JPS63206715A - 縮小投影型目合露光装置 - Google Patents
縮小投影型目合露光装置Info
- Publication number
- JPS63206715A JPS63206715A JP62040741A JP4074187A JPS63206715A JP S63206715 A JPS63206715 A JP S63206715A JP 62040741 A JP62040741 A JP 62040741A JP 4074187 A JP4074187 A JP 4074187A JP S63206715 A JPS63206715 A JP S63206715A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- reduction
- optical
- light
- subject
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 210000000744 eyelid Anatomy 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
- G03F9/7026—Focusing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔座業上の利用分野〕
本発明框、半導体装１ｍ製造用の縮小投影型目合蕗光装
置（以下ステッパーという）に関するものである。
置（以下ステッパーという）に関するものである。
従来、この種のステッパーにおいて框、第２図に示す様
にオートフォーカス系は１発光管２．受光器４で構成さ
れ、縮小レンズｌとは、別個の系となっていた。
にオートフォーカス系は１発光管２．受光器４で構成さ
れ、縮小レンズｌとは、別個の系となっていた。
〔発明がＮ４犬しようとする問題点〕
上述した従来のオートフォーカス系で框、縮小レンズと
は、別の糸で、被写体の位ｆｉｔ ｔ−６１１定し、そ
れによって、ＷＬ写体を縮小レンズの焦点に移動させる
ため、オートフォーカス系で求めた被写体の最良の位置
と、縮小レンズの焦点が、常に一致していることが前提
条件となっていた。ところが。
は、別の糸で、被写体の位ｆｉｔ ｔ−６１１定し、そ
れによって、ＷＬ写体を縮小レンズの焦点に移動させる
ため、オートフォーカス系で求めた被写体の最良の位置
と、縮小レンズの焦点が、常に一致していることが前提
条件となっていた。ところが。
実際には１組小レンズは、複数のレンズを組み合わせで
あり、気温、気圧、ｇ光の際の柴外巌等の要因により、
レンズ、及びレンズ間の媒体の膨張系数の違いにより、
その焦点に１元学的に変化しているにもかかわらず、従
来のオートフォーカス系でａ、その変化を検知できず、
結果的に、被写体上での焦点ズレを起こすという欠点が
あり六。
あり、気温、気圧、ｇ光の際の柴外巌等の要因により、
レンズ、及びレンズ間の媒体の膨張系数の違いにより、
その焦点に１元学的に変化しているにもかかわらず、従
来のオートフォーカス系でａ、その変化を検知できず、
結果的に、被写体上での焦点ズレを起こすという欠点が
あり六。
この焦点ズレという欠点は、ステッパーのｇ、買上。
ｐｓ像度の低下をも次らし、製品の＄−留シ及びその晶
質を低下させるという点大な問題があった。
質を低下させるという点大な問題があった。
本発明は、前記問題点ｔ−屏消し、縮小レンズの光学的
変化に拘らず縮小レンズの焦点と一致したフォーカス点
を得ることができるオートフォーカス系をもったステッ
パーを提供することにある。
変化に拘らず縮小レンズの焦点と一致したフォーカス点
を得ることができるオートフォーカス系をもったステッ
パーを提供することにある。
本発明は、光学的にオートフォーカスを行うステッパー
において、縮小レンズの上に、ノ１−７ミラーをおくこ
とを特徴としている。
において、縮小レンズの上に、ノ１−７ミラーをおくこ
とを特徴としている。
次に本発明の一実施例について図面を用いて説明する。
第１図は本発明の一実施例についての９１１Ｊ面凶であ
る。第１凶について本発明は発光器２１発光器４及びハ
ーフミラ−５・６を縮小レンズの上に設け１発光器２か
ら出た光をハーフミラ−５によって縮小レンズｌに送り
、被写体３からの反射光をハーフミラ−６によって受光
器４に導くものである。その他、７は光路差を補正する
レンズでめる。
る。第１凶について本発明は発光器２１発光器４及びハ
ーフミラ−５・６を縮小レンズの上に設け１発光器２か
ら出た光をハーフミラ−５によって縮小レンズｌに送り
、被写体３からの反射光をハーフミラ−６によって受光
器４に導くものである。その他、７は光路差を補正する
レンズでめる。
ソシてオートフォーカスは次の原理によって行う。
あらかじめ縮小レンズｌと、フォトレチクル８までの光
学的距離と縮小レンズ１と受光器４までの光学的′１１
Ａ＃１１１ｔ同じにしておき、受光器４に入る反射光の
元素が最大になる点を被写体の７オ一カス点とする。
学的距離と縮小レンズ１と受光器４までの光学的′１１
Ａ＃１１１ｔ同じにしておき、受光器４に入る反射光の
元素が最大になる点を被写体の７オ一カス点とする。
以上説明したように不発明に、オートフォーカスの光学
系を縮小レンズを通した光学系にすることによって、縮
小レンズが受ける外的要因の影響をＩＷ１様にオートフ
ォーカス系もうけるため１両肴のフォーカス点に、ズレ
が生じないという効果がある。
系を縮小レンズを通した光学系にすることによって、縮
小レンズが受ける外的要因の影響をＩＷ１様にオートフ
ォーカス系もうけるため１両肴のフォーカス点に、ズレ
が生じないという効果がある。
第１１凶ａ１不発明の一実施例の傅成ｔボ丁愉面図、第
２図ｒＸ％従来のオートフォーカス糸の樽収を示ｔＩＩ
ＪｒｋＩ！ｉｑ”ｌ’６ 、ｂ。 ｌ・・・・・・縮小レンズ％２・・・・・・発光器、３
・・・・・・被写体、４・・・・・・受光器、５，６・
・・・・・ハーフミラ−１７・・・・・・光路補正レン
ズ、８・・・・・・フォトレチクル。 ＼ ・ 、′
２図ｒＸ％従来のオートフォーカス糸の樽収を示ｔＩＩ
ＪｒｋＩ！ｉｑ”ｌ’６ 、ｂ。 ｌ・・・・・・縮小レンズ％２・・・・・・発光器、３
・・・・・・被写体、４・・・・・・受光器、５，６・
・・・・・ハーフミラ−１７・・・・・・光路補正レン
ズ、８・・・・・・フォトレチクル。 ＼ ・ 、′
Claims (1)
- 光を用いた光学的なオートフォーカス機構をもつ縮小投
影型目合露光装置において、縮小レンズの上にハーフミ
ラーをもつことを特徴とする縮小投影型目合露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62040741A JPS63206715A (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 縮小投影型目合露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62040741A JPS63206715A (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 縮小投影型目合露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63206715A true JPS63206715A (ja) | 1988-08-26 |
Family
ID=12589059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62040741A Pending JPS63206715A (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 縮小投影型目合露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63206715A (ja) |
-
1987
- 1987-02-23 JP JP62040741A patent/JPS63206715A/ja active Pending
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