JPS63201030A - フツ素添加光フアイバの製造方法 - Google Patents
フツ素添加光フアイバの製造方法Info
- Publication number
- JPS63201030A JPS63201030A JP3266087A JP3266087A JPS63201030A JP S63201030 A JPS63201030 A JP S63201030A JP 3266087 A JP3266087 A JP 3266087A JP 3266087 A JP3266087 A JP 3266087A JP S63201030 A JPS63201030 A JP S63201030A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- fluorine
- optical fiber
- fine
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 49
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims abstract 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 3
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 15
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910018503 SF6 Inorganic materials 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 4
- SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N sulfur hexafluoride Chemical compound FS(F)(F)(F)(F)F SFZCNBIFKDRMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960000909 sulfur hexafluoride Drugs 0.000 description 4
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N boron tribromide Chemical compound BrB(Br)Br ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000009418 renovation Methods 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/36—Fuel or oxidant details, e.g. flow rate, flow rate ratio, fuel additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/70—Control measures
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は、フッ素が添加されたく典型的にはクラッド
部に)光ファイバの製造方法に関し、特に、コア・クラ
ッド間の境界部分の不整が少なく、伝送損失(以下、単
に損失という)の非常に低い光ファイバを製造できるよ
うに改善した製造方法に関する。
部に)光ファイバの製造方法に関し、特に、コア・クラ
ッド間の境界部分の不整が少なく、伝送損失(以下、単
に損失という)の非常に低い光ファイバを製造できるよ
うに改善した製造方法に関する。
光ファイバの構造・組成としては様々なものが知られて
いるが、その中で、石英ガラスを主成分とする光ファイ
バは、現在製造されているもののうちで最も安定に低損
失が実現できることがら、光フアイバ通信用に最も多く
使用されている。 このうち、クラッドにフッ素を含む石英系光ファイバは
非常に低損失にできる°可能性のあるものとして知られ
ている。すなわち、クラッドにフッ素を添加することに
よりクラッドの屈折率を純粋石英ガラスよりも低下させ
ることができるので、相対的にコアの屈折率をそれほど
増加させる必要がなくなり、その結果、コア部に添加す
る添加物(ドーパントということもあり、ゲルマニウム
、リン、アンチモン等の石英ガラスの屈折率を増加させ
る物質)の量を少なくすることができる。−最にこのよ
うな石英ガラスの屈折率を増大させる添加物をガラス中
に混入すると、屈折率のゆらぎが増大するため、光フア
イバ中を伝播する光にとって有害な散乱が生じ易い。つ
まり、伝送特性上、ガラスの屈折率を増大させる添加物
は散乱損失の増加を招くことが多い。そこで、フッ素を
添加すれば、このような損失増加を少なくでき、非常に
低損失な光ファイバを作製できる可能性がある。 クラッドにフッ素を添加した光ファイバ(もちろん、コ
アにもフッ素を添加することを妨げるものではなく、必
要に応じてコアにもクラッドにもフッ素を添加して構わ
ない)を作製する1つの有力な方法として、従来より次
のような方法が知られている。 まず第1に、コアとなるべき透明なガラス棒を準備する
。このガラス棒の材料としては、純粋な石英ガラス、あ
るいは、必要量の添加物(たとえば、ゲルマニウム、リ
ン、小量のフッ素など、一般に石英系ガラス光ファイバ
の作製に使用されているもの)を添加した石英ガラスを
使用できる。 次に、火炎加水分解法もしくは熱酸化法などによりガラ
ス微粒子を発生させ、これを上記のガラス棒の上に堆積
させる。 さらに、このようなガラス微粒子の堆積によって得た複
合プリフォームく中心の透明なガラス棒の周囲にガラス
微粒子層を有するプリフォーム)を、高温のフッ素含有
雰囲気下で熱処理することによりガラス微粒子中にフッ
素を添加するとともに、次の工程で、さらに高温雰囲気
とし、全体に透明ガラス棒とし、これによって光フアイ
バプリフォームを得る。
いるが、その中で、石英ガラスを主成分とする光ファイ
バは、現在製造されているもののうちで最も安定に低損
失が実現できることがら、光フアイバ通信用に最も多く
使用されている。 このうち、クラッドにフッ素を含む石英系光ファイバは
非常に低損失にできる°可能性のあるものとして知られ
ている。すなわち、クラッドにフッ素を添加することに
よりクラッドの屈折率を純粋石英ガラスよりも低下させ
ることができるので、相対的にコアの屈折率をそれほど
増加させる必要がなくなり、その結果、コア部に添加す
る添加物(ドーパントということもあり、ゲルマニウム
、リン、アンチモン等の石英ガラスの屈折率を増加させ
る物質)の量を少なくすることができる。−最にこのよ
うな石英ガラスの屈折率を増大させる添加物をガラス中
に混入すると、屈折率のゆらぎが増大するため、光フア
イバ中を伝播する光にとって有害な散乱が生じ易い。つ
まり、伝送特性上、ガラスの屈折率を増大させる添加物
は散乱損失の増加を招くことが多い。そこで、フッ素を
添加すれば、このような損失増加を少なくでき、非常に
低損失な光ファイバを作製できる可能性がある。 クラッドにフッ素を添加した光ファイバ(もちろん、コ
アにもフッ素を添加することを妨げるものではなく、必
要に応じてコアにもクラッドにもフッ素を添加して構わ
ない)を作製する1つの有力な方法として、従来より次
のような方法が知られている。 まず第1に、コアとなるべき透明なガラス棒を準備する
。このガラス棒の材料としては、純粋な石英ガラス、あ
るいは、必要量の添加物(たとえば、ゲルマニウム、リ
ン、小量のフッ素など、一般に石英系ガラス光ファイバ
の作製に使用されているもの)を添加した石英ガラスを
使用できる。 次に、火炎加水分解法もしくは熱酸化法などによりガラ
ス微粒子を発生させ、これを上記のガラス棒の上に堆積
させる。 さらに、このようなガラス微粒子の堆積によって得た複
合プリフォームく中心の透明なガラス棒の周囲にガラス
微粒子層を有するプリフォーム)を、高温のフッ素含有
雰囲気下で熱処理することによりガラス微粒子中にフッ
素を添加するとともに、次の工程で、さらに高温雰囲気
とし、全体に透明ガラス棒とし、これによって光フアイ
バプリフォームを得る。
しかしながら、このような製造方法を単に適用して光フ
アイバプリフォームを作製しても、必ずしも低損失な光
ファイバを製造できないという問題がある。 この発明は、損失を非常に低くすることができるよう改
善したフッ素添加光ファイバの製造方法を提供すること
を目的とする。
アイバプリフォームを作製しても、必ずしも低損失な光
ファイバを製造できないという問題がある。 この発明は、損失を非常に低くすることができるよう改
善したフッ素添加光ファイバの製造方法を提供すること
を目的とする。
この発明によるフッ素添加光ファイバの製造方法は、透
明なガラス棒上に平均粒径0.05μm以下のガラス微
粉末を堆積させる工程と、次にこのガラス微粉末堆積層
の上に平均粒径0.05μm以上のガラス微粉末を堆積
させる工程と、この得られたガラス棒及びガラス微粉末
堆積層の複合プリフォームをフッ素含有雰囲気下で熱処
理する工程とを有することを特徴とする。
明なガラス棒上に平均粒径0.05μm以下のガラス微
粉末を堆積させる工程と、次にこのガラス微粉末堆積層
の上に平均粒径0.05μm以上のガラス微粉末を堆積
させる工程と、この得られたガラス棒及びガラス微粉末
堆積層の複合プリフォームをフッ素含有雰囲気下で熱処
理する工程とを有することを特徴とする。
本発明者らは、上記のような従来のフッ素添加光ファイ
バの製造方法を単純に適用しただけでは必ずしも低損失
な光ファイバが得られないことの調査を行ううち、数多
くの実験の結果、堆積するガラス微粒子の粒径と最終的
な光ファイバの損失とが非常に大きな相関を有すること
を見いだした。 すなわち、ガラス微粉末の粒径を変えて堆積しガラス棒
及びガラス微粉末堆積層の複合プリフォームを作り、こ
の複合プリフォームを経由して光ファイバを作製し、ガ
ラス微粒子の粒径に対する損失を測定してみたところ、
第3図のような相関が見られ、平均粒径0.05μm以
下とすることにより、低損失な光ファイバが得られるこ
とが分かった。 この理由として、次のような解釈をすることが可能であ
る。第4図のように透明なガラス棒1の上にガラス微粒
子堆積層4が堆積されている場合を考えると、各ガラス
微粒子5の大きさや、ガラス棒1への接着もしくは融着
の仕方により、次工程であるフッ素添加工程でのフッ素
の拡散の様子が異なるものと思われる。たとえば、第4
図のようにガラス微粒子5の大きさが異なる場合、非常
に大きい粒径のものについてはフッ素はその内部にまで
侵入することができず、フッ素濃度は斜線で示したよう
な部分で高くなり、すなわち外側の部分で高く、内部で
低くなって、均一にならない。 これは、石英ガラス中のフッ素の拡散距離が、通常の加
熱条件ではせいぜい0.1μm程度と推定されるからで
ある。そのため、粒径の大きなガラス微粒子が透明ガラ
ス棒の表面に付着した場合、最終的に得られる光ファイ
バのコア・クラッド間の境界面にフッ素添加濃度の不均
一による屈折率のゆらぎが残留してしまう。このような
コア・クラッド境界での屈折率のゆらぎが残留すると、
光ファイバの伝送理論解析書をまつまでもなくいわゆる
散乱損失増加が生じることになる。 特に、単一モード光ファイバでは、伝播するモードがた
だ1つであり、しかもこのモードはコア・クラッド境界
においてかなり強い電界強度を有するので、僅かな屈折
率のゆらぎが存在しても、大きな散乱損失増加に結び付
く。なお、多モード光ファイバでは、伝播するモードの
うちの大部分はコア内にその伝播光電力の多くの割合が
閉じ込められており、そのためコア・クラッド境界にお
ける電界強度はあまり大きくないので、比較的問題が少
ない。これに対し、近年盛んに用いられている1、3μ
mないし1.55μm帯を伝送波長として使用する単一
モード光ファイバでは、もともと、ガラスの固有損失が
0.15ないし0.3dB/kmと小さいため、僅かな
散乱損失があっても影響が非常に大きいのである。 このように本発明者らの実験(第3図)では、低損失な
光ファイバを製造する上で、粒径の小さいガラス微粒子
をガラス棒上に堆積させることが非常に効果的であると
の結論に導かれる。ガラス棒のごく近傍に堆積したガラ
ス微粒子を電子閉微鏡で観察すると、平均的に0.05
μm以下の粒径のガラス微粒子が堆積するような製造条
件で作製したプリフォームが好結果をもたらしており、
大きな粒径の場合には損失が大きい。また、このような
粒径の小さな粒子の堆積はガラス棒の近傍のみで十分で
あり、堆積層の全体で粒径を小さくする必要はない。単
一モード光ファイバにつき具体的には、最終的に得られ
る光ファイバの寸法で言うと、コア径を12μmとした
とき、粒径の小さなガラス微粒子の堆積層から形成した
クラッドガラス層の厚さがコア径の2分の1ないしコア
径と同一程度の厚みとなっていればいればよい。クラ・
ンド部のこの厚みよりも外側のガラスは、通常の条件に
より平均的な粒径が0.1μmかそれ以上の大きさのガ
ラス微粒子堆積層から作製しても構わないのである。
バの製造方法を単純に適用しただけでは必ずしも低損失
な光ファイバが得られないことの調査を行ううち、数多
くの実験の結果、堆積するガラス微粒子の粒径と最終的
な光ファイバの損失とが非常に大きな相関を有すること
を見いだした。 すなわち、ガラス微粉末の粒径を変えて堆積しガラス棒
及びガラス微粉末堆積層の複合プリフォームを作り、こ
の複合プリフォームを経由して光ファイバを作製し、ガ
ラス微粒子の粒径に対する損失を測定してみたところ、
第3図のような相関が見られ、平均粒径0.05μm以
下とすることにより、低損失な光ファイバが得られるこ
とが分かった。 この理由として、次のような解釈をすることが可能であ
る。第4図のように透明なガラス棒1の上にガラス微粒
子堆積層4が堆積されている場合を考えると、各ガラス
微粒子5の大きさや、ガラス棒1への接着もしくは融着
の仕方により、次工程であるフッ素添加工程でのフッ素
の拡散の様子が異なるものと思われる。たとえば、第4
図のようにガラス微粒子5の大きさが異なる場合、非常
に大きい粒径のものについてはフッ素はその内部にまで
侵入することができず、フッ素濃度は斜線で示したよう
な部分で高くなり、すなわち外側の部分で高く、内部で
低くなって、均一にならない。 これは、石英ガラス中のフッ素の拡散距離が、通常の加
熱条件ではせいぜい0.1μm程度と推定されるからで
ある。そのため、粒径の大きなガラス微粒子が透明ガラ
ス棒の表面に付着した場合、最終的に得られる光ファイ
バのコア・クラッド間の境界面にフッ素添加濃度の不均
一による屈折率のゆらぎが残留してしまう。このような
コア・クラッド境界での屈折率のゆらぎが残留すると、
光ファイバの伝送理論解析書をまつまでもなくいわゆる
散乱損失増加が生じることになる。 特に、単一モード光ファイバでは、伝播するモードがた
だ1つであり、しかもこのモードはコア・クラッド境界
においてかなり強い電界強度を有するので、僅かな屈折
率のゆらぎが存在しても、大きな散乱損失増加に結び付
く。なお、多モード光ファイバでは、伝播するモードの
うちの大部分はコア内にその伝播光電力の多くの割合が
閉じ込められており、そのためコア・クラッド境界にお
ける電界強度はあまり大きくないので、比較的問題が少
ない。これに対し、近年盛んに用いられている1、3μ
mないし1.55μm帯を伝送波長として使用する単一
モード光ファイバでは、もともと、ガラスの固有損失が
0.15ないし0.3dB/kmと小さいため、僅かな
散乱損失があっても影響が非常に大きいのである。 このように本発明者らの実験(第3図)では、低損失な
光ファイバを製造する上で、粒径の小さいガラス微粒子
をガラス棒上に堆積させることが非常に効果的であると
の結論に導かれる。ガラス棒のごく近傍に堆積したガラ
ス微粒子を電子閉微鏡で観察すると、平均的に0.05
μm以下の粒径のガラス微粒子が堆積するような製造条
件で作製したプリフォームが好結果をもたらしており、
大きな粒径の場合には損失が大きい。また、このような
粒径の小さな粒子の堆積はガラス棒の近傍のみで十分で
あり、堆積層の全体で粒径を小さくする必要はない。単
一モード光ファイバにつき具体的には、最終的に得られ
る光ファイバの寸法で言うと、コア径を12μmとした
とき、粒径の小さなガラス微粒子の堆積層から形成した
クラッドガラス層の厚さがコア径の2分の1ないしコア
径と同一程度の厚みとなっていればいればよい。クラ・
ンド部のこの厚みよりも外側のガラスは、通常の条件に
より平均的な粒径が0.1μmかそれ以上の大きさのガ
ラス微粒子堆積層から作製しても構わないのである。
第1図のように、透明なガラス棒1の周囲に、バーナ2
の火炎3中で生成されたガラス微粒子を付着して、ガラ
ス微粒子堆積層4を形成する。この実施例では、ガラス
棒1として、透明でかつ滑らかな表面を有する直径10
mmの純粋石英ガラス棒を用いた。バーナ2に水素、酸
素、四塩化珪素、アルゴンを送り込み、このバーナ2を
ガラス棒1の軸に平行に複数回往復トラバースさせて、
厚さが15mmになるまで粒径の小さなガラス微粒子を
堆積させた。このときの各ガスの流量条件は、水素;4
リットル/分、酸素;8リツ1−ル/分、四塩化珪素:
300cc/分、アルゴン;1リットル/分とした。 水素は燃焼のための燃料であり、酸素は助燃剤、四塩化
珪素はガラスとなる原料ガスである。この堆積中のガラ
ス微粉末堆積層の最高表面温度を二酸化珪素の吸収帯の
存在する5、1μm付近の波長を測定波長とする放射型
温度計を使用して測定したところ、800℃であった。 つぎに、原料ガス流量とともに酸素及び水素の流量も増
加させて引き続いてガラス微粒子の堆積を行い、最終的
に、直径100mmの(ガラス棒1及びその上のガラス
微粒子堆積層4からなる)複合プリフォームを作製した
。 この複合プリフォームを、炉温度1000℃の加熱炉内
で、フッ素含有ガスである六フッ化硫黄とヘリウムガス
の混合ガス雰囲気下で熱処理した。熱処理時間は約2時
間とした。この熱処理は第1段階のもので、その作用は
、フッ素をクラッド内にほぼ均一に添加するために多孔
質ガラス部分に十分にフッ素含有ガスを浸透させること
にある。また、この第1段階の温度下では、六フッ化硫
黄等のフッ素含有ガスはそのかなりの部分が分解してお
り、ある程度活性化されたフッ素原子が生成されている
と考えられ、そのフッ素によりガラス中に残留している
○H基を除去する効果もある。 つぎの第2段階では、加熱炉の温度を約1520℃に上
昇させ、上記のように第1段階の熱処理の終った複合プ
リフォームを透明ガラス化する。このときも望ましくは
、フッ素含有雰囲気、具体的にはたとえばヘリウム90
部に対して六フッ化硫黄10部に設定された雰囲気とす
る。 このようにして作製したプリフォームから光ファイバを
紡糸したところ、その伝送損失波長特性は第2図Aのよ
うになった。なお、同図でBはガラス微粒子の粒径が0
.3μm程度の場合である。 なお、ガラス微粒子の堆積方法としてはいくつかの方法
が知られているが、上記では、水素や天然ガスを燃焼さ
せて得られるような火炎中に、酸化反応もしくは加水分
解反応により酸化物微粒子を生じるような原料を気体と
して送り込み、これによりガラス微粒子を発生させる方
法を採用したわけである。この場合、ガラス原料ガスと
しては、他に三塩化シラン、四塩化ゲルマニウム、オキ
シ塩化リン、三臭化ホウ素等の、■属、■属、V属の金
属ハロゲン化物、一部水素化物等を使用することができ
る。このようなガラス微粒子堆積方法の場合、一般的に
は、発生するガラス微粒子の粒径とバーナの条件との間
に、■バーナの温度を高くするほど粒径が大きくなる傾
向がある、■酸化物を発生させる原料ガスの濃度を濃く
するほど粒径が大きくなる傾向がある、■堆積ターゲッ
トである成長中の複合プリフォームの表面までの距離が
短いほど粒径が小さくなる傾向がある、■バーナで発生
したガラス微粒子の流速が速いはど粒径が小さくなる傾
向がある、というような関係があるので、これを利用す
ることによって、粒径の小さなガラス微粒子を堆積する
ことができる。
の火炎3中で生成されたガラス微粒子を付着して、ガラ
ス微粒子堆積層4を形成する。この実施例では、ガラス
棒1として、透明でかつ滑らかな表面を有する直径10
mmの純粋石英ガラス棒を用いた。バーナ2に水素、酸
素、四塩化珪素、アルゴンを送り込み、このバーナ2を
ガラス棒1の軸に平行に複数回往復トラバースさせて、
厚さが15mmになるまで粒径の小さなガラス微粒子を
堆積させた。このときの各ガスの流量条件は、水素;4
リットル/分、酸素;8リツ1−ル/分、四塩化珪素:
300cc/分、アルゴン;1リットル/分とした。 水素は燃焼のための燃料であり、酸素は助燃剤、四塩化
珪素はガラスとなる原料ガスである。この堆積中のガラ
ス微粉末堆積層の最高表面温度を二酸化珪素の吸収帯の
存在する5、1μm付近の波長を測定波長とする放射型
温度計を使用して測定したところ、800℃であった。 つぎに、原料ガス流量とともに酸素及び水素の流量も増
加させて引き続いてガラス微粒子の堆積を行い、最終的
に、直径100mmの(ガラス棒1及びその上のガラス
微粒子堆積層4からなる)複合プリフォームを作製した
。 この複合プリフォームを、炉温度1000℃の加熱炉内
で、フッ素含有ガスである六フッ化硫黄とヘリウムガス
の混合ガス雰囲気下で熱処理した。熱処理時間は約2時
間とした。この熱処理は第1段階のもので、その作用は
、フッ素をクラッド内にほぼ均一に添加するために多孔
質ガラス部分に十分にフッ素含有ガスを浸透させること
にある。また、この第1段階の温度下では、六フッ化硫
黄等のフッ素含有ガスはそのかなりの部分が分解してお
り、ある程度活性化されたフッ素原子が生成されている
と考えられ、そのフッ素によりガラス中に残留している
○H基を除去する効果もある。 つぎの第2段階では、加熱炉の温度を約1520℃に上
昇させ、上記のように第1段階の熱処理の終った複合プ
リフォームを透明ガラス化する。このときも望ましくは
、フッ素含有雰囲気、具体的にはたとえばヘリウム90
部に対して六フッ化硫黄10部に設定された雰囲気とす
る。 このようにして作製したプリフォームから光ファイバを
紡糸したところ、その伝送損失波長特性は第2図Aのよ
うになった。なお、同図でBはガラス微粒子の粒径が0
.3μm程度の場合である。 なお、ガラス微粒子の堆積方法としてはいくつかの方法
が知られているが、上記では、水素や天然ガスを燃焼さ
せて得られるような火炎中に、酸化反応もしくは加水分
解反応により酸化物微粒子を生じるような原料を気体と
して送り込み、これによりガラス微粒子を発生させる方
法を採用したわけである。この場合、ガラス原料ガスと
しては、他に三塩化シラン、四塩化ゲルマニウム、オキ
シ塩化リン、三臭化ホウ素等の、■属、■属、V属の金
属ハロゲン化物、一部水素化物等を使用することができ
る。このようなガラス微粒子堆積方法の場合、一般的に
は、発生するガラス微粒子の粒径とバーナの条件との間
に、■バーナの温度を高くするほど粒径が大きくなる傾
向がある、■酸化物を発生させる原料ガスの濃度を濃く
するほど粒径が大きくなる傾向がある、■堆積ターゲッ
トである成長中の複合プリフォームの表面までの距離が
短いほど粒径が小さくなる傾向がある、■バーナで発生
したガラス微粒子の流速が速いはど粒径が小さくなる傾
向がある、というような関係があるので、これを利用す
ることによって、粒径の小さなガラス微粒子を堆積する
ことができる。
この発明によれば、コア・クラッド間の境界部分の不整
の少ない、非常に低損失なフッ素添加光ファイバを製造
することができる。
の少ない、非常に低損失なフッ素添加光ファイバを製造
することができる。
第1図はこの発明の一実施例の模式的な斜視図、第2図
は同実施例で得られた光ファイバの損失波長特性及び参
考例の損失波長特性を示すグラフ、第3図は堆積したガ
ラス微粒子の粒径と損失との相関関係を示すグラフ、第
4図はフッ素濃度分布を表す拡大断面図である。 1・・・ガラス棒、2・・・バーナ、3・・・火炎、4
・・・ガラス微粒子堆積層、5・・・ガラス微粒子。
は同実施例で得られた光ファイバの損失波長特性及び参
考例の損失波長特性を示すグラフ、第3図は堆積したガ
ラス微粒子の粒径と損失との相関関係を示すグラフ、第
4図はフッ素濃度分布を表す拡大断面図である。 1・・・ガラス棒、2・・・バーナ、3・・・火炎、4
・・・ガラス微粒子堆積層、5・・・ガラス微粒子。
Claims (3)
- (1)透明なガラス棒上に平均粒径0.05μm以下の
ガラス微粉末を堆積させる工程と、次にこのガラス微粉
末堆積層の上に平均粒径0.05μm以上のガラス微粉
末を堆積させる工程と、この得られたガラス棒及びガラ
ス微粉末堆積層の複合プリフォームをフッ素含有雰囲気
下で熱処理する工程とを有することを特徴とするフッ素
添加光ファイバの製造方法。 - (2)透明なガラス棒上に平均粒径0.05μm以下の
ガラス微粉末を堆積させる工程は、酸化してガラスとな
る原料ガスを、その濃度を随伴するキャリアガスに対し
て10%以下として火炎中に送り込むとともに、堆積中
のターゲット表面温度を800℃以下として行うことを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のフッ素添加光フ
ァイバの製造方法。 - (3)透明なガラス棒は、純粋な石英ガラスに対して0
.1%の屈折率差を与える添加物濃度以下の濃度で添加
物を含む石英系ガラスまたは純粋石英ガラスであること
を特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の
フッ素添加光ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3266087A JPH0832569B2 (ja) | 1987-02-16 | 1987-02-16 | フツ素添加光フアイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3266087A JPH0832569B2 (ja) | 1987-02-16 | 1987-02-16 | フツ素添加光フアイバの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63201030A true JPS63201030A (ja) | 1988-08-19 |
JPH0832569B2 JPH0832569B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=12365019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3266087A Expired - Lifetime JPH0832569B2 (ja) | 1987-02-16 | 1987-02-16 | フツ素添加光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0832569B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0976690A2 (en) * | 1998-07-29 | 2000-02-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Porous or vitrified preforms for optical fibres and methods for producing them |
-
1987
- 1987-02-16 JP JP3266087A patent/JPH0832569B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0976690A2 (en) * | 1998-07-29 | 2000-02-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Porous or vitrified preforms for optical fibres and methods for producing them |
EP0976690A3 (en) * | 1998-07-29 | 2000-12-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Porous or vitrified preforms for optical fibres and methods for producing them |
US6306500B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-10-23 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Porous optical fiber base materials, optical fiber base materials and methods for producing them |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0832569B2 (ja) | 1996-03-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2959877B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
JP2005502071A (ja) | フッ素含有領域を有する光導波路物品 | |
US3932160A (en) | Method for forming low loss optical waveguide fibers | |
US6776012B2 (en) | Method of making an optical fiber using preform dehydration in an environment of chlorine-containing gas, fluorine-containing gases and carbon monoxide | |
KR19980064732A (ko) | 광파이버와 이것을 제조하는 방법 | |
EP0164103A2 (en) | Method for producing glass preform for optical fiber containing fluorine in cladding | |
KR100878709B1 (ko) | 산소 화학량론을 조정하여 광섬유를 제조하는 방법 | |
JP4079204B2 (ja) | 光ファイバ母材用石英ガラス管及びその製造方法 | |
JPS63199303A (ja) | 漏洩光フアイバとその製造方法 | |
JPS63201030A (ja) | フツ素添加光フアイバの製造方法 | |
JPH0281004A (ja) | 光ファイバおよびその製造方法 | |
JPS60263103A (ja) | 光フアイバ用母材およびその製造方法 | |
JPS638707A (ja) | 分散シフト光フアイバ | |
JPS632900B2 (ja) | ||
JP3439258B2 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
KR830002121B1 (ko) | 광 파이버 | |
JPS6140843A (ja) | 光フアイバ | |
JPH0469569B2 (ja) | ||
JPS632902B2 (ja) | ||
JPH01242432A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
JPH0329732B2 (ja) | ||
JPS6172643A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
JPS62283838A (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
JPH0735266B2 (ja) | 光フアイバおよびその製造方法 | |
JPH0733460A (ja) | 光ファイバプリフォームおよびその製造方法 |