JPS63195724U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63195724U JPS63195724U JP8729387U JP8729387U JPS63195724U JP S63195724 U JPS63195724 U JP S63195724U JP 8729387 U JP8729387 U JP 8729387U JP 8729387 U JP8729387 U JP 8729387U JP S63195724 U JPS63195724 U JP S63195724U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- semiconductor wafer
- wafer stage
- air intake
- intake path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 2
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
第1図は本考案の一実施例における断面図、第
2図は露光機本体及び、ホトレジスト及びホトレ
ジストの飛沫防御用シヤツターの断面図、第3図
は従来例を示す図である。 1……吸気経路、2……半導体ウエハステージ
、3……半導体ウエハ、4……滴下ノズル、5…
…吸引ポンプ、6……モーター、7……ホトレジ
スト、8……ホトレジストのたまり、9……露光
機本体、10……ホトレジスト及びホトレジスト
現像液の飛沫防御用シヤツター、11……ホトレ
ジスト現像液噴射ノズル、12……プーリー、1
3……発光体、14……ホトレジスト露光光、1
5……集光レンズ。
2図は露光機本体及び、ホトレジスト及びホトレ
ジストの飛沫防御用シヤツターの断面図、第3図
は従来例を示す図である。 1……吸気経路、2……半導体ウエハステージ
、3……半導体ウエハ、4……滴下ノズル、5…
…吸引ポンプ、6……モーター、7……ホトレジ
スト、8……ホトレジストのたまり、9……露光
機本体、10……ホトレジスト及びホトレジスト
現像液の飛沫防御用シヤツター、11……ホトレ
ジスト現像液噴射ノズル、12……プーリー、1
3……発光体、14……ホトレジスト露光光、1
5……集光レンズ。
Claims (1)
- 吸気経路を有する半導体ウエハステージと前記
吸気経路を有する半導体ウエハステージ上方に設
置される滴下ノズルとを有するホトレジスト塗布
装置において、ホトレジスト及びホトレジスト現
像液の飛沫防御機構を有する露光機と、ホトレジ
スト現像液噴射ノズルを前記吸気経路を有する半
導体ウエハステージ裏面外側へ配置することを特
徴とするホトレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8729387U JPS63195724U (ja) | 1987-06-04 | 1987-06-04 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8729387U JPS63195724U (ja) | 1987-06-04 | 1987-06-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63195724U true JPS63195724U (ja) | 1988-12-16 |
Family
ID=30944364
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8729387U Pending JPS63195724U (ja) | 1987-06-04 | 1987-06-04 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63195724U (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62276828A (ja) * | 1986-02-20 | 1987-12-01 | Nec Corp | 半導体製造装置 |
-
1987
- 1987-06-04 JP JP8729387U patent/JPS63195724U/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62276828A (ja) * | 1986-02-20 | 1987-12-01 | Nec Corp | 半導体製造装置 |