JPS63197029A - 磁気デイスク用Al基板の熱ひずみ除去用セラミツクススペ−サ - Google Patents

磁気デイスク用Al基板の熱ひずみ除去用セラミツクススペ−サ

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JPS63197029A
JPS63197029A JP2926787A JP2926787A JPS63197029A JP S63197029 A JPS63197029 A JP S63197029A JP 2926787 A JP2926787 A JP 2926787A JP 2926787 A JP2926787 A JP 2926787A JP S63197029 A JPS63197029 A JP S63197029A
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JP
Japan
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spacer
aluminum substrate
thickness
ceramic
strain
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Pending
Application number
JP2926787A
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English (en)
Inventor
Akio Nishiyama
昭雄 西山
Jiro Kotani
小谷 二郎
Toshio Yoshida
敏雄 吉田
Hitoshi Kunugi
斉 功刀
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Mitsubishi Metal Corp
Original Assignee
Mitsubishi Metal Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し産業上の利用分野〕 この発明は、磁気ディスク用アルミニウム基板の鴫ひず
みを除去する場合に使用されるセラミックススペーサに
関する。
〔従来の技術〕
一般に、磁気ディスク用のアルミニウム基数には熱処理
によって生じたひずみが残存しており、このひずみは、
ダイヤモンド単結晶による旋削と、それにつづくダイヤ
モンド砥石による研磨とからなる超仕上加工後に、アル
ミニウム基板の平行度と平坦間に極く僅かな乱れを発生
させる原因となるので、これを避けるために、上記仕上
加工の前にアルミニウム基板のひずみを十分に除去して
おく必要があり、それには、従来、製品となるべき、例
えば厚さ:約2脳のアルミニウム基板を、厚さ210〜
30mを有する2枚の鉄鋼材料スペーサの間に挟んで、
これを両側からクランプで圧力をかけながら、300〜
450°Cの温度に加熱することによって前記ひずみを
除去していた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の鉄鋼材料スペーサは、300〜450℃において
アルミニウム基板のひずみ取りに繰り返し使用すると、
それ自体も変形するので、この変形を防ぐためにスペー
サの厚さを増したりtあるいはスペーサの平坦度を維持
するため、変形が著しくなった時点でその表面を研磨し
なければならなかった。 捷だ、鉄鋼材料は繰り返し使
用するうちに錆を発生し、その錆のついたスペーサをひ
ずみ敗りに使用すると錆がアルミニウム基板に転写され
、この錆は後工程の超仕上工程においても除去できなく
なって、アルミニウム基板の不良品を雫じさせる原因と
なるので、このような不良品の発生を防ぐために、スペ
ーサの錆落しを定期的に行っているのが現状である。
〔研究に基づく知見事項〕
そこで、本発明者等は、このような問題を解決するため
に種々研究を重ねた結果、 (1)  スペーサの材質を、鉄鋼材料に代えてセラミ
ックスとすれば、セラミックス本来の性質によって、前
述のスペーサ自体の変形の問題と錆の発′Lの問題が一
挙に解決されること、 (2)  スペーサの材質としてセラミックスを使用す
ると、その線膨張率は3〜8 X 100−6de””
と極めて小さいために、それが約25X10deg と
大きいアルミニウム基機が、ひずみ取り処理時にセラミ
ックススペーサに圧接されながら、室温から例えば約4
00°Cに至る激しい温度変化に曝されると、アルミニ
ウム基板のひずみはそのスペーサによって効果的に除去
される反面、両者の間の大きい熱伸縮の差により、硬い
セラミックススペーサと強く擦り合うアルミニウム基板
の接触面には疵がつくという新たな問題が士する。 そ
こでそのセラミックススペーサの表面粗度を白土、させ
、かつスペーサの空孔a有はを減らすとともに、表面に
形成される空孔の寸法を小さくすれば、この疵の発生が
避けられ、そのためには表面粗度:108121下、空
孔含有率=8容I%以十およびに面空孔の最大径:50
0μmLJ、ドであれば十分であること、および (3)鉄鋼材料に比べて概して靭性の低いセラミックス
をスペーサの素材とすると、そのスペーサは使用中にや
はり破損しやすい傾向を有するが、それを、抗折カニ3
0〜95 Kg/mm2未満、および厚み:5〜20酵
を有するスペーサとすれば、強度上実用に耐えるスペー
サが得られること、を見出した。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明は、上記知見に基づいて発明されたもので、 厚み:5〜20咽、 抗折カニ30〜95 Kg /mm2未満、表面相変:
108以下、 を有し、かつ空孔含有率が8客用%U下であるとともに
、表面に形成された空孔の最大径が500pml、d下
である、磁気ディスク用アルミニウム基数の熱ひずみ除
去用セラミックススペーサ、を提供するものである。
ついで、この発明において、セラミックススペーサの厚
み、抗折力、衷面粗嘲、空孔含有率および表面空孔の大
きさをそれぞれ上記のとおりに限定した叩出を述べる。
(a)  厚み 一般に、ひずみを取るべきアルミニウム基機の厚みは僅
か2+++m程度であるのに対し、従来の鉄鋼材料から
なるスペーサの厚みは通常10〜30mm程度であった
が、この発明では、スペーサの素材をセラミックスとし
たことにより、その厚みを小さくしても前述のスペーサ
自体の変形の問題は起こらないばかりでなく、ひずみ[
収り炉における熱処理についてみると、スペーサの厚み
が薄くなるほど多眼のアルミニウム基機を炉内に充填で
きるので、スペーサは薄いほど有利であるが、その厚み
が5w未満になると強度が不足して破損のおそれがあり
、一方それが20聴を越えても強1迂十利益がない上に
、ひずみ取り炉における処哩計、すなわち生産晴が低下
するところから、その厚みを5〜20団と定めた。
(b)  抗折力 前述のように、一般にセラミックスは鉄鋼材(↓よりも
靭性が低いため、特に薄い板状のものとすると破損し易
くなるので、アルミニウム基板のひずみを収り除くため
にこれを強く押圧しなければならない本ヌペーサにおい
ては、その抗折力は大きいほど好ましいが、95Kg/
w1以上の抗折力を有するセラミックススペーサは、そ
の製造に高閲の技術を要してコストがかかり、一方その
スペーサの抗折力が30 Kg / i ’−d上あれ
ば、上述の厚みとの兼合から磁気ディスク用アルミニウ
ム基板の熱ひずみを除去するためのスペーサとして支障
なく使用できることから、その抗折力の範囲を30〜9
5 Kg/mm2未満と定めた。
(cl  表面粗度 ひずみ矯市時にアルミニウム基板がセラミックススペー
サに引っ掻かれて疵がつく現象はスペーサの表面粗度を
向上させることによって改善され、その表面粗度が1.
O8よりも粗いと、軟いアルミニウム基板は硬いセラミ
ックススペーサによって削られるが、スペーサの表面を
1. 0S II下の表面粗度の鏡面に仕上げると、下
記の表面空孔の大きさとの兼合から、アルミニウムとセ
ラミックスとの大きな熱膨張差にも拘らず、アルミニウ
ム基板には、もしできたとしても、無視できる程度の疵
しかつかないので、その表面粗度を1.O8以下と定め
た。
fd)  空孔含有率および表面空孔の大きさスペーサ
表面の空孔の大きさが大きいほどアルミニウム基板はそ
の空孔に噛み込まれやすくなって、表面に大きな疵を生
じ易くなり、この表面空孔の最大径が500/Jmを越
えると、前記表面粗度をいくら小さく仕上げても上記の
噛み込みを生ずるので、セラミックスの表面に存在する
空孔の最大径を5001Im以下と定めるとともに、一
般にスペーサ全体の空孔含有率が旨くなるほど空孔の寸
法が大きくなる傾向があり、それが8容駄%を越えると
、500μmを越す最大径を有する空孔が形成されるよ
うになるところから、この空孔含有率を8容重%以下と
定めた。
上記のような特性を備えたセラミックスは、例えば、従
来知られている、窒化珪素、サイアロン、ジルコニア、
アルミナ、炭化珪素、およびこれらに第na族、第11
1a族、第1Va族元素の酸化物、炭化物、窒化物、ホ
ウ化物等の、化合物のうちのいずれか1種または2種以
上を40容殴%以下加えたもののようなセラミックスか
ら選ばれ、これらのうち、 (1)窒化珪素(U下、5i3N4テ示ス)系セラミッ
クスは、例えば、Mg0XY203、希土類金属酸化物
等が添加されたS j 3N4をホットプレス法で焼結
して製造され、 (2)  サイアロン系セラミックスは、例えば、Al
2O3やMNおよびポリタイプサイアロンの21Rや1
5RにMgOやY2O2等を添加したものを常圧焼結法
または熱間静水圧プレス(HIP)で焼結して製造され
、 (3)酸化ジルコニウム(以下、ZrO2で示す)基セ
ラミックスは、例えば、ZrO2(二AA203、Y2
O2、MgO等を添加したものを、やはり常圧焼結法ま
たはHIPで焼結して製造され、 (4)  アルミナ(A12o3で示す)系セラミック
スは、1%以下のMgOXCaO1NiOXCr 2o
3などの焼結肋間を加えたもの、または焼結性の改善と
高強I更を得る目的で1〜10%のZ r02を加えた
ものを常圧焼結法またはホットプレス法で焼結するか、
=9− あるいは強変を上げるため、前記焼結肋間のほかに20
−40%のTiCXW C、Mo2CXTaCXTiB
2などを加えたものをホットプレス法で焼結して製造さ
れ、また (5)炭化珪素(以下、SiCで示す)糸セラミックス
は、高純度のβ−8I C微粉末に牛用のCと、同時に
B、B4C,BN、BPなどのB化合物、M。
MN、Al4C3,AlB2などのM化合物、またはB
e化合物のうちのいずれか1種以上とを添加したものを
常圧焼結法またはホットプレス法で焼結するか、あるい
は少眼の8+微粉末を添加したものを反応焼結法で焼結
してSI C焼結体の気孔を前記Siで埋めることによ
って製造される。
以上のような方法で製造されて、この発明において必要
とする抗折力、空孔含有率、空孔寸法および厚みを備え
た板状のセラミックスは、ダイヤモンド測定端子による
触針式測定法(JIS  B0601〜1976)によ
って測定される、表面粗間:1.os121.下の平滑
な表面を有するセラミックススペーサに仕上げられる。
〔実施例〕
ついで、この発明を実施例により比較例と対比しながら
説明するが、これらの実施例は勿論この発明を具体化し
た例を単に示すためのものであって、この発明の技術的
範囲を制限することを意図するものではない。
平均粒径二05μmを有するA12o3微粉末96%(
吸上、特に断わらないかぎり%はすべて重酸%を意味す
る)、同1.5.Ijmを有するZ ro 2微粉末3
0%および同15μmを有するMgO微粉末1.0%か
らなる配合組成を有する混合粉末を原料とし、これを信
性に従い、常圧焼結法で焼結することによって、外径:
 170 mm X内径: 45 WmX厚み:1゜脳
の寸法を有するアルミナ基セラミックスの環状機を製造
し、ついでこれの表面をダイヤモンド砥粒により研磨す
ることによって、本発明スペーサ1を製造し、寸た、平
均粒径:08μmを有するSiC微粉末985%、同0
.8μmを有する炭素微粉末1.0%および同25μm
を有するポロン微粉末05%からなる配合組成を有する
混合粉末を原料とし、これを常圧焼結法で焼結すること
によって前記寸法と同じ寸法を有するSiC基セラミッ
クスの環状機を製造し、ついでこれの表面を上記と同様
に仕上げて、本発明スペーサ2を製造した。
このようにして得られた本発明スペーサ1および2につ
いて、それらの表面粗度をダイヤモンドコーン触針法に
よって測定するとともに、抗折力を測定し、さらに理論
比重との比較によって空孔含有率を、また光学顕微鏡に
よって表面空孔の最大径を、そして電気接点マイクロメ
ーターによって平坦度をそれぞれ測定し、その結果を第
1表に示した。
つぎに、これらのスペーサをアルミニウム基数のひずみ
収りに使用したときのひずみ収りの効果と、そのときに
発生するアルミニウム基h−,Lの疵の状態を調査する
ために、1気圧の本来雰囲気が形成されている炉の中で
、外径: 163 am X内径:50wX厚さ=2陥
の寸法を有するアルミニウム基数の両側を100Kg/
’湖の圧力の下に前記同種スペーサ各2枚でそれぞれ挟
子しながら、これらの部材を毎f¥j100℃の昇温速
度で400℃まで加熱し、この温間に1時間作持した後
、毎時20℃の降温速度で冷却する、アルミニウム基板
のひずみ矯正処理を実施した。
ついで、この処理を受けた各アルミニウム基板における
平坦度(つまりひずみの残存状態)を電気接点マイクロ
メーターで調べるとともに、そのアルミニウム基数上の
疵の深さを表面粗さ測定器によって測定し、その結果を
81表に示した。
さらに比較のため、別途用意した、外径:170閣×内
径:45mmX厚み:20聴の寸法を有する5KDII
製の従来スペーサについても、前記と同様に、その特性
を調べるとともに、これらのスペ〜すを使用するひずみ
取り処理を実施して、アルミニウム基機のひずみの状態
を調査し、これらの調査結果も第1表に合わせて示した
〔発明の効果〕
本発明スペーサ1および2は、第1表に示されるとおり
M基数のひずみを完全に除去できたばかりでなく、その
材質がセラミックスであるところから当然変形も錆も生
じなかったのに対し、従来スペーサによる矯正では、第
1表に示されるように、スペーサを初めて使用したとき
でも矯正後のアルミニウム基板の平坦(9)は大きくて
仕上りが劣り、しかも7回連続して使用した後ではスペ
ーサ自体の変形によってアルミニウム基板の平坦度が一
層悪化し、また本発明スペーサ1および2においては、
その表面粗度と空孔の最大径について十分配慮されてい
るために、アルミニウム基数上で、実用上問題にならな
い程変の極く小さな疵しか発生しない上に、本発明スペ
ーサ1および2は十分な強闇を有するところから破損を
生ずることなく繰返し使用することができた。
限上述べた説明から明らかなように、この発明によると
、加熱や圧力によって極めて変形し難いセラミックスで
アルミニウム基板の熱ひずみ除去用スペーサを構成した
ために、平坦間、すなわち仕上りに優れたアルミニウム
基板を安定して提供できるとともに、そのアルミニウム
基板上に錆が転写されるというトラブルの発生を回避す
ることもでき、しかも強度上も、またアルミニウム基板
上の引っ掻き疵の発生についても実用上何ら問題のない
優れた磁気ディスク用アルミニウム基板の熱ひずみ除去
用セラミックススペーサを提供することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 厚み:5〜20mm、 抗折力:30〜95Kg/mm^2未満、 表面粗度:1.0S以下、 を有し、かつ空孔含有率が8容量%以下であるとともに
    、表面に形成された空孔の最大径が500μm以下であ
    る、磁気ディスク用アルミニウム基板の熱ひずみ除去用
    セラミックススペーサ。
JP2926787A 1987-02-10 1987-02-10 磁気デイスク用Al基板の熱ひずみ除去用セラミツクススペ−サ Pending JPS63197029A (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61278023A (ja) * 1985-06-03 1986-12-08 Mitsubishi Metal Corp 磁気デイスク用アルミニウム基板の熱ひずみ除去用セラミツクススペ−サ

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61278023A (ja) * 1985-06-03 1986-12-08 Mitsubishi Metal Corp 磁気デイスク用アルミニウム基板の熱ひずみ除去用セラミツクススペ−サ

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