JPS63200581A - 半導体レ−ザ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体基板の表面にレーザチップをダイボン
デングして成る半導体レーザのうち、前記半導体基板の
表面の一部にモニター用フォトダイオード部を形成して
なる半導体レーザの改良に関するものである。

〔従来の技術〕

半導体基板の表面にレーザチップをダイボンデングして
成る半導体レーザには、その半導体基板の表面の一部に
モニター用フォトダイオード部を形成したものがあり、
先行技術としての実開昭６１−１５１３６５号公報は、
第１３図に示すように、レーザチップ１をダイボンデン
グする半導体基板２０表面の一部にＰ＋型半導体Ｊｉ２
ｂを有するモニター用フォトダイオード部３を形成した
半導体レーザにおいて、前記モニター用フォー１〜ダイ
オード部３の表面に絶縁膜４を形成する一方、前記半導
体基板２におけるレーザチップのダイポンチング部５０
表面に前記レーザチップ１を、当該レーザチップ１のモ
ニター用レーザビーム出射面ＩＣ側における一部か前記
絶縁膜４を挟んだ状態で前記モニター用フォトダイオー
ド部３に重なるようにして載置して、ダイボンデング材
６にてダイボンデング部５に対してダイボンデングする
ことにより（但し、符号１ａはレーザチップ１における
活性層を、１ｂはレーザチップ１におけるレーザビーム
出射面を各々示す）、レーザチップ１におけるモニター
用レーザビーム出射面側ＩＣから発射されるモニター用
レーザビーム７の前記モニター用フォトダイオード部３
に対する受光量の増大を図ることを提案している。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、このように半導体基板２の一部に形成したモニ
ター用フォトダイオード部３の表面に絶縁膜４を形成す
る一方、レーザチップ１を、その一部が前記絶縁膜４を
挟んだ状態モニター用フォトダイオード部３に重なるよ
うにしてダイボンデング部５の表面に載置することは、
レーザチップ１と半導体基板２との間には、前記絶縁膜
４の厚さによる段差が存在するために、レーザチップ１
は、そのレーザビーム出射面ｌｂ側が低くなるように傾
くことになる。このため、レーザチップ１を半導体基板
２におけるダイボンデング部５にダイボンデングするに
際しては、前記の傾きがないように半導体基板１に対し
て浮かした状態でダイボンデングするようにしなければ
ならないから、ダイボンデングに特殊な技術が必要でコ
ストがアップすることに加えて、レーザチップ１の半導
体基板２に対するダイボンデングの強度が可成り低下す
るのであった。

本発明は、このようにモニター用フォトダイオード部を
成形した半導体基板にレーザチップをダイボンデングす
る場合に、前記の問題を解消した半導体レーザを提供す
ることを目的とするものである。

〔問題を解決するための手段〕

このため本発明は、半導体基板の表面にレーザチップの
ダイボンデング部とモニター用フォトダイオード部とを
隣接して形成し、前記モニター用フォトダイオード部の
表面に絶縁膜を形成し、且つ、前記ダイボンデング部に
前記レーザチップを、当該レーザチップにおけるモニタ
ー用レーザビーム出射面側における一部が前記絶縁膜を
挟んで前記モニター用フォトダイオード部に重なるよう
にダイボンデングして成る半導体レーザにおいて、前記
半導体基板におけるダイボンデング部の表面には、前記
レーザチップにおけるレーザビーム出射面側の部位に、
前記レーザチップを載置するための補助絶縁膜を前記絶
縁膜と略同じ厚さに形成した構成にしたものである。

〔発明の作用・効果〕

このように構成すると、レーザチップは、そのモニター
用レーザビーム出射面側がモニター用フォトダイオード
部に対する絶縁膜の上面に、レーザビーム出射面が補助
絶縁膜の上面に各々乗るように載置できて、レーザチッ
プの傾きがないから、レーザチップを半導体基板におけ
るダイボンデング部に対してダイボンデングするに際し
ては、レーザチップを単に押圧するだけで良く、前記先
行技術のようにレーザチップを半導体基板に対して傾か
ない状態に保持する必要がなく、極く簡単にダイボンデ
ングできるから、コストの低減を図ることができ、しか
も、レーザチップの半導体基板に対するダイボンデング
の強度を著しく向上できる効果を有する。

〔実施例〕

以下本発明の実施例を図面について説明するに、第１図
乃至第３図は第１の実施例を示し、この図において符号
１はレーザチップを、符号２はＮ１型の半導体基板を各
々示し、該半導体基板２の表面にＮ−型の半導体層２ａ
を形成し、且つ、このＮ−型の半導体層２ａには、その
一部にＰ＋型の半導体層２ｂを形成してモニター用フォ
トダイオード部３を構成する一方、前記Ｎ−型の半導体
層２ａには、前記Ｐセ型の半導体層２ｂに隣接した部位
にＮ＋１型の半導体層２Ｃを形成してこの部分をダイボ
ンデング部５に構成する。

前記モニター用フォトダイオード部３には、そのＰ中型
半導体層２ｂの表面を覆う適宜厚さのシリコン酸化膜や
シリコンナイトライド膜等の絶縁膜４を形成する一方、
前記ダイボンデング部５には、前記絶縁膜４から離れた
部位に、当該絶縁膜４と同質で且つ略同じ厚さの補助絶
縁膜８を形成する。なお、この補助絶縁膜８は、前記モ
ニター用フォトダイオード部３における絶縁膜４を形成
するときにおいて同時に形成しても良いし、また、別の
工程で形成しても良い。

そして、前記半導体基板２におけるダイボンデング部５
の上面に、前記レーザチップｌを、当該レーザチップ１
におけるモニター用レーザビーム出射面ＩＣ側における
一部が前記絶縁膜４を挟んで前記モニター用フォトダイ
オード部３におけるＰ上型半導体層２ｂに重なる一方、
レーザビーム出射面ｌｂ側における一部が前記補助絶縁
膜７に乗るようにして載置し、この状態で、レーザチッ
プ１をダイボンデング部５に対してダイボンデング材６
にてダイボンデングする。

このように構成したことにより、レーザチップ１は、そ
のモニター用レーザビーム出射面ＩＣ側がモニター用フ
ォトダイオード部３における絶縁膜４の上面に、レーザ
ビーム出射面１ｂがダイボンデング部５における補助絶
縁膜８の上面に各々乗るように載置できるから、レーザ
チップ１をダイボンデング部５に対してダイボンデング
するに場合における当該レーザチップ１の傾きを確実に
防止できるのであり、この場合、ダイボンデング部５に
形成する補助絶縁膜８は、第４図に示すようにダイボン
デング部５の一部に、Ｎ−型半導体層２ａの露出部２ａ
′を部分的に設けて、この露出部２ａ′の上面に対して
形成するようにして良い。

第５図乃至第８図は第２の実施例を示し、この実施例は
、ダイボンデング部５を、その中央にＮ−型半導体層２
ａの露出部２ａ″を設け、その左右両側にＮ−１型半導
体層２Ｃを形成したものに構成し、モニター用フォトダ
イオード部３における絶縁膜４を形成するときに、前記
ダイボンデング部５におけるＮ−型半導体層２ａの露出
部２ａ″の表面にも絶縁膜を延長形成して、これを補助
絶縁膜８にしたものであり、この場合においても、レー
ザチップ１は、モニター用フォトダイオード部３におけ
る絶縁膜４と、ダイボンデング部５における補助絶縁膜
８とに載置できるから、レーザチップｌをダイボンデン
グ部５に対してダイボンデングするに場合における当該
レーザチップ１の傾きを確実に防止できるのである。

なお、この第２の実施例の場合、レーザチップ１のダイ
ボンデング部５に対するダイボンデングは、第７図に示
すように、先づ、ダイボンデング中子 部５における左右の両Ｎ　　型半導体層２０間にオーミ
ックメタル材９を、前記補助絶縁膜８を跨ぐようにし、
このオーミックメタル材９の上面に、レーザチップｌを
ダイボンデング材６を介してダイボンデングすることに
よって行う。

第９図乃至第１２図は第３の実施例を示し、この実施例
は以下に述べるように構成したものである！ すなわち、半導体基板２におけるモニター用フォトダイ
オード部３を、Ｐ十型半導体層２ｂの周囲をＮ−型半導
体層２ａにて囲い、更にその周囲をＮ＋十梨型半導体層
２Ｃて囲ったいわゆる［チヤンネルストッパー」にする
一方、半導体基板２におけるダイボンデング部５を、そ
の中央にＮ−型半導体層２ａの露出部２ａ〃を設け、そ
の左右両側にＮ中子型半導体層２ｃを形成したものに構
成し、モニター用フォトダイオード部３における絶縁膜
４を形成するときに、前記ダイボンデング部５における
Ｎ−型半導体層２ａの露出部２ａ″の表面にも絶縁膜を
延長形成して、これを補助絶縁膜８にしたものであり、
この場合においても、レーザチップ１は、モニター用フ
ォトダイオード部３における絶縁膜４と、ダイボンデン
グ部５における補助絶縁膜８とに載置できるから、レー
ザチップ１をダイボンデング部５に対してダイボンデン
グするに場合における当該レーザチップ１の傾きを確実
に防止できるのである。

なお、この第３の実施例の場合におけるレーザチップ１
のダイボンデングも、前記第２の実施例の場合と同様に
、第１１図に示すように、先づ、ダイボンデング部５に
おける左右側Ｎ＋“型半導体層２０間にオーミックメタ
ル材９を、前記補助絶縁膜８を跨くようにし、このオー
ミックメタル材９の上面に、レーザチップ１をダイボン
デング材６を介してダイボンデングすることによって行
うのである。また、前記実施例はＮｔ半導体板の場合を
示したが、本発明はＰ十半導体基板の場合にも同様に適
用できることは言うまでもない。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第４図は本発明の第１の実施例を示し、第１
図は縦断正面図、第２図は第１図の■−■視平面図、第
３図は半導体基板の斜視図、第４図は第１実施例の変形
例を示す半導体基板の斜視図、第５図乃至第８図は本発
明の第２の実施例を示し、第５図は縦断正面図、第６図
は第５図の■−■視平面図、第７図は第５図の■−■視
断面断面図８図は半導体基板の斜視図、第９図乃至第１
１図は本発明の第３の実施例を示し、第９図は縦断正面
図、第１０図は第９図のＸ−Ｘ祝事面図、第１１図は第
９図のＸ　Ｉ　−Ｘ　Ｉ面断面図、第１２図は第９図の
ｘｎ−ｘｎｎ凹断面図第１３図は従来の半導体レーザの
縦断正面図である。 １・・・・レーザチップ、１ａ・・・・活性層、１ｂ・
・・・Ｌ／　−−４Ｊ’　ヒーム出射面、１ｃ・・・・
モニター用レーザビーム出射面、２・・・・半導体基板
、２ａ・・・・Ｎ−型半導体層、２ｂ・・・・Ｐ＋型半
導体層、２ｃ・・・・Ｎ　十＋型半導体層、３・・・・
モニター用フォトダイオード部、４・・・・絶縁膜、５
・・・・ダイボンデング部、６・・・・ダイボンデング
材、８・・・・補助絶縁膜、９・・・・オーミックメタ
ル材。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）、半導体基板の表面にレーザチップのダイボンデ
   ング部とモニター用フォトダイオード部とを隣接して形
   成し、前記モニター用フォトダイオード部の表面に絶縁
   膜を形成し、且つ、前記ダイボンデング部に前記レーザ
   チップを、当該レーザチップにおけるモニター用レーザ
   ビーム出射面側における一部が前記絶縁膜を挟んで前記
   モニター用フォトダイオード部に重なるようにダイボン
   デングして成る半導体レーザにおいて、前記半導体基板
   におけるダイボンデング部の表面には、前記レーザチッ
   プにおけるレーザビーム出射面側の部位に、前記レーザ
   チップを載置するための補助絶縁膜を前記絶縁膜と略同
   じ厚さに形成したことを特徴とする半導体レーザ。