ上記モルタル噴
出口2よりモルタルを噴出するととbにビット3を有し
た回転体4を回転せしめて該回転体4の外周部位にソイ
ルセメントSを造成し、また、ソイルセメント造成部A
で造成され硬化保持部Bで所定の強度を有するまで保持
された後にシールド機1が掘進にともなって抜け出たソ
イルセメントS部内に覆工りを覆工するようになしたこ
とを特徴とする技術的手段を講じたものである「作用」 それ故本発明シールト工法は、シールド機1による掘進
自体は従来と何ら相違するところがないが、シールド機
1により一定距離掘進した後に、ソイルセメント造成部
Aの周囲にソイルセメントSが造成される。そして、こ
のソイルセメントS部からは、掘進がその後に進行する
とやがて該掘進機1か抜け出ることになるが、該掘進l
itが抜け出るまではこのソイルセメントSは硬化保持
部Bで保持され、該掘進機1が抜け出る際は所定の強度
を有したソイルセメント壁となる。したがって、この掘
進機1が抜け出たソイルセメントS部内には直接覆工り
を覆工することができ、該覆工に先立ってのセグメント
構築を必要としないシールド掘進が実現できるものであ
る。
r実施例1 次に、本発明の実施例を第1図及び第2図に従って説明
すれば以下の通りである。
図中、1が掘進機で、この掘進機1はシールド掘進機と
知られる従来公知な種々の掘削方式のものが使用でき、
図示例ではシールドジヤツキ5゜5.5・・・により推
力を得て顔面に配されたカッターフェース15を回転さ
せて掘進する機械掘り方式の掘進機を使用しているか、
他に手掘り式、半機械掘り式、泥水加圧式、土圧バラン
ス・泥土加圧式、ブラインド式、限定圧気式等の掘進機
を使用してもよいことは無論である。
該シールド機1の外周部には、モルタル噴出口2と出入
可能なビット3とを有した回転体4とからなるソイルセ
メント造成部Aを設けである。
上記回転体4は、第2図に最も明かに示すごとく、シー
ルド機1のスキンプレート!aにベアリング6.6を介
する等して回転自在に支承されたリング状に形成され、
駆動モータ7.7.7・・・(第1図参照)の駆動歯車
?a、7a、7a・・・が該回転体4の内歯用4aに1
噛合するようになしである。
そして、この回転体4には内側に配したビット3.3.
3・・・の出入孔8.8.8・・・が配され、シリンダ
9等の適宜伝動手段により該ビット3,3.3・・・は
回転体4よりシールド機1の外周方向に出入できるよう
になしている。なお、このビット3,3.3・・・は回
転体4より突設してシールド機lの外周方向には出入し
ない構成となしてもよいが、該ビット3,3.3・・・
をシールド機1の外周に突出したまま掘進することは、
掘進力に対する抵抗となるし、該ビット3.3,3・・
・自体の強度を相当に大きく設定しないとならないため
本実施例では出入可能となして掘進時は収納できるよう
になしである。
また、モルタル噴出口2は上記回転体4に孔またはスリ
ットとして配され、この回転体4の内側には該モルタル
噴出口2に向って開口するととに該モルタル噴出口2を
覆うチャンバ部10を、その開口端が回転体4の内面と
が摺動するように配し、該チャンバ部10にモルタル注
入バイブ14の一端を連通しである。なお、このモルタ
ル噴出「12は、図示例とは異なりビット3をバイブ状
となして該ビット3自体をモルタル噴出口を兼ねるよう
になしたり、回転体4部位ではなく該回転体4近くのス
キンプレート1a部位に配設してもよいものである。
そして、該シールド機1の上記ソイルセメント造成部A
より後方部位には該ソイルセメント造成部Aで造成され
たソイルセメントSが硬化するまで保持する硬化保持部
Bを設けである。この硬化保持部Bは、シールド機!が
掘進よりソイルセメント造成部Aで造成されたソイルセ
メントSより抜け出るのに所定の時間を要するようにな
したもので、具体的にはソイルセメント造成部Aの後方
にスキンプレート1aを所定長延設してなるもので、こ
の長さはシールド機1の掘進速度とソイルセメントSの
硬化時間との関係によって決定するものである。なお、
この硬化保持部BにはソイルセメントSが硬化付着して
シールド機1の掘進を不能ならしめる恐れが有るため、
必要に応じては付着防止シート11をシールド機1の掘
進にともなって、該シールド機1の外周面とソイルセメ
ントSの内面との間に順次供送するようになしてもよい
。この付着防止シート11は長尺の薄鋼板(実用的には
厚み0.15〜0.3mm)や強固な繊維シートをロー
ル状に巻いたものをシールド機1内に収納し、該シール
ド機1の掘進にともなってその先端を硬化保持部Bを形
成するスキンプレート1aの外周面にiGって巻き戻す
ようになしCいる。
本発明シールド工法は、上記シールドR1で所定距離掘
進を行なった後、掘進を一時中断し又は掘進を維続しつ
つ上記モルタル噴出口2よりモルタルを噴出するととも
にビット3を有した回転体4を回転せしめて該回転体4
の外周部位にソイルセメントS8造成する。本実施例で
は、先ずビット3を収納状態となし所定距離掘進を行な
い、所定距離の掘進が終了すると、掘進を一時中断して
一ト記モルタル噴出口2よりモルタルを噴出するととも
にビット3を買出した回転体4を回転せしめて、このビ
ット3で噴出したモルタルと地山(周囲の土)とを攪拌
して該回転体4の外周部位にソイルセメントSを造成す
るが、ビット3に充分な強度を設定すればこの掘進とソ
イルセメントの造成とは同時に行なっても差し支えはな
い。
そして、所定時間の攪拌後、上記ビット3を収納して掘
進を再開し、この掘進工程と、掘進を中断してのソイル
セメント造成工程を経て掘進工程へ戻る工程とを繰り返
すようになっている。
また、本発明シールド工法は、ソイルセメント造成部A
で造成され硬化保持部Bで所定の強度を有するまで保持
された後にシールド機1が掘進にともなって抜け出たソ
イルセメントS部内に覆工りを覆工するようになしであ
る。すなわち、ソイルセメントSが一次覆工となり、こ
の覆工りか永久構造物となる二次覆工に相当することに
なるが、ソイルセメントSを薄くして漏水を防ぐために
必要なら圧気を併用してもよく、さらには大規模な崩壊
を防ぐために必要なら支保工12.12゜12・・・を
併用する。なお、この覆工りは常法による場所打ちコン
クリドによりh’ts工するものである。
なお、図中13はシールド機1の掘進反力を受けるブツ
シュロッドを示すものである。
r発明の効果」 本発明法は上記のごときで、従来の一次覆工としてのセ
グメントを使用せずに直接地山をソイルセメントSで硬
化させるため、該−次覆工が従来法に比して大幅に経済
的に行なえるばかりでなく、掘削径を最少にとどめて経
済的なトンネル掘削が可能なシールド工法を提供できる
ものである。
また、本発明はソイルセメントSの内径がシールド機1
の外径に一致し、このソイルセメントS内に直接覆工り
を覆工するため、所謂テールボドが生ずことがないため
従来のテールボイドによる地盤沈下の恐れが無いシール
ド工法を提供できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明シールド工法に使用するシールド機の一
実施例を示す縦断面図、第2図は部分拡大断面図、第3
図は従来法の説明断面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. シールド機1の外周部にモルタル噴出口2とビット3を
    有した回転体4とからなるソイルセメント造成部Aを設
    け、さらにこのシールド機1の上記ソイルセメント造成
    部Aより後方部位には該ソイルセメント造成部Aで造成
    されたソイルセメントSが硬化するまで保持する硬化保
    持部Bを設け上記シールド機1で所定距離掘進を行なっ
    た後、掘進を一時中断し又は掘進を継続しつつ上記モル
    タル噴出口2よりモルタルを噴出するとともにビット3
    を有した回転体4を回転せしめて該回転体4の外周部位
    にソイルセメントSを造成し、また、ソイルセメント造
    成部Aで造成され硬化保持部Bで所定の強度を有するま
    で保持された後にシールド機1が掘進にともなって抜け
    出たソイルセメントS部内に覆工Lを覆工するようにな
    したことを特徴とするシールド工法。
JP62040129A 1987-02-25 1987-02-25 シ−ルド工法 Expired - Fee Related JPH0814235B2 (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02190600A (ja) * 1989-01-18 1990-07-26 Shimizu Corp シールド工法
JPH02210197A (ja) * 1989-02-09 1990-08-21 Taisei Corp シールド工法及びその装置
JPH02210198A (ja) * 1989-02-08 1990-08-21 Taisei Corp シールド装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS569590A (en) * 1979-06-30 1981-01-31 Masanori Araki Method of shield excavation

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