JPS63195724U - - Google Patents

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JPS63195724U
JPS63195724U JP8729387U JP8729387U JPS63195724U JP S63195724 U JPS63195724 U JP S63195724U JP 8729387 U JP8729387 U JP 8729387U JP 8729387 U JP8729387 U JP 8729387U JP S63195724 U JPS63195724 U JP S63195724U
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JP
Japan
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photoresist
semiconductor wafer
wafer stage
air intake
intake path
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JP8729387U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例における断面図、第
2図は露光機本体及び、ホトレジスト及びホトレ
ジストの飛沫防御用シヤツターの断面図、第3図
は従来例を示す図である。 1……吸気経路、2……半導体ウエハステージ
、3……半導体ウエハ、4……滴下ノズル、5…
…吸引ポンプ、6……モーター、7……ホトレジ
スト、8……ホトレジストのたまり、9……露光
機本体、10……ホトレジスト及びホトレジスト
現像液の飛沫防御用シヤツター、11……ホトレ
ジスト現像液噴射ノズル、12……プーリー、1
3……発光体、14……ホトレジスト露光光、1
5……集光レンズ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 吸気経路を有する半導体ウエハステージと前記
    吸気経路を有する半導体ウエハステージ上方に設
    置される滴下ノズルとを有するホトレジスト塗布
    装置において、ホトレジスト及びホトレジスト現
    像液の飛沫防御機構を有する露光機と、ホトレジ
    スト現像液噴射ノズルを前記吸気経路を有する半
    導体ウエハステージ裏面外側へ配置することを特
    徴とするホトレジスト塗布装置。
JP8729387U 1987-06-04 1987-06-04 Pending JPS63195724U (ja)

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JP8729387U JPS63195724U (ja) 1987-06-04 1987-06-04

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JP8729387U JPS63195724U (ja) 1987-06-04 1987-06-04

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JPS63195724U true JPS63195724U (ja) 1988-12-16

Family

ID=30944364

Family Applications (1)

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JP8729387U Pending JPS63195724U (ja) 1987-06-04 1987-06-04

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JP (1) JPS63195724U (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62276828A (ja) * 1986-02-20 1987-12-01 Nec Corp 半導体製造装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62276828A (ja) * 1986-02-20 1987-12-01 Nec Corp 半導体製造装置

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