JPS63207638A - 銅張セラミツクコ−ト積層板の製造方法 - Google Patents
銅張セラミツクコ−ト積層板の製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はプリント基板用の積層板の製造方法に関する。
(従来の技術)
従来、プリント基板としてはフェノール側脂積層板、エ
ポキ7樹脂積l−板が多く用いられてきた。しかし、厳
近、電子機器の高性能化、小型化に伴い、茜密度実装化
が望まn、それによって生ずる熱の発生をいかに処理す
るかということが問題になってきている。
ポキ7樹脂積l−板が多く用いられてきた。しかし、厳
近、電子機器の高性能化、小型化に伴い、茜密度実装化
が望まn、それによって生ずる熱の発生をいかに処理す
るかということが問題になってきている。
こnに対し、従来の有機質系基数は熱伝尋性が悪いため
熱放散性に欠ける、また熱膨張係数が大きく、耐熱性に
乏しいなどのために^密度実装化は国難であった。その
ためアルミナなどのセラミック基板、あるvhは金属板
を芯材としてその表向を絶縁層で積ったメタルコア基板
などが注目されている。また、耐熱性の点からも従来の
フェノール樹脂、エボキ7側BFI糸基板に代わり、ポ
リイミド樹脂あるいはポリエーテルエーテルケトン、ポ
リサル2オンなどの耐熱住熱可申性樹脂を用いた基板の
開発が盛んに行なわれている。
熱放散性に欠ける、また熱膨張係数が大きく、耐熱性に
乏しいなどのために^密度実装化は国難であった。その
ためアルミナなどのセラミック基板、あるvhは金属板
を芯材としてその表向を絶縁層で積ったメタルコア基板
などが注目されている。また、耐熱性の点からも従来の
フェノール樹脂、エボキ7側BFI糸基板に代わり、ポ
リイミド樹脂あるいはポリエーテルエーテルケトン、ポ
リサル2オンなどの耐熱住熱可申性樹脂を用いた基板の
開発が盛んに行なわれている。
(発明が解決しようとする間趙点ン
しかし、これらの基板についてみると稚々の…1題点が
ある。すなわち、アルミナ、炭化ケイ素などのセラミッ
ク基板に熱伝尋性、耐熱性にすぐnているが、製造工程
が俵雑で、加工性が悪い、機械的強度が低い、基板の大
きさに制眠があり、大型の基鈑が得らnないなどの欠点
がある。また、金属板を芯材としたメタルコア基板は(
ロ)路となる導体部と凄しているのは、低熱伝導の樹脂
からなる絶縁層であるために金属芯の高熱伝導性を十分
に活かし@nず、熱放散性は十分でない。筐た、芯材が
金meであるのでスルーホールの形成が容易でになく、
非常に俵給な裂造工8i全必要とする。
ある。すなわち、アルミナ、炭化ケイ素などのセラミッ
ク基板に熱伝尋性、耐熱性にすぐnているが、製造工程
が俵雑で、加工性が悪い、機械的強度が低い、基板の大
きさに制眠があり、大型の基鈑が得らnないなどの欠点
がある。また、金属板を芯材としたメタルコア基板は(
ロ)路となる導体部と凄しているのは、低熱伝導の樹脂
からなる絶縁層であるために金属芯の高熱伝導性を十分
に活かし@nず、熱放散性は十分でない。筐た、芯材が
金meであるのでスルーホールの形成が容易でになく、
非常に俵給な裂造工8i全必要とする。
さらに耐熱性d1脂M板は、耐熱性は同士しているもの
の、樹脂の熱伝4率が低いために熱放散効果は望めない
。
の、樹脂の熱伝4率が低いために熱放散効果は望めない
。
本発明はこnらの欠点全改良し、従来の有機質系基板と
同様な製造、加工方法が可能で、しかも熱伝擲性、耐熱
性にすぐれ、低熱彰@率の基鈑全安価に得る製造方法を
提供するものである。
同様な製造、加工方法が可能で、しかも熱伝擲性、耐熱
性にすぐれ、低熱彰@率の基鈑全安価に得る製造方法を
提供するものである。
(問題点を解決するための手段)
すなわち本発明は、銅箔と極相強化プラスチック層との
間にセラミック層を有するm伝セラミックコート禎層板
の製造において、 a、金属板にセラミックを溶射してセラミックMを形成
する第1工程、 b、該セラミック層と従するようにプリプレグを積層し
て熱圧成形し、これを一体化する第2工程、 c、第1工程においてセラミックをfrI剤した金属板
をセラミックj−から引きはがす第6エ程、d、第3工
程で得たセラミックコート積層数の表面のセラミック層
に未鹸化の熱硬化性樹脂を塗布、含浸させる第4工程、 C6第4工程で未硬化の熱硬化注榴脂を塗布、含浸させ
たセラミックノーに銅箔を載置し、これを熱圧成形する
第5工程、 からなることを特徴とするものでめ心。
間にセラミック層を有するm伝セラミックコート禎層板
の製造において、 a、金属板にセラミックを溶射してセラミックMを形成
する第1工程、 b、該セラミック層と従するようにプリプレグを積層し
て熱圧成形し、これを一体化する第2工程、 c、第1工程においてセラミックをfrI剤した金属板
をセラミックj−から引きはがす第6エ程、d、第3工
程で得たセラミックコート積層数の表面のセラミック層
に未鹸化の熱硬化性樹脂を塗布、含浸させる第4工程、 C6第4工程で未硬化の熱硬化注榴脂を塗布、含浸させ
たセラミックノーに銅箔を載置し、これを熱圧成形する
第5工程、 からなることを特徴とするものでめ心。
本発明においてセラミックをfa制する金JtA板とし
ては、鉄、銅、アルミ、ニッケル、ステンレスなどの金
属板を用いることかでさる。
ては、鉄、銅、アルミ、ニッケル、ステンレスなどの金
属板を用いることかでさる。
また、セラミック基工その這気Ae杼性、熱伝尋率、#
荊の容易さなどからアルミナが破通であるが、その他に
電気P!縁性を有するスピネル、ムライト、ベリリア、
ジルコニア等紫用いることができる。このセラミック層
の厚み【工、6゜8以上500μ以下の範[Jfl&t
することが好ましい。60μ未満では溶1模1曽が不均
一になりベコすく、熱放散効果が十分でな(,500μ
以上になるとコストアップになるとともに、沼#打脅に
クラック等の欠陥が発生しやすくなるためである。
荊の容易さなどからアルミナが破通であるが、その他に
電気P!縁性を有するスピネル、ムライト、ベリリア、
ジルコニア等紫用いることができる。このセラミック層
の厚み【工、6゜8以上500μ以下の範[Jfl&t
することが好ましい。60μ未満では溶1模1曽が不均
一になりベコすく、熱放散効果が十分でな(,500μ
以上になるとコストアップになるとともに、沼#打脅に
クラック等の欠陥が発生しやすくなるためである。
溶射法としてはガス俗痢、プラズマ沼躬、水プラズマ溶
射、減圧プラズマm射法などが通用できる。
射、減圧プラズマm射法などが通用できる。
次に1リプレグの樹脂は電気特性、成形加工性の点から
エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂が好適であるが、その他
に7エノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂などの熱硬
化性樹脂、あるいはポリサル2オン、ポリエーテルエー
テルケトン、ポリエーテルサルフオン、ポリエーテルイ
ミドなどの熟nJ塑性樹脂金用v′hることかでさる。
エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂が好適であるが、その他
に7エノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂などの熱硬
化性樹脂、あるいはポリサル2オン、ポリエーテルエー
テルケトン、ポリエーテルサルフオン、ポリエーテルイ
ミドなどの熟nJ塑性樹脂金用v′hることかでさる。
また線維としては一般に用いらnるガラス棹維の他にケ
プラー−維、紙、SiC#jk維、シリカ檎維などを用
いることができる。
プラー−維、紙、SiC#jk維、シリカ檎維などを用
いることができる。
筐た熱圧成形恢のセラミック溶射層とンリブレグの密層
性は、セラミック浴剤層の表囲が粗間でしかも気孔が存
在することにより僧層面槓が大きいため、惨めて強固で
Ieする。そnK比べてセラミック溶#4層と金属板と
の1#層性は低いため、金楓板をセラきツク浴#1層か
らは(虐することは、容易に可能℃ある。さらに・工<
4t−容易にするためには、金M61の浴剤前のサンド
ブラスト処理などの@i面化処理を行わないか、または
ごく軽く行うη為、あるいは離型処坤會施す等の手段が
iJ能である。
性は、セラミック浴剤層の表囲が粗間でしかも気孔が存
在することにより僧層面槓が大きいため、惨めて強固で
Ieする。そnK比べてセラミック溶#4層と金属板と
の1#層性は低いため、金楓板をセラきツク浴#1層か
らは(虐することは、容易に可能℃ある。さらに・工<
4t−容易にするためには、金M61の浴剤前のサンド
ブラスト処理などの@i面化処理を行わないか、または
ごく軽く行うη為、あるいは離型処坤會施す等の手段が
iJ能である。
金満aをを工(寵した後のセラミック表面に塗布、言渋
させる未硬化の熱硬化性樹脂として1工、電気特性、銅
箔とセラミックへの@層性、成形加工性の点からエポキ
シ樹脂、ポリイミド樹脂か好、1hであるが、その他に
フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等も用いΦこ
とがでさo0樹脂の塗布、含浸方法としては、スプレー
、へケ塗す、バーコーター、ドクターブレード法等會用
いることができる。
させる未硬化の熱硬化性樹脂として1工、電気特性、銅
箔とセラミックへの@層性、成形加工性の点からエポキ
シ樹脂、ポリイミド樹脂か好、1hであるが、その他に
フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等も用いΦこ
とがでさo0樹脂の塗布、含浸方法としては、スプレー
、へケ塗す、バーコーター、ドクターブレード法等會用
いることができる。
(作用)
一般に浴射セラミックスは5へ15 vo1%の気孔を
有している。プリント基板への応用例では、アルミニウ
ム等の金属にセラミックを浴剤したメタルベース基板が
内外で畝多く検討されているが、この気孔のために吸湿
後の電気4e線性の劣化が看しく、大きな問題となって
おり吸湿時特性が問題とならなVsj4:4途に一品使
わnているのみで、その用途は限らnてし1つ。しかし
本発明の方法によnば、セラミック溶射層の気孔は電気
絶縁性の熱硬化性樹脂により封孔されるため、吸湿後の
眠気絶縁性の劣化をどくわずかにすることができる。ま
たこの封孔に用いた樹脂のセラミック層全体に占める割
付は、5〜15 vo1%と少ないため、封孔したセラ
ミック層は、セラミック本来の特性を失なうことはない
。
有している。プリント基板への応用例では、アルミニウ
ム等の金属にセラミックを浴剤したメタルベース基板が
内外で畝多く検討されているが、この気孔のために吸湿
後の電気4e線性の劣化が看しく、大きな問題となって
おり吸湿時特性が問題とならなVsj4:4途に一品使
わnているのみで、その用途は限らnてし1つ。しかし
本発明の方法によnば、セラミック溶射層の気孔は電気
絶縁性の熱硬化性樹脂により封孔されるため、吸湿後の
眠気絶縁性の劣化をどくわずかにすることができる。ま
たこの封孔に用いた樹脂のセラミック層全体に占める割
付は、5〜15 vo1%と少ないため、封孔したセラ
ミック層は、セラミック本来の特性を失なうことはない
。
また従来のセラミック浴剤基板では、銅箔層の形成には
、無電解めっきまたは無電踏めっきと電解めっきの工程
を心安としているが、本発明の方法によると銅箔層は熱
圧成形による接層によって形成されるため、めっき工程
は不要であり、しかもこの銅箔層を形成する工程は、セ
ラミック層の気孔を封孔する工程と同時に行えるため、
工程のfm)素化になり生産性が同上する。
、無電解めっきまたは無電踏めっきと電解めっきの工程
を心安としているが、本発明の方法によると銅箔層は熱
圧成形による接層によって形成されるため、めっき工程
は不要であり、しかもこの銅箔層を形成する工程は、セ
ラミック層の気孔を封孔する工程と同時に行えるため、
工程のfm)素化になり生産性が同上する。
さらに本発明の方法では、樹脂が銅箔層とセラミックノ
ーの接層に寄与するため密層性にすぐn。
ーの接層に寄与するため密層性にすぐn。
セラミックノーへ鋼めっきした場会でを工、到底望めな
い銅箔層とセラミック層の強固な艦盾力が得られる。
い銅箔層とセラミック層の強固な艦盾力が得られる。
また本発明の方法によって得らnる積層機を工、低熱膨
張率、高熱伝導率、高耐性のセラミックIf!jを有す
るため、寸法変化が/JNさく、黒数触性、1はt熱性
にすぐ216等の従来の有機質糸4叡にはない欽々のす
ぐれた性質を有する。
張率、高熱伝導率、高耐性のセラミックIf!jを有す
るため、寸法変化が/JNさく、黒数触性、1はt熱性
にすぐ216等の従来の有機質糸4叡にはない欽々のす
ぐれた性質を有する。
しかも、回路の形成、スルーホールの形成′を工、有+
j&質糸基板と同じ簡便な方法で行うことができる。
j&質糸基板と同じ簡便な方法で行うことができる。
以下、実施例を亭げて本@明を説明すΦ。
(実施例)
厚さ2IIII11のステンレス板1の片開に、フ゛ラ
スマ帛躬装竹を用いてアルミナを削酌して、厚さ約10
0μmのアルミナ浴剰層2を形成した。
スマ帛躬装竹を用いてアルミナを削酌して、厚さ約10
0μmのアルミナ浴剰層2を形成した。
次に第1図のごとくアルミナ浴剤層2を形成した2枚の
ステンレス板1の間に、ガラス布基材エポキク樹脂宮浸
プリプレグ6(成形時厚みα21IIf11)を配置し
、ζrLを熱圧成形して一体化した。
ステンレス板1の間に、ガラス布基材エポキク樹脂宮浸
プリプレグ6(成形時厚みα21IIf11)を配置し
、ζrLを熱圧成形して一体化した。
樹脂硬化完了後、こrtv冷却し、ステンレス板1をア
ルミナfj剰ノー2力為ら引きはがした。アルミナ溶射
層はカラス布基材エポキ7桐脂層と強固に密着している
ためステンレス板1・工、綱べらでこじあけることによ
り簡単に引きはがすことができた。
ルミナfj剰ノー2力為ら引きはがした。アルミナ溶射
層はカラス布基材エポキ7桐脂層と強固に密着している
ためステンレス板1・工、綱べらでこじあけることによ
り簡単に引きはがすことができた。
次にステンレス機を引f!はがした後のアルミナ溶射層
の表囲に、未硬化のエポキシ拘脂(プリプレグ6に使用
した樹脂と同一のもの)會ハケ塗りし、溶射アルミナの
気孔を射孔するとともに、アルミナ層の表圓に樹脂層5
を形成した。
の表囲に、未硬化のエポキシ拘脂(プリプレグ6に使用
した樹脂と同一のもの)會ハケ塗りし、溶射アルミナの
気孔を射孔するとともに、アルミナ層の表圓に樹脂層5
を形成した。
この樹脂の層と、銅W34の粗化面とを合わせるように
図2のごとく配置し、書び熱圧成形し、樹脂を硬化させ
た。
図2のごとく配置し、書び熱圧成形し、樹脂を硬化させ
た。
このようにして得た綱慢セラミックコート積層板は、図
3に示すようにガラス基材エボキ7樹脂層60両向にア
ルミナ層を有するために、熱膨張係数が/J%さく、熱
伝導性、耐熱性にすぐれ、また両射アルミナに特有の気
孔も檎鹿で封孔されているため、吸湿後の電気#g縁性
もすぐれていた。
3に示すようにガラス基材エボキ7樹脂層60両向にア
ルミナ層を有するために、熱膨張係数が/J%さく、熱
伝導性、耐熱性にすぐれ、また両射アルミナに特有の気
孔も檎鹿で封孔されているため、吸湿後の電気#g縁性
もすぐれていた。
また銅箔と樹脂層、アルミナ層と樹脂層の密層も良好で
あり、一般のガラス布基材エポキシ81脂積層板と同様
の方法でヱッテングによりパターン形成、スルーホール
の形K カEll能でめった。なお本積層板の!111
箔引きはかしg1度は、2゜Q 昧/ cmと十分な接
層性を示し、!た260℃のオイルと常温の水に交互に
浸漬する熱衝撃試験において50テイクル試験後も、は
く離、ふくれ、ひび割れ等の欠陥の発生&1餡められな
刀為った0 (比較例) 実施例と同様の構成でアルミナを帛躬したステンレス板
とプリプレグを熱圧成形した。ただしアルミナ層からス
テンレス41!2金を工く陥した後に、アルミナ層に樹
脂を塗布含浸し、熱圧成形によってjIlIII陥NI
を設けるので・工なく、無電解めっきで餉箔層を形成し
た。餉箔ひきはがし強度!! 0.5 kg / cn
+1あり、またアルミナJ@にを工8vo1%程腿の気
孔があるため、260℃のオイルと常温の水とに交互K
N演する熱(Jli撃試潰において5?イクル試験後に
ふくれが発生した。
あり、一般のガラス布基材エポキシ81脂積層板と同様
の方法でヱッテングによりパターン形成、スルーホール
の形K カEll能でめった。なお本積層板の!111
箔引きはかしg1度は、2゜Q 昧/ cmと十分な接
層性を示し、!た260℃のオイルと常温の水に交互に
浸漬する熱衝撃試験において50テイクル試験後も、は
く離、ふくれ、ひび割れ等の欠陥の発生&1餡められな
刀為った0 (比較例) 実施例と同様の構成でアルミナを帛躬したステンレス板
とプリプレグを熱圧成形した。ただしアルミナ層からス
テンレス41!2金を工く陥した後に、アルミナ層に樹
脂を塗布含浸し、熱圧成形によってjIlIII陥NI
を設けるので・工なく、無電解めっきで餉箔層を形成し
た。餉箔ひきはがし強度!! 0.5 kg / cn
+1あり、またアルミナJ@にを工8vo1%程腿の気
孔があるため、260℃のオイルと常温の水とに交互K
N演する熱(Jli撃試潰において5?イクル試験後に
ふくれが発生した。
(発明の効果)
本発明の方法により、従来の有a質基鈑tペースとして
、その表面にセラミックノーヲ有する積層叡會容易にし
かも安価に製造することができる。本発明により得らr
する積層機は、特性的にすぐnたもので、回路形成、ス
ルーホールの形成などの饋加工も従来の有機質基板と同
様の方法で行うことができ、従来のセラミック基板、メ
タルコアlk板の問題点を暦決し得るものである。
、その表面にセラミックノーヲ有する積層叡會容易にし
かも安価に製造することができる。本発明により得らr
する積層機は、特性的にすぐnたもので、回路形成、ス
ルーホールの形成などの饋加工も従来の有機質基板と同
様の方法で行うことができ、従来のセラミック基板、メ
タルコアlk板の問題点を暦決し得るものである。
第1囚はアルミナ浴剤JfIIを形成したステンレス板
とプリ7”レグの積層構成図、第2図は*箔とセラミッ
クコートガラス布基拐エボキ741(脂の積層構成図、
第6図は本発明により得らnる銅張セラばツクコートv
4層板の萌向僕弐図である。 符号の説明 1 ステンレス機 2 アルミナ俗別ノー6 プリ
プレグ 4 銅箔 5 エポキシ樹脂 6 ガラス布基材エボキ7位j
廁
とプリ7”レグの積層構成図、第2図は*箔とセラミッ
クコートガラス布基拐エボキ741(脂の積層構成図、
第6図は本発明により得らnる銅張セラばツクコートv
4層板の萌向僕弐図である。 符号の説明 1 ステンレス機 2 アルミナ俗別ノー6 プリ
プレグ 4 銅箔 5 エポキシ樹脂 6 ガラス布基材エボキ7位j
廁
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、銅箔と繊維強化プラスチックとの間にセラミック層
を有する銅張セラミックコート積層板の製造において、 a、金属板にセラミックを溶射してセラミック層を形成
する第1工程、 b、該セラミック層と接するようにプリプレグを積層し
て熱圧成形し、これを一体化す る第2工程、 c、第一工程においてセラミックを溶射した金属板をセ
ラミック層から引きはがす第3 工程、 d、第3工程で得たセラミックコート積層板の表面のセ
ラミック層に未硬化の熱硬化性 樹脂を塗布、含浸させる第4工程、 e、第4工程で未硬化の熱硬化性樹脂を塗布、含浸させ
たセラミック層に銅箔を載置し、 これを熱圧成形する第5工程、 からなることを特徴とするセラミックコート積層板の製
造方法。 2、セラミックがアルミナを主成分とするものである特
許請求の範囲第1項記載の銅張セラミックコート積層板
の製造方法。 3、プリプレグの樹脂がエポキシ樹脂である特許請求の
範囲第1項記載の銅張セラミックコート積層板の製造方
法。 4、プリプレグの樹脂がポリイミド樹脂である特許請求
の範囲第1項記載の銅張セラミックコート積層板の製造
方法。 5、プリプレグの補強繊維がガラス繊維である特許請求
の範囲第1項記載の銅張セラミックコート積層板の製造
方法。 6、セラミック層に塗布、含浸させる樹脂が、エポキシ
樹脂である特許請求の範囲第1項記載の銅張セラミック
コート積層板の製造方法。 7、セラミック層に塗布、含浸させる樹脂が、ポリイミ
ド樹脂である特許請求の範囲第1項記載の銅張セラミッ
クコート積層板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4062287A JPS63207638A (ja) | 1987-02-24 | 1987-02-24 | 銅張セラミツクコ−ト積層板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4062287A JPS63207638A (ja) | 1987-02-24 | 1987-02-24 | 銅張セラミツクコ−ト積層板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63207638A true JPS63207638A (ja) | 1988-08-29 |
Family
ID=12585633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4062287A Pending JPS63207638A (ja) | 1987-02-24 | 1987-02-24 | 銅張セラミツクコ−ト積層板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63207638A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013211597A (ja) * | 2010-03-31 | 2013-10-10 | Kyocera Corp | インターポーザーの製造方法 |
-
1987
- 1987-02-24 JP JP4062287A patent/JPS63207638A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013211597A (ja) * | 2010-03-31 | 2013-10-10 | Kyocera Corp | インターポーザーの製造方法 |
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