JPS6319597B2 - - Google Patents
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- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B15/00—Operating or servicing cells
- C25B15/08—Supplying or removing reactants or electrolytes; Regeneration of electrolytes
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- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
本発明は電解セルからの再循環陽極液ブライン
中に溶解しているハロゲンおよびハイポハライト
イオンを除去するための方法に関する。より詳細
には本発明は閉ループブライン処理系を使用した
膜タイプの電解セルにおけるそのようなブライン
の処理に関する。 ほとんどの現代の膜タイプの電解セルの操作に
おいては陽極液チヤンバーからのアルカリ金属ハ
ライドブラインを補給用塩を添加することによつ
て再生させる。一般に補給用塩は少量であるが但
し重要量のカルシウムおよびマグネシウム化合物
を含有していることがこれらはセル中に使用され
ている選択透過膜を劣化させる影響を有してい
る。膜セル中にブラインを入れる前に操作上安全
な水準（通常は約30〜約60ppb）までこれら元素
の量を効果的に低下させるためには、代表的には
イオン交換カラム中でイオン交換樹脂が使用され
る。更に再循環されるブライン例えばアルカリ金
属塩化物ブラインは通常少量のハイポクロライト
または溶解塩素の形態の「利用しうる」塩素を含
有している。比較的低い水準においてさえもこれ
ら成分がブライン中に存在することはこれら樹脂
のカルシウムおよびマグネシウム化合物の除去を
効率に非常に不利益な影響をもたらし、そして取
替えにもまた費用がかかる。 通常のハロゲン除去法はブラインがイオン交換
カラムに入る前に存在するハイポハライトイオン
およびハロゲンのほとんどを除去する傾向があ
る。例えばクロルアルカリセルからの再循環ブラ
インに関しては、溶解塩素のほとんどは約0.5気
圧の減圧および約70℃以上の温度でそれをフラツ
シユさせることにより回収されうる。その後では
ブライン中の残存塩素は約0.1ｇ／まで低下し
ている。なお、残存する溶解塩素はブラインのカ
ラムを通して圧縮空気を吹きこむことにより除去
することができる。この後ではその水準は約0.03
ｇ／以下まで減少している。これを実施する技
術は当産業界ではよく知られている。 しかしこれら従来法においては、一つまたはそ
れ以上の追化のブライン処理が使用されない場合
にはすべての利用しうる塩素が除去されるとは限
らない。これら追加のブライン処理の一つは無機
パーオキサイドを使用することを包含する。しか
しその場合その中のハイポクロライトイオンを完
全に除くためには補助硫黄を含有する還元剤例え
ばチオ硫酸ナトリウムが必要となる。そのような
方法は米国特許第4272338号明細書に記載されて
いる。更にそこに開示されている方法を使用した
場合の完全な成功例は、その必要な成分として無
機塩基により溶液のPHを約５〜約11の値に上昇さ
せることを包含している。 従来技術のブライン処理は開放ループブライン
系でありこれは一定量のブラインを放出して残存
ブライン中の不純物濃度を低減させることによつ
ていくらかの不純物例えばサルフエートをブライ
ン系から排出される。 日本において使用されているそれに代るブライ
ン処理系はサルフエート含有またはサルフエート
生成還元剤のために存在するサルフエートを沈析
させるために塩化バリウムのブラインへの添加を
用いている。得られた硫酸バリウムの沈析物は次
いで適当に処理しそして廃棄されなくてはならな
い。埋立てによるゴミ処理は通常の方法である。
しかしバリウムは注意深く監視されなくてはなら
ない潜在的危険物質である。更にこのタイプのブ
ライン処理系はまだサルフエート生成還元剤を使
用している。 例えば膜クロルアルカリ電解セル中におけるよ
うな電解プロセスにおける選択透過膜の出現およ
び操作セル設備に近接する水系への潜在的に危険
な廃棄不純物の投棄を締め出すより厳しい操作規
制は新たなブライン処理の問題を提起した。１
当り約5.0ｇより大きい量のブライン中のサルフ
エートの存在により膜効率の低下を受けやすい選
択透過膜が個々のセル中に存在することは膜の基
本的イオン交換の目的が膜中のサルフエートの蓄
積によつて阻害されないようにするために新たな
ブライン処理法を必要とする。この劣化はサルフ
エートとブライン中に存在するその他の不純物例
えば膜の親水性空隙部分で高分子量沈析物を形成
して臨界的サルフエート濃度水準を効果的に5.0
ｇ／以下まで低下させるようなカルシウム、ア
ルミニウム珪酸塩または架橋形成金属酸化物との
相互作用により一層ひどくなる。新しい膜はより
高い選択透過性を以つて導入されるものであるか
ら臨界的サルフエートの濃度水準は一層低下する
と予想される。 ブライン中に存在するサルフエート量を減少さ
せそしてブライン処理系により生成される潜在的
に危険な廃棄物量を減少させるという前記の問題
を本発明において扱う。この場合、実質的にブラ
インの不純物濃度を低下させるための系からブラ
インの除去または放出をさせない系である閉ルー
プブライン系の膜電解セル中のブラインに、ブラ
イン中に存在する利用しうるハロゲンとハイポハ
ライト各１モル当りの関係で慣用の化学量論的モ
ル量より少ない非サルフエート生成還元剤が加え
られる。 アルカリ金属水酸化物の電解膜製造に使用され
る再循環ブラインから溶解したハロゲンおよびハ
イポハライトイオンを除去するための改善された
方法を提供することが本発明の第一義的目的であ
る。 再循環ブライン系から利用しうる塩素およびサ
ルフエートを取出すために要求される物質取扱の
問題点を軽減させることは本発明のその他の目的
である。 閉ループ膜電解セル系中の再循環ブラインにブ
ライン中に存在する溶解しているハロゲンおよび
ハイポハライトイオンを合したもの１モル当り約
0.15〜約0.8モル過酸化水素の比率で過酸化水素
を加えることが本発明の特徴である。 膜クロルアルカリ電解セル系中の再循環陽極液
ブラインから利用しうる塩素を除去するために非
サルフエート生成還元剤を使用することは本発明
の別の特徴である。 膜セルブライン中に存在するサルフエート水準
が低下するために膜効率の劣化が避けられること
は本発明の利点である。 利用しうる塩素を除去するためにブラインに硫
黄含有還元剤を加える必要がなくなつたことは本
発明のその他の利点である。 再循還ブラインから利用しうる塩素およびサル
フエートを除去するために必要な材料のコストが
減少したということは本発明の更に別な利点であ
る。 再循環ブラインから利用しうる塩素およびサル
フエートを取り出すに際して潜在的に危険な廃棄
物の生成が実質的に低下したということは本発明
の更にまた別の利点である。 ブライン処理工程のPH調整段階で要求される鉱
酸の量が減少したことは本発明の更にもう一つの
利点である。 本発明のこれらおよびその他の目的、特徴、お
よび利点は膜電解セルシステムの閉ループブライ
ンの再循環アルカリ金属ハライドブラインから溶
解ハロゲンおよびハイポハライトイオンを除去す
るための方法により得られるが、これは脱ハロゲ
ン化、沈殿およびPH調整の段階の後で前記ブライ
ン中に存在する溶解ハロゲンおよびハイポハライ
トイオンを合したもの１モル当り約0.15〜約0.80
モルの操作可能範囲、約0.15〜約4.5モルの好ま
しい範囲、そして約0.2〜約0.4モルの最も好まし
い範囲に等しい量で非サルフエート生成還元剤例
えば無機パーオキサイドをブラインに加えること
を包含している。これを実施した場合、これら利
用しうるハロゲン不純物は膜効率を劣化させるサ
ルフエートを生成させることなく実質的に減少さ
れる。利用しうるハロゲンのこの減少はブライン
を次いでイオン交換法による最終的Ca++および
Mg++除去を行なう場合に特に有利であることが
見出されている。 第１図は本発明の方法を使用して再循環ブライ
ンから利用しうる塩素を除去しうる膜電解セルシ
ステムの略図である。 簡単にするために本発明の方法を塩化ナトリウ
ムブラインについて記載する。しかし本発明の方
法はその他のアルカリ金属ハライド例えば塩化カ
リウム、臭化ナトリウム、臭化カリウムまたはそ
れらの混合物の溶液に対しても同等に適用可能で
あることを理解すべきである。 第１図に概略的に示されているように、膜セル
２は陽イオン選択透過膜８によつて陽極液チヤン
バー４と陰極液チヤンバー６に密封的に分けられ
ている。陽極１０は陽極液チヤンバー４中に配置
されており、そして陰極１２は陰極液チヤンバー
６中に配置されている。塩化ナトリウムブライン
は導入口１４を経て陽極液チヤンバー４に供給さ
れる。水は導入口１６を経て陰極液チヤンバー６
中に供給される。 セル２に対して電圧を適用してセル電解液中に
電流を生成させる。これは陽極液チヤンバー４中
に存在するブラインから陽極表面上で塩素を発生
させ、そして陰極液チヤンバー６中に存在する水
から陰極表面上で水素ガスを発生させる。塩素ガ
スは排出口２２から放出される。 陽イオン選択透過膜８はブライン中のナトリウ
ムイオンおよび小量の水を陽極液チヤンバー４か
ら陰極液チヤンバー６に通過される。ナトリウム
イオンおよび水は次いで陰極液チヤンバー６中で
水の水素イオンの放電により形成されたOH―イ
オンと結合して苛性溶液とH2ガスを発生させる。
水性苛性液は排出口２４から回収され、一方水素
ガスは排出口２６を通つて陰極液チヤンバー６か
ら除去される。 高い陽極電流効率を保持させるためにある量の
成分除去ブラインを連続的に陽極液チヤンバー４
から排出口２０を経て取出し、プロセスライン２
８を経て処理帯域３０に送る。このブラインは約
２〜約６のPHを有しており、そして未使用の塩に
加えて、溶解塩素とハイポクロライトイオンすな
わちCl2およびOCl-の混合物を包含する少量の
「利用しうる塩素」ならびにその中に溶解してい
る塩素酸ナトリウムおよび硫酸ナトリウムを含有
している。膜セルから除去されたブラインの代表
的な数値は、約100〜約250ｇ／の塩濃度、約10
ｇ／までの利用しうる塩素の合計濃度、約25
ｇ／までの範囲の塩素酸ナトリウム濃度および
約４ｇ／までの硫酸ナトリウム濃度である。こ
れら再循環陽極液ブライン中に含有されているこ
れらの成分の量は使用される特定の膜セル系およ
び塩水の特性によつていくらか変動しうる。 ブライン処理帯域３０は、膜セル２中での再利
用のためのブラインの処理または準備に関する操
作からなつている。生成される一次生成物が塩
素、水素および苛性物であるほとんどの標準的膜
セル系においてはこれら操作は以下の段階を包含
している。 １ 塩素除去 ２ 新しい塩による再飽和 ３ カルシウム、マグネシウムおよびサルフエー
トイオンの沈殿、および ４ 必要な場合にはPHの調整 処理帯域３０中での処理の完了後、このブライ
ンは再生ブラインと称される。これは処理帯域３
０からプロセスライン３８を経て混合タンク３９
に送られる。そしてそこで以下に記載の比率で非
サルフエート生成還元剤例えば無機過酸化物をこ
の再生ブラインに加えるのが好ましい。次いでこ
の処理されたブラインをライン40を経てイオン交
換ユニツト４１に送り、ここでカルシウムとマグ
ネシウムイオンの最終除去が行われる。次いでこ
の改善されそして再生されたブラインは膜セル２
中での再使用のためにブラインライン４２を経て
陽極液チヤンバー４の導入口１４に送られる。 本発明の方法の好ましい実施例においては、無
機パーオキサイドを添加して利用しうる塩素の除
去は完全には理解されていないが一つのメカニズ
ムによりパーオキソ結合の切断による利用しうる
塩素の接触還元により達成される。その結果モル
パーオキサイドの消費量は大きく減少して慣用の
化学量論的モル要求量より可成り少ない。これは
また、通常再循環ブラインのPHの低下をもたら
す。パーオキサイドは一般に水性溶液の形態で、
塩素除去、沈殿およびPH調整段階の後で存在する
溶解塩素およびハイポクロライトを合したもの１
モル当り約0.15〜約0.80モルの操作可能範囲、約
0.15〜約4.5モルの好ましい範囲、そして約0.2〜
約0.4モルのより好ましい範囲に等しい量で再循
環ブラインに加えられる。合計利用しうる塩素に
対するそのような低いモル比の無機パーオキサイ
ドを使用してこの利用しうる塩素の実質的除去を
達成することは驚くべきかつ予期せざることであ
る。その理由は同様のシステムにおけるこれまで
の経験によると、再循環ブラインから利用しうる
塩素の当モル当量を除去するためには約１モルの
過酸化水素が必要であつたからである。 慣用の化学量論的モル要求量よりも可成低くモ
ルパーオキサイドの量を大きく減少させるその他
の潜在的に有意のフアクターはパーオキサイド添
加段階における特定のブライン処理プロセス中の
ブライン中に存在するハイポハライトイオンの低
い濃度である。パーオキサイド添加段階でのプロ
セスに潜在的に影響するものとして見逃すことの
できないその他のフアクターはブライン中の高い
塩化物イオンのモル濃度である。これはブライン
溶液のイオン強度を実質的に上昇させそれによつ
て実質的に水分活性を低下させる。これは次い
で、利用しうるパーオキシイオンに対する水との
溶液中での競争を低下させることによつてそして
所望の還元を行わせるためのハイポハライトイオ
ンとパーオキシイオンとの有効な反応時間を増加
させることによつてパーオキソ結合活性による利
用しうる塩素の触媒還元を容易ならしめる。 この反応に包含される反応の正確な性質は理解
されていない。無機パーオキサイドが触媒反応で
溶解ハイポクロライトイオンおよび塩素と反応し
て酸素、使用された無機元素の酸素含有化合物お
よびクロリドイオンを水性溶液中で生成させると
考えられる。パーオキサイドとしてH2O2を使用
した場合これは方程式(1)および(2)におけるように
示される。 H2O2＋OCl-→O2＋H2O＋Cl- (1) H2O2＋Cl2→O2＋2H+＋2Cl- (2) ハイポクロライド含量のいくらかはまた方程式
(3)に示されるようにハイポクロライトイオンをク
ロレートおよびクロリドとの混合物へ変換するこ
とによつても消費しうる。 3OCl-→ClO3 -＋2Cl- (3) またパーオキサイドが添加された時、通常ブラ
インのPHは約0.1〜約3.0の値だけ低下することが
見出されている。以下に示されているようにこの
PHと利用しうる塩素の併合減少はブライン再処理
の間特に有利でありうる。 非サルフエート生成還元剤を次いで第１図のプ
ロセスに示されている混合タンク３９へ添加する
ために使用することができる。その例としては修
酸、グリオキサール、アルコール、有機パーオキ
サイドおよび無機パーオキサイドをあげることが
できる。本発明の方法に使用することのできる代
表的無機パーオキサイドとしては過酸化水素
（H2O2）、オゾン、アルカリ金属パーオキサイド
例えばカリウムパーオキサイド（K2O2）、ナトリ
ウムパーオキサイド（Na2O2）、アルカリ金属ス
ーパーオキサイド例えばカリウムスーパーオキサ
イド（KO2）、ナトリウムスーパーオキサイド
（NaO2）およびそれらの混合物があげられる。
H2O2が好ましい無機パーオキサイドである。 このプロセスの基本的反応条件は特別に臨界的
なものではない。例えば再循環ブライン温度は約
50゜〜約110℃の範囲でありうる。更に初期のブラ
インのPHは約１〜約12の範囲であり、一方反応時
間は約１〜約20分に変動させうる。選ばれた還元
例えばパーオキサイドは直接液体溶液としてブラ
インに加えることができるしまたはオゾンの場合
には泡としてブラインに通すことができる。
H2O2の場合には特別の混合装置を必要としない
予備混合した濃厚溶液を容易に入手できることが
本発明のプロセスの実施を特に簡便にする。この
ことはこのプロセスに可成りの多用性を加えてい
る。パーオキサイドは慣用の塩素除去工程の後
で、処理帯域３０に加えられなくてはならない
が、濃縮または再飽和後の添加が好ましい。 PHと利用しうるハロゲンの併合低下はブライン
再飽和および過剰のCa++とMg++イオンを沈殿さ
せて予備処理の後で特に有用である。ブラインの
改善に使用されるイオン交換樹脂は連続的安全使
用のためにPH9.5以上ではないブラインを要する
ことが知られている。しかし再飽和により導入さ
れた溶解Ca++および特にMg++イオンの大部分を
沈殿させる予備処理の結果として、ブラインはこ
の値をかなり上廻るPHを有しうる。そこである量
の鉱酸、通常はHClをこの処理帯域３０に加えて
PHを9.5以下に低下させなくてはならない。本発
明のプロセスを使用した場合には、H2O2の添加
により生ぜしめられた自然のPH低下がこの結果の
達成に必要な鉱酸量を実質的に減少させるように
働く。 陰極液チヤンバー６から陽極液チヤンバー４を
分離させる陽イオン選択透過膜８は一般に適当な
金属または織物例えばポリフルオロオレフイン
布、レーヨンまたはそれらの混合物で補強された
固体フルオロカーボン重合体より構成されてい
る。 本発明のプロセスにおける膜として使用するに
適当な物質としては、米国特許第4036714号明細
書記載のタイプのスルホン酸置換パーフルオロカ
ーボン重合体、米国特許第4085071号明細書記載
の第一級アミン置換重合体、米国特許第4030988
号明細書のタイプのポリアミンおよびジアミン置
換重合体、米国特許第4065366号明細書記載のカ
ルボン酸置換重合体および米国特許第4255240号
明細書記載の混合スルホン酸／カルボン酸置換重
合体があげられる。これら特許はここに参考とし
て包含されている。 膜の厚さは約３〜約20ミル、そして好ましくは
約５〜約10ミルの範囲でありうる。選ばれた膜に
対しては、ポリテトラフルオロエチレンまたは同
様の不活性物質よりなる膜に対する積層不活性布
支持体物質を使用することができる。 前記の膜は本発明のプロセスの操作に対して最
高の全体的効率を与えるように思われるがアルカ
リ金属ハライドを含有するブラインからアルカリ
金属水酸化物の電解製造を行いうる任意の不活性
親水性膜物質を使用しうることは理解されるべき
である。 膜電解セル中では任意の適当な電極を陽極また
は陰極として使用しうる。典型的陽極は陽極表面
の少くとも一部分の上にエレクトロアクテイブコ
ーテイングを有しているグラフアイトまたは多孔
性の金属例えばチタニウムまたはタンタルのもの
である。適当なコーテイングとしては白金族金
属、白金族金属酸化物、白金族金属の合金または
これらの混合物のものがあげられる。「白金族金
属」なる用語はルテニウム、ロジウム、白金、パ
ラジウム、オスミウムおよびイリジウムよりなる
群の元素を意味している。またグラフアイトより
なる陽極または例えば米国特許第3632498号明細
書記載の金属酸化物コーテイング基材よりなる陽
極もまた有効である。そのような電極が陽極とし
て使用される場合、陽極塩素過電圧は最小とな
る。 陰極として使用されうる物質の例としては炭素
鋼、ステンレススチール、ニツケル、ニツケルモ
リブデン合金、ニツケルバナジウム合金およびラ
ネーニツケルベース合金がある。 陰極および陽極はそれぞれ固体形、フエルト、
メツシユ、多孔性物体、充填床、エクスパンドメ
タル、またはその他の構造設計されたものであり
うる。Cl2の陽極電解製造または苛性物の陰極電
解製造をなしうる任意の電極構造をそれぞれ本発
明における陽極または陰極として使用しうる。 以下の例は本発明をより完全に定義するために
与えられているもので本発明をこれにより限定さ
せるものではない。すべての部および％は特記さ
れない限り重量基準である。 例 １ 85℃の温度の慣用の膜セルからとつた、次の分
析値、すなわち 「利用しうる塩素」（Cl2＋NaOCl）
8.87ｇ／（0.06モル） NaClO3 21.60ｇ／ NaCl 254.6ｇ／ PH 4.6 を有する500mlの成分除去ブラインの試料を撹拌
しつつ35％H2O2で徐々に滴定して次の結果を得
た。
中に溶解しているハロゲンおよびハイポハライト
イオンを除去するための方法に関する。より詳細
には本発明は閉ループブライン処理系を使用した
膜タイプの電解セルにおけるそのようなブライン
の処理に関する。 ほとんどの現代の膜タイプの電解セルの操作に
おいては陽極液チヤンバーからのアルカリ金属ハ
ライドブラインを補給用塩を添加することによつ
て再生させる。一般に補給用塩は少量であるが但
し重要量のカルシウムおよびマグネシウム化合物
を含有していることがこれらはセル中に使用され
ている選択透過膜を劣化させる影響を有してい
る。膜セル中にブラインを入れる前に操作上安全
な水準（通常は約30〜約60ppb）までこれら元素
の量を効果的に低下させるためには、代表的には
イオン交換カラム中でイオン交換樹脂が使用され
る。更に再循環されるブライン例えばアルカリ金
属塩化物ブラインは通常少量のハイポクロライト
または溶解塩素の形態の「利用しうる」塩素を含
有している。比較的低い水準においてさえもこれ
ら成分がブライン中に存在することはこれら樹脂
のカルシウムおよびマグネシウム化合物の除去を
効率に非常に不利益な影響をもたらし、そして取
替えにもまた費用がかかる。 通常のハロゲン除去法はブラインがイオン交換
カラムに入る前に存在するハイポハライトイオン
およびハロゲンのほとんどを除去する傾向があ
る。例えばクロルアルカリセルからの再循環ブラ
インに関しては、溶解塩素のほとんどは約0.5気
圧の減圧および約70℃以上の温度でそれをフラツ
シユさせることにより回収されうる。その後では
ブライン中の残存塩素は約0.1ｇ／まで低下し
ている。なお、残存する溶解塩素はブラインのカ
ラムを通して圧縮空気を吹きこむことにより除去
することができる。この後ではその水準は約0.03
ｇ／以下まで減少している。これを実施する技
術は当産業界ではよく知られている。 しかしこれら従来法においては、一つまたはそ
れ以上の追化のブライン処理が使用されない場合
にはすべての利用しうる塩素が除去されるとは限
らない。これら追加のブライン処理の一つは無機
パーオキサイドを使用することを包含する。しか
しその場合その中のハイポクロライトイオンを完
全に除くためには補助硫黄を含有する還元剤例え
ばチオ硫酸ナトリウムが必要となる。そのような
方法は米国特許第4272338号明細書に記載されて
いる。更にそこに開示されている方法を使用した
場合の完全な成功例は、その必要な成分として無
機塩基により溶液のPHを約５〜約11の値に上昇さ
せることを包含している。 従来技術のブライン処理は開放ループブライン
系でありこれは一定量のブラインを放出して残存
ブライン中の不純物濃度を低減させることによつ
ていくらかの不純物例えばサルフエートをブライ
ン系から排出される。 日本において使用されているそれに代るブライ
ン処理系はサルフエート含有またはサルフエート
生成還元剤のために存在するサルフエートを沈析
させるために塩化バリウムのブラインへの添加を
用いている。得られた硫酸バリウムの沈析物は次
いで適当に処理しそして廃棄されなくてはならな
い。埋立てによるゴミ処理は通常の方法である。
しかしバリウムは注意深く監視されなくてはなら
ない潜在的危険物質である。更にこのタイプのブ
ライン処理系はまだサルフエート生成還元剤を使
用している。 例えば膜クロルアルカリ電解セル中におけるよ
うな電解プロセスにおける選択透過膜の出現およ
び操作セル設備に近接する水系への潜在的に危険
な廃棄不純物の投棄を締め出すより厳しい操作規
制は新たなブライン処理の問題を提起した。１
当り約5.0ｇより大きい量のブライン中のサルフ
エートの存在により膜効率の低下を受けやすい選
択透過膜が個々のセル中に存在することは膜の基
本的イオン交換の目的が膜中のサルフエートの蓄
積によつて阻害されないようにするために新たな
ブライン処理法を必要とする。この劣化はサルフ
エートとブライン中に存在するその他の不純物例
えば膜の親水性空隙部分で高分子量沈析物を形成
して臨界的サルフエート濃度水準を効果的に5.0
ｇ／以下まで低下させるようなカルシウム、ア
ルミニウム珪酸塩または架橋形成金属酸化物との
相互作用により一層ひどくなる。新しい膜はより
高い選択透過性を以つて導入されるものであるか
ら臨界的サルフエートの濃度水準は一層低下する
と予想される。 ブライン中に存在するサルフエート量を減少さ
せそしてブライン処理系により生成される潜在的
に危険な廃棄物量を減少させるという前記の問題
を本発明において扱う。この場合、実質的にブラ
インの不純物濃度を低下させるための系からブラ
インの除去または放出をさせない系である閉ルー
プブライン系の膜電解セル中のブラインに、ブラ
イン中に存在する利用しうるハロゲンとハイポハ
ライト各１モル当りの関係で慣用の化学量論的モ
ル量より少ない非サルフエート生成還元剤が加え
られる。 アルカリ金属水酸化物の電解膜製造に使用され
る再循環ブラインから溶解したハロゲンおよびハ
イポハライトイオンを除去するための改善された
方法を提供することが本発明の第一義的目的であ
る。 再循環ブライン系から利用しうる塩素およびサ
ルフエートを取出すために要求される物質取扱の
問題点を軽減させることは本発明のその他の目的
である。 閉ループ膜電解セル系中の再循環ブラインにブ
ライン中に存在する溶解しているハロゲンおよび
ハイポハライトイオンを合したもの１モル当り約
0.15〜約0.8モル過酸化水素の比率で過酸化水素
を加えることが本発明の特徴である。 膜クロルアルカリ電解セル系中の再循環陽極液
ブラインから利用しうる塩素を除去するために非
サルフエート生成還元剤を使用することは本発明
の別の特徴である。 膜セルブライン中に存在するサルフエート水準
が低下するために膜効率の劣化が避けられること
は本発明の利点である。 利用しうる塩素を除去するためにブラインに硫
黄含有還元剤を加える必要がなくなつたことは本
発明のその他の利点である。 再循還ブラインから利用しうる塩素およびサル
フエートを除去するために必要な材料のコストが
減少したということは本発明の更に別な利点であ
る。 再循環ブラインから利用しうる塩素およびサル
フエートを取り出すに際して潜在的に危険な廃棄
物の生成が実質的に低下したということは本発明
の更にまた別の利点である。 ブライン処理工程のPH調整段階で要求される鉱
酸の量が減少したことは本発明の更にもう一つの
利点である。 本発明のこれらおよびその他の目的、特徴、お
よび利点は膜電解セルシステムの閉ループブライ
ンの再循環アルカリ金属ハライドブラインから溶
解ハロゲンおよびハイポハライトイオンを除去す
るための方法により得られるが、これは脱ハロゲ
ン化、沈殿およびPH調整の段階の後で前記ブライ
ン中に存在する溶解ハロゲンおよびハイポハライ
トイオンを合したもの１モル当り約0.15〜約0.80
モルの操作可能範囲、約0.15〜約4.5モルの好ま
しい範囲、そして約0.2〜約0.4モルの最も好まし
い範囲に等しい量で非サルフエート生成還元剤例
えば無機パーオキサイドをブラインに加えること
を包含している。これを実施した場合、これら利
用しうるハロゲン不純物は膜効率を劣化させるサ
ルフエートを生成させることなく実質的に減少さ
れる。利用しうるハロゲンのこの減少はブライン
を次いでイオン交換法による最終的Ca++および
Mg++除去を行なう場合に特に有利であることが
見出されている。 第１図は本発明の方法を使用して再循環ブライ
ンから利用しうる塩素を除去しうる膜電解セルシ
ステムの略図である。 簡単にするために本発明の方法を塩化ナトリウ
ムブラインについて記載する。しかし本発明の方
法はその他のアルカリ金属ハライド例えば塩化カ
リウム、臭化ナトリウム、臭化カリウムまたはそ
れらの混合物の溶液に対しても同等に適用可能で
あることを理解すべきである。 第１図に概略的に示されているように、膜セル
２は陽イオン選択透過膜８によつて陽極液チヤン
バー４と陰極液チヤンバー６に密封的に分けられ
ている。陽極１０は陽極液チヤンバー４中に配置
されており、そして陰極１２は陰極液チヤンバー
６中に配置されている。塩化ナトリウムブライン
は導入口１４を経て陽極液チヤンバー４に供給さ
れる。水は導入口１６を経て陰極液チヤンバー６
中に供給される。 セル２に対して電圧を適用してセル電解液中に
電流を生成させる。これは陽極液チヤンバー４中
に存在するブラインから陽極表面上で塩素を発生
させ、そして陰極液チヤンバー６中に存在する水
から陰極表面上で水素ガスを発生させる。塩素ガ
スは排出口２２から放出される。 陽イオン選択透過膜８はブライン中のナトリウ
ムイオンおよび小量の水を陽極液チヤンバー４か
ら陰極液チヤンバー６に通過される。ナトリウム
イオンおよび水は次いで陰極液チヤンバー６中で
水の水素イオンの放電により形成されたOH―イ
オンと結合して苛性溶液とH2ガスを発生させる。
水性苛性液は排出口２４から回収され、一方水素
ガスは排出口２６を通つて陰極液チヤンバー６か
ら除去される。 高い陽極電流効率を保持させるためにある量の
成分除去ブラインを連続的に陽極液チヤンバー４
から排出口２０を経て取出し、プロセスライン２
８を経て処理帯域３０に送る。このブラインは約
２〜約６のPHを有しており、そして未使用の塩に
加えて、溶解塩素とハイポクロライトイオンすな
わちCl2およびOCl-の混合物を包含する少量の
「利用しうる塩素」ならびにその中に溶解してい
る塩素酸ナトリウムおよび硫酸ナトリウムを含有
している。膜セルから除去されたブラインの代表
的な数値は、約100〜約250ｇ／の塩濃度、約10
ｇ／までの利用しうる塩素の合計濃度、約25
ｇ／までの範囲の塩素酸ナトリウム濃度および
約４ｇ／までの硫酸ナトリウム濃度である。こ
れら再循環陽極液ブライン中に含有されているこ
れらの成分の量は使用される特定の膜セル系およ
び塩水の特性によつていくらか変動しうる。 ブライン処理帯域３０は、膜セル２中での再利
用のためのブラインの処理または準備に関する操
作からなつている。生成される一次生成物が塩
素、水素および苛性物であるほとんどの標準的膜
セル系においてはこれら操作は以下の段階を包含
している。 １ 塩素除去 ２ 新しい塩による再飽和 ３ カルシウム、マグネシウムおよびサルフエー
トイオンの沈殿、および ４ 必要な場合にはPHの調整 処理帯域３０中での処理の完了後、このブライ
ンは再生ブラインと称される。これは処理帯域３
０からプロセスライン３８を経て混合タンク３９
に送られる。そしてそこで以下に記載の比率で非
サルフエート生成還元剤例えば無機過酸化物をこ
の再生ブラインに加えるのが好ましい。次いでこ
の処理されたブラインをライン40を経てイオン交
換ユニツト４１に送り、ここでカルシウムとマグ
ネシウムイオンの最終除去が行われる。次いでこ
の改善されそして再生されたブラインは膜セル２
中での再使用のためにブラインライン４２を経て
陽極液チヤンバー４の導入口１４に送られる。 本発明の方法の好ましい実施例においては、無
機パーオキサイドを添加して利用しうる塩素の除
去は完全には理解されていないが一つのメカニズ
ムによりパーオキソ結合の切断による利用しうる
塩素の接触還元により達成される。その結果モル
パーオキサイドの消費量は大きく減少して慣用の
化学量論的モル要求量より可成り少ない。これは
また、通常再循環ブラインのPHの低下をもたら
す。パーオキサイドは一般に水性溶液の形態で、
塩素除去、沈殿およびPH調整段階の後で存在する
溶解塩素およびハイポクロライトを合したもの１
モル当り約0.15〜約0.80モルの操作可能範囲、約
0.15〜約4.5モルの好ましい範囲、そして約0.2〜
約0.4モルのより好ましい範囲に等しい量で再循
環ブラインに加えられる。合計利用しうる塩素に
対するそのような低いモル比の無機パーオキサイ
ドを使用してこの利用しうる塩素の実質的除去を
達成することは驚くべきかつ予期せざることであ
る。その理由は同様のシステムにおけるこれまで
の経験によると、再循環ブラインから利用しうる
塩素の当モル当量を除去するためには約１モルの
過酸化水素が必要であつたからである。 慣用の化学量論的モル要求量よりも可成低くモ
ルパーオキサイドの量を大きく減少させるその他
の潜在的に有意のフアクターはパーオキサイド添
加段階における特定のブライン処理プロセス中の
ブライン中に存在するハイポハライトイオンの低
い濃度である。パーオキサイド添加段階でのプロ
セスに潜在的に影響するものとして見逃すことの
できないその他のフアクターはブライン中の高い
塩化物イオンのモル濃度である。これはブライン
溶液のイオン強度を実質的に上昇させそれによつ
て実質的に水分活性を低下させる。これは次い
で、利用しうるパーオキシイオンに対する水との
溶液中での競争を低下させることによつてそして
所望の還元を行わせるためのハイポハライトイオ
ンとパーオキシイオンとの有効な反応時間を増加
させることによつてパーオキソ結合活性による利
用しうる塩素の触媒還元を容易ならしめる。 この反応に包含される反応の正確な性質は理解
されていない。無機パーオキサイドが触媒反応で
溶解ハイポクロライトイオンおよび塩素と反応し
て酸素、使用された無機元素の酸素含有化合物お
よびクロリドイオンを水性溶液中で生成させると
考えられる。パーオキサイドとしてH2O2を使用
した場合これは方程式(1)および(2)におけるように
示される。 H2O2＋OCl-→O2＋H2O＋Cl- (1) H2O2＋Cl2→O2＋2H+＋2Cl- (2) ハイポクロライド含量のいくらかはまた方程式
(3)に示されるようにハイポクロライトイオンをク
ロレートおよびクロリドとの混合物へ変換するこ
とによつても消費しうる。 3OCl-→ClO3 -＋2Cl- (3) またパーオキサイドが添加された時、通常ブラ
インのPHは約0.1〜約3.0の値だけ低下することが
見出されている。以下に示されているようにこの
PHと利用しうる塩素の併合減少はブライン再処理
の間特に有利でありうる。 非サルフエート生成還元剤を次いで第１図のプ
ロセスに示されている混合タンク３９へ添加する
ために使用することができる。その例としては修
酸、グリオキサール、アルコール、有機パーオキ
サイドおよび無機パーオキサイドをあげることが
できる。本発明の方法に使用することのできる代
表的無機パーオキサイドとしては過酸化水素
（H2O2）、オゾン、アルカリ金属パーオキサイド
例えばカリウムパーオキサイド（K2O2）、ナトリ
ウムパーオキサイド（Na2O2）、アルカリ金属ス
ーパーオキサイド例えばカリウムスーパーオキサ
イド（KO2）、ナトリウムスーパーオキサイド
（NaO2）およびそれらの混合物があげられる。
H2O2が好ましい無機パーオキサイドである。 このプロセスの基本的反応条件は特別に臨界的
なものではない。例えば再循環ブライン温度は約
50゜〜約110℃の範囲でありうる。更に初期のブラ
インのPHは約１〜約12の範囲であり、一方反応時
間は約１〜約20分に変動させうる。選ばれた還元
例えばパーオキサイドは直接液体溶液としてブラ
インに加えることができるしまたはオゾンの場合
には泡としてブラインに通すことができる。
H2O2の場合には特別の混合装置を必要としない
予備混合した濃厚溶液を容易に入手できることが
本発明のプロセスの実施を特に簡便にする。この
ことはこのプロセスに可成りの多用性を加えてい
る。パーオキサイドは慣用の塩素除去工程の後
で、処理帯域３０に加えられなくてはならない
が、濃縮または再飽和後の添加が好ましい。 PHと利用しうるハロゲンの併合低下はブライン
再飽和および過剰のCa++とMg++イオンを沈殿さ
せて予備処理の後で特に有用である。ブラインの
改善に使用されるイオン交換樹脂は連続的安全使
用のためにPH9.5以上ではないブラインを要する
ことが知られている。しかし再飽和により導入さ
れた溶解Ca++および特にMg++イオンの大部分を
沈殿させる予備処理の結果として、ブラインはこ
の値をかなり上廻るPHを有しうる。そこである量
の鉱酸、通常はHClをこの処理帯域３０に加えて
PHを9.5以下に低下させなくてはならない。本発
明のプロセスを使用した場合には、H2O2の添加
により生ぜしめられた自然のPH低下がこの結果の
達成に必要な鉱酸量を実質的に減少させるように
働く。 陰極液チヤンバー６から陽極液チヤンバー４を
分離させる陽イオン選択透過膜８は一般に適当な
金属または織物例えばポリフルオロオレフイン
布、レーヨンまたはそれらの混合物で補強された
固体フルオロカーボン重合体より構成されてい
る。 本発明のプロセスにおける膜として使用するに
適当な物質としては、米国特許第4036714号明細
書記載のタイプのスルホン酸置換パーフルオロカ
ーボン重合体、米国特許第4085071号明細書記載
の第一級アミン置換重合体、米国特許第4030988
号明細書のタイプのポリアミンおよびジアミン置
換重合体、米国特許第4065366号明細書記載のカ
ルボン酸置換重合体および米国特許第4255240号
明細書記載の混合スルホン酸／カルボン酸置換重
合体があげられる。これら特許はここに参考とし
て包含されている。 膜の厚さは約３〜約20ミル、そして好ましくは
約５〜約10ミルの範囲でありうる。選ばれた膜に
対しては、ポリテトラフルオロエチレンまたは同
様の不活性物質よりなる膜に対する積層不活性布
支持体物質を使用することができる。 前記の膜は本発明のプロセスの操作に対して最
高の全体的効率を与えるように思われるがアルカ
リ金属ハライドを含有するブラインからアルカリ
金属水酸化物の電解製造を行いうる任意の不活性
親水性膜物質を使用しうることは理解されるべき
である。 膜電解セル中では任意の適当な電極を陽極また
は陰極として使用しうる。典型的陽極は陽極表面
の少くとも一部分の上にエレクトロアクテイブコ
ーテイングを有しているグラフアイトまたは多孔
性の金属例えばチタニウムまたはタンタルのもの
である。適当なコーテイングとしては白金族金
属、白金族金属酸化物、白金族金属の合金または
これらの混合物のものがあげられる。「白金族金
属」なる用語はルテニウム、ロジウム、白金、パ
ラジウム、オスミウムおよびイリジウムよりなる
群の元素を意味している。またグラフアイトより
なる陽極または例えば米国特許第3632498号明細
書記載の金属酸化物コーテイング基材よりなる陽
極もまた有効である。そのような電極が陽極とし
て使用される場合、陽極塩素過電圧は最小とな
る。 陰極として使用されうる物質の例としては炭素
鋼、ステンレススチール、ニツケル、ニツケルモ
リブデン合金、ニツケルバナジウム合金およびラ
ネーニツケルベース合金がある。 陰極および陽極はそれぞれ固体形、フエルト、
メツシユ、多孔性物体、充填床、エクスパンドメ
タル、またはその他の構造設計されたものであり
うる。Cl2の陽極電解製造または苛性物の陰極電
解製造をなしうる任意の電極構造をそれぞれ本発
明における陽極または陰極として使用しうる。 以下の例は本発明をより完全に定義するために
与えられているもので本発明をこれにより限定さ
せるものではない。すべての部および％は特記さ
れない限り重量基準である。 例 １ 85℃の温度の慣用の膜セルからとつた、次の分
析値、すなわち 「利用しうる塩素」（Cl2＋NaOCl）
8.87ｇ／（0.06モル） NaClO3 21.60ｇ／ NaCl 254.6ｇ／ PH 4.6 を有する500mlの成分除去ブラインの試料を撹拌
しつつ35％H2O2で徐々に滴定して次の結果を得
た。
【表】
H2O2添加完了時のブラインの組成は次のとお
りであつた。 NaClO3 22.09ｇ／ NaCl 256.9ｇ／ PH 1.7 添加されたH2O2の、最初に存在していた「利
用しうる」塩素に対するモル比は（0.0132／
0.06）約0.22：１である。 例 ２ 90℃の温度における次の分析値すなわち 利用しうる塩素 0.022ｇ／（0.00015モル） NaClO3 2.50ｇ／ NaCl 195.4ｇ／ PH 1.2 を有する500mlの塩素除去ブラインの試料を撹拌
しつつ0.35％H2O2で徐々に滴定して次の結果を
得た。
りであつた。 NaClO3 22.09ｇ／ NaCl 256.9ｇ／ PH 1.7 添加されたH2O2の、最初に存在していた「利
用しうる」塩素に対するモル比は（0.0132／
0.06）約0.22：１である。 例 ２ 90℃の温度における次の分析値すなわち 利用しうる塩素 0.022ｇ／（0.00015モル） NaClO3 2.50ｇ／ NaCl 195.4ｇ／ PH 1.2 を有する500mlの塩素除去ブラインの試料を撹拌
しつつ0.35％H2O2で徐々に滴定して次の結果を
得た。
【表】
H2O2添加完了時のブラインの組成は以下の通
りであつた。 利用しうる塩素 検出されず NaClO3 10.71ｇ／ NaCl 155.3ｇ／ PH 1.2 添加されたH2O2の最初に存在していた「利用
しうる」塩素に対するモル比は（0.00006／
0.00015）約0.4である。 例 ３ 塩素除去したブラインを一定量のNaOHおよ
びNa2CO3と反応させてカルシウムおよびマグネ
シウムイオンを沈澱させた約60℃の温度および下
記の分析値 利用しうる塩素 0.00098ｇ／（0.00006モル） NaClO3 1.24ｇ／ NaCl 310.9ｇ／ PH 9.9 を有する500mlの試料を約10分間0.2mlの0.35％
H2O2（モル比＝0.4）と混合した。この時間の後
次の結果が得られた。 利用しうる塩素 検出されず NaClO3 1.27ｇ／ NaCl 309.3ｇ／ PH 9.3
りであつた。 利用しうる塩素 検出されず NaClO3 10.71ｇ／ NaCl 155.3ｇ／ PH 1.2 添加されたH2O2の最初に存在していた「利用
しうる」塩素に対するモル比は（0.00006／
0.00015）約0.4である。 例 ３ 塩素除去したブラインを一定量のNaOHおよ
びNa2CO3と反応させてカルシウムおよびマグネ
シウムイオンを沈澱させた約60℃の温度および下
記の分析値 利用しうる塩素 0.00098ｇ／（0.00006モル） NaClO3 1.24ｇ／ NaCl 310.9ｇ／ PH 9.9 を有する500mlの試料を約10分間0.2mlの0.35％
H2O2（モル比＝0.4）と混合した。この時間の後
次の結果が得られた。 利用しうる塩素 検出されず NaClO3 1.27ｇ／ NaCl 309.3ｇ／ PH 9.3
図は本発明の方法の実施に使用する電解膜セル
系を説明する略図である。
系を説明する略図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 閉ループブライン系を備える隔膜クロルアル
カリ電解槽より排出される再循環ブラインを脱ハ
ロゲン処理し、カルシウム、マグネシウムおよび
サルフエートイオンを沈澱させ場合によりPHの調
整を行つた後このようにして処理したブラインに
サルフエートを生成しない還元剤を該ブライン中
に存在する溶解ハロゲンおよびハイポハライトイ
オンの合計１モル当たり約0.15〜約0.80モルに等
しい量で添加し、次いでこのようにして処理した
ブラインをイオン交換処理に付することを特徴と
する、再循環ブライン中の溶解ハロゲンおよびハ
イポハライトイオン濃度を減少させる方法。 ２ 沈澱処理の前、脱ハロゲン処理の後にブライ
ンを再飽和させることを包含する、前記特許請求
の範囲第１項記載の方法。 ３ ブライン中に存在する溶解ハロゲンおよびハ
イポハライトイオンの合計したもの１モル当たり
約0.15〜約0.45モルの範囲の還元剤の量のサルフ
エートを生成しない還元剤を加えることを包含す
る、前記特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４ ブライン中に存在する溶解ハロゲンおよびハ
イポハライトイオンの合計したもの１モル当たり
約0.20〜約0.40モルの範囲の還元剤の量のサルフ
エートを生成しない還元剤を加えることを包含す
る、前記特許請求の範囲第１項記載の方法。 ５ サルフエートを生成しない還元剤として無機
パーオキサイドを使用することを包含する、前記
特許請求の範囲第４項記載の方法。 ６ 無機パーオキサイドが過酸化水素、オゾン、
ナトリウムパーオキサイド、ナトリウムスーパー
オキサイド、カリウムパーオキサイドおよびカリ
ウムスーパーオキサイドおよびそれらの混合物よ
りなる群から選ばれる前記特許請求の範囲第５項
記載の方法。 ７ 無機パーオキサイドが過酸化水素である前記
特許請求の範囲第６項記載の方法。 ８ サルフエートを生成しない還元剤が有機パー
オキサイドである前記特許請求の範囲第４項記載
の方法。 ９ ブラインが１当り約10ｇまでの合計溶解ハ
ロゲンおよびハイポハライト含量を包含している
前記特許請求の範囲第１項記載の方法。 １０ ブラインの温度が約50℃〜約110℃である
前記特許請求の範囲第１項記載の方法。 １１ ブラインのPHが約１〜約12の間である前記
特許請求の範囲第１項記載の方法。 １２ ブライン中の前記アルカリ金属ハライドが
塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、塩化カリウ
ム、臭化カリウムまたはそれらの混合物よりなる
群から選ばれる前記特許請求の範囲第１項記載の
方法。 １３ アルカリ金属ハライドが塩化ナトリウムで
ある前記特許請求の範囲第１２項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/600,678 US4470891A (en) | 1983-03-31 | 1984-04-16 | Process for removing available halogen from anolyte brine |
| US600678 | 1984-04-16 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JPS6319597B2 true JPS6319597B2 (ja) | 1988-04-23 |
Family
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59188269A Granted JPS60230992A (ja) | 1984-04-16 | 1984-09-10 | 再循環ブライン中の溶解ハロゲンおよびハイポハライトイオン濃度を減少させる方法 |
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| JP (1) | JPS60230992A (ja) |
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Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8321934D0 (en) * | 1983-08-15 | 1983-09-14 | Ici Plc | Electrolytic cell module |
| JPS6077982A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-02 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 塩素酸塩抑制法 |
| DE3345898A1 (de) * | 1983-12-20 | 1985-07-04 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur entfernung von sulfat aus elektrolysesole |
| US4555323A (en) * | 1984-05-24 | 1985-11-26 | Collier Richard B | Chlorination device |
| US5112464A (en) * | 1990-06-15 | 1992-05-12 | The Dow Chemical Company | Apparatus to control reverse current flow in membrane electrolytic cells |
| JP3048612B2 (ja) * | 1990-09-06 | 2000-06-05 | ペルメレック電極株式会社 | 電解オゾン発生装置 |
| US5792336A (en) * | 1995-09-18 | 1998-08-11 | Elif Technologies Ltd. | Method for purification of wastewater from soluble substances |
| JP3651872B2 (ja) * | 1997-11-28 | 2005-05-25 | クロリンエンジニアズ株式会社 | 塩水中の硫酸根と塩素酸根の除去方法 |
| US6340736B1 (en) | 1999-11-29 | 2002-01-22 | General Electric Company | Method and apparatus for the production of polycarbonates with brine recycling |
| FR2803856B1 (fr) * | 2000-01-13 | 2002-07-05 | Atofina | Synthese de l'hydroxyde de tetramethylammonium |
| WO2008011505A1 (en) * | 2006-07-20 | 2008-01-24 | Board Of Supervisors Of Louisiana State University And Agricultural And Mechanical College | Power and hydrogen generation system |
| DE102007005541A1 (de) * | 2007-02-03 | 2008-08-07 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zur elektrochemischen Entchlorung von Anolytsole aus der NaCI-Elektrolyse |
| EP2366040B1 (en) | 2008-12-17 | 2018-04-11 | Thyssenkrupp Uhde Chlorine Engineers (Italia) S.r.l. | Process for producing chlorine, caustic soda, and hydrogen |
| US10125039B2 (en) | 2016-10-24 | 2018-11-13 | Kuwait University | Method of recycling brine from a multi-stage flash desalination plant |
| US11118275B2 (en) * | 2018-08-24 | 2021-09-14 | Ugsi Solutions, Inc. | Self-cleaning system and method of cleaning electrolytic cells |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53116297A (en) * | 1977-03-22 | 1978-10-11 | Tokuyama Soda Co Ltd | Electrolyzing method for aqueous solution of alkali chloride |
| JPS53123396A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-27 | Tokuyama Soda Co Ltd | Salt water treating method |
| US4272338A (en) * | 1979-06-06 | 1981-06-09 | Olin Corporation | Process for the treatment of anolyte brine |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3630674A (en) * | 1969-06-13 | 1971-12-28 | Hooker Chemical Corp | Bleaching of alkali metal hydroxide solutions |
| US4242375A (en) * | 1972-11-25 | 1980-12-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Process for producing optical transmission fiber |
| US3920529A (en) * | 1974-05-28 | 1975-11-18 | Olin Corp | Control of alkali metal chlorates in mercury cell brine |
| DE2450259B2 (de) * | 1974-10-23 | 1979-03-29 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Reinigung von Elektrolysesole |
| US4169773A (en) * | 1978-01-16 | 1979-10-02 | Hooker Chemicals & Plastics Corp. | Removal of chlorate from electrolytic cell anolyte |
| US4405465A (en) * | 1982-06-30 | 1983-09-20 | Olin Corporation | Process for the removal of chlorate and hypochlorite from spent alkali metal chloride brines |
| US4397720A (en) * | 1982-09-29 | 1983-08-09 | Olin Corporation | Removal of chlorate and hypochlorite from electrolyte cell brine |
| US4443307A (en) * | 1983-03-21 | 1984-04-17 | Olin Corporation | Reduction of available chlorine in alkali brines |
-
1984
- 1984-04-16 US US06/600,678 patent/US4470891A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-08-30 CA CA000462098A patent/CA1259274A/en not_active Expired
- 1984-09-05 AU AU32734/84A patent/AU572554B2/en not_active Ceased
- 1984-09-10 DE DE8484306205T patent/DE3470572D1/de not_active Expired
- 1984-09-10 JP JP59188269A patent/JPS60230992A/ja active Granted
- 1984-09-10 EP EP84306205A patent/EP0159433B1/en not_active Expired
- 1984-09-10 BR BR8404514A patent/BR8404514A/pt not_active IP Right Cessation
- 1984-09-11 ZA ZA847134A patent/ZA847134B/xx unknown
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53116297A (en) * | 1977-03-22 | 1978-10-11 | Tokuyama Soda Co Ltd | Electrolyzing method for aqueous solution of alkali chloride |
| JPS53123396A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-27 | Tokuyama Soda Co Ltd | Salt water treating method |
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