JPS63194360A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS63194360A
JPS63194360A JP62028428A JP2842887A JPS63194360A JP S63194360 A JPS63194360 A JP S63194360A JP 62028428 A JP62028428 A JP 62028428A JP 2842887 A JP2842887 A JP 2842887A JP S63194360 A JPS63194360 A JP S63194360A
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JP
Japan
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input
gates
diodes
gate
ccd
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JP62028428A
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JPH0831586B2 (ja
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Yoshihiro Miyamoto
義博 宮本
Yuichiro Ito
雄一郎 伊藤
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • H01L27/14831Area CCD imagers

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は、特にハイブリッド型のIRCCD  (In
frared Chayge Coupled Dev
icesの略)において、多画素化による転送能力の低
下を防止するため、I RCCDの1ビツトに対し、少
なくとも4画素を対応させ、入力ゲートによるアドレス
により、高性能の多画素化を実現したものである。
〔産業上の利用分野〕
本発明は赤外線2次元センサ用の半導体装置に関するも
のである。
赤外線2次元センサとして、ハイブリッド型IRCCD
は有望であるが、多画素化(大規模化)されるにつれ、
1ビツト当たりのセル容量が減少し、性能が劣化する(
セル容量が減少すると、入力信号を有効に受は入れるこ
とができなくなり、入力信号中の多くの部分が放出され
てしまう)問題がある。
このため、セル容量を低下させることなく、多画素化す
る方法が必要となる。
〔従来の技術〕
第3図は従来のIRCCDの単位セルの構成図であって
、10は4つの転送電極φ1.φ2.φ3.φ4より成
る1ビツトのCCD 、11は蓄積ゲート、12は入力
ゲート、13は入力ダイオード、14はオーバーフロー
ゲート、15はオーバーフロードレイン、16は移送ゲ
ートをそれぞれ示す。
従来の単位セルは第3図に示すように、単一の蓄積ゲー
ト11に対して入力ゲート12と入力ダイオード13を
各1個宛対応させた構成になっている。
しかして例えばt1gcdTe結晶等からなる赤外線検
知素子20によって検出された赤外線は、信号化されて
入力ダイオード13に入力され、人力ゲート12を介し
て蓄積ゲート11に入力される。そして蓄積ゲート11
に入力された赤外線信号は、移送ゲート16からCCD
 10の転送電極φ3に入力され、図示しないCCUの
出力部から取り出される。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら上記半導体装置は、多画素化のために単位
セルの寸法を微細化すると、セル容量が低下して転送能
力が劣化するなどの問題点があった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の半導体装置は、第1図の実施例図に示すように
、単一の蓄積ゲート11に、4個の第1の入力ゲート2
a、 2B、 2c、 2dおよび2個の第2の入力ゲ
ート2A、 2Bを介して4個の入力ダイオード3a。
3b、 3c、 3dを接続し、該入力ダイオード3a
〜3dが前記第1および第2の入力ゲートによって時分
割的に選択される構成になっている。
なお、14A、14Bはオーバーフローゲート、15A
、15Bはオーバーフロードレイン、10はCCDを示
している。
〔作用〕
このように構成された半導体装置は、入力ゲートをアド
レスすることによって4個の入力ダイオードの内の1つ
を選択し、その出力信号をCCDに入力することで、時
分割的に、1ビツトのCCDで4画素を読み出すことが
できる。この場合、積分時間は通常の動作の1/4にな
るが、光電変換効率が高い場合は全く問題とはならない
〔実施例〕
以下実施例図に基づいて本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す模式図であるが、前記
第3図と同一部分には同一符号を付している。
第1図に示すように、本発明にかかる単位セルは、蓄積
ゲート11を挟む形で配置された4個の入力ダイオード
3a、 3b、 3c、 3dと、8亥入力ダイオード
と前記単一の蓄積ゲート11との間に配置された4個の
第1の入力ゲート2a、 2b、 2c、 2dと、2
個の第2の人カゲーt−2A、 2Bと、それを挟む形
で配置された各1対のオーバーフローゲー)14A 、
 14Bおよびオーバーフロードレイン15A 、 1
5Bと、1ビツトのCCD 10とによって構成され、
前記4個の第1の入カゲー)2a、 2cおよび2b、
 2dは、母線XI、 X2によって、また第2の入力
ゲート2^、 2Bは、母線Yl、 Y2によって時分
割的に制御される。
なお、図中の■〜■は赤外線検知素子を示している。ま
た1個の入力ダイオードが選択されている時は他の3個
の入力ダイオードはオーバーフローゲートを介してオー
バーフロードレインに電気的に接続されるよう制御され
る。
このように構成された半導体装置によれば、前記入力ダ
イオード3a、 3b、 3c、 3dからの入力を4
つに鋳分割してCCD 10に転送することができるた
め信号が重複せず、信号の溢れ現象が無(なって半導体
装置の効率化を実現できる。
第2図(alと(blは本発明の一応用例を示す結線図
    ・と信号形態の一例を示す図である。
第2図Ta)に示すようにこの応用例は、3×3の9ビ
ツト構成になっている。図中、点線内はCCDを示し、
2点鎖線内はCCDを除く入力部分を示している。
また丸印で示す符号1〜4は第1図に示した第1の入力
ゲート2a〜2dに対応し、丸印5,6は第2の入力ゲ
ート2A、 2Bに対応している。第1の入力ゲート2
a〜2dは母線Xi、 X2に、第2の入カゲー)2A
、 2Bは母線Yl、 Y2に接続されている。
母線XI、 X2およびYl、 Y2に第2図(b)に
示すパルスを印加すれば、4つの入力ダイオード3a〜
3dからの入力電荷が時分割で順次蓄積ゲート11下へ
注入され、移送ゲート16とCCD 10内を転送され
て図示しない出力部から出力される。
なお、本実施例では4画素を2重構造の入力ゲートで選
択するようにしたが、3重以上のゲート数にして、より
多くの画素を時分割で選択できることは勿論である。
〔発明の効果〕
本発明によれば、少ないビット数のCCDで多数の画素
からの信号を読み出せることから、セル容量の増大とあ
いまって、高性能、多画素化が容易に実現できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す模式図、第2図(a)
と(b)は本発明の一応用例を示す結線図と信号形態の
一例を示す図、 第3図は従来の単位セルの構成を示す模式図である。 図中、2a、 2b、 2c、 2dは第1の入力ゲー
ト、加、 2Bは第2の入力ゲート、 3a、3b+ 3c、 3dは入力ダイオード、10は
CCD 。 11は蓄積ゲート、 14A、14Bはオーバーフローゲート、15A、15
Bはオーバーフロードレイン、16は移送ゲート、 をそれぞれ示す。 千秒恥一定府剥図 第1図 +Q)               Yr  Y22
ト泡日胛−fこ、ff1fPJ図 第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 入力ダイオードから蓄積ゲート下に入力される信号電荷
    を入力ゲートによって制御し、かつ前記蓄積ゲート下の
    電荷を移送ゲートを介してCCDへ入力する構成の半導
    体装置において、 単一の蓄積ゲート(11)に、複数の入力ゲート(2a
    ,2b,2c,2d,2A,2B)を介して少なくとも
    4個以上の入力ダイオード(3a,3b,3c,3d)
    を接続し、該入力ダイオード(3a〜3d)が前記入力
    ゲート(2a〜2d,2A,2B)へのバイアスの有無
    によって時分割的に選択される構成にしたことを特徴と
    する半導体装置。
JP62028428A 1987-02-09 1987-02-09 半導体装置 Expired - Lifetime JPH0831586B2 (ja)

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JP62028428A JPH0831586B2 (ja) 1987-02-09 1987-02-09 半導体装置

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JP62028428A JPH0831586B2 (ja) 1987-02-09 1987-02-09 半導体装置

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Publication Number Publication Date
JPS63194360A true JPS63194360A (ja) 1988-08-11
JPH0831586B2 JPH0831586B2 (ja) 1996-03-27

Family

ID=12248387

Family Applications (1)

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JP62028428A Expired - Lifetime JPH0831586B2 (ja) 1987-02-09 1987-02-09 半導体装置

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JP (1) JPH0831586B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04225686A (ja) * 1990-12-27 1992-08-14 Fujitsu Ltd 撮像装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH04225686A (ja) * 1990-12-27 1992-08-14 Fujitsu Ltd 撮像装置

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JPH0831586B2 (ja) 1996-03-27

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