JPS63190163A - 蒸発源るつぼにおける気密構造 - Google Patents

蒸発源るつぼにおける気密構造

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JPS63190163A
JPS63190163A JP2159987A JP2159987A JPS63190163A JP S63190163 A JPS63190163 A JP S63190163A JP 2159987 A JP2159987 A JP 2159987A JP 2159987 A JP2159987 A JP 2159987A JP S63190163 A JPS63190163 A JP S63190163A
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JP
Japan
Prior art keywords
crucible
cap
high melting
lid
source crucible
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Pending
Application number
JP2159987A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriyuki Yoshida
葭田 典之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication of JPS63190163A publication Critical patent/JPS63190163A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は真空蒸着に用いる蒸発源るつぼ、特にるつぼ
と蓋の間の気密構造に関するものである。
〔従来の技術〕
従来の真空蒸着用の蒸発源としては第5図aに示すよう
なボード形状のものがある。
このボード形状のものは高融点金属からなる薄板1の中
央に凹部2を設け、この凹部2に蒸@試薬を載せ、薄板
1に大電流を流してジュール熱により発熱させ、試薬を
加熱させるものである。
また、第5図すのようにアルミナ磁器、カーボンなどの
耐熱材料からなる円筒容器形のるっぽ3の中に蒸着試料
を入れ、るつぼ3の外側に巻いたコイル状のヒータ4に
電流を流すことによりるっぽ3を加熱し、その内部の蒸
着試料を蒸発させるものもある。
上記のるつぼ3の場合、第5図Cのように、るつぼ3の
開口部に小孔5を有する蓋6を被せて、この小孔5のみ
から蒸気流を射出させるようにしたものが使用されてい
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記のような蒸発源るつぼの場合、第5図Cのようにる
つぼ3の開口部に蓋6を被せただけではるつぼ3と16
間に僅かながら隙間があるのが普通であり、その隙間か
ら蒸発気体が洩れて無駄となる試薬が多くなる。また、
蒸着試薬が腐食性の強いものの場合は、洩れた蒸発気体
により周囲のヒータ4を腐食して、甚しいときはヒータ
4を断線させたりする。さらに、蒸発しやすい化合物を
つくって蒸着膜に不純物を混入させる場合もある。
上記のような問題点を解決するために、第6図aに示す
ようにるつぼ3の開口部外周に雄ネジを設け、蓋6をね
じ込み式にしたり、耐熱性接着剤7によって蓋6の周縁
をるつぼ3に気密を保つように固定したりする方法もと
られているが、ねじ込みの場合はネジ部の隙間は解消せ
ず、接着剤を用いる方法では接着剤が蒸発してこれが蒸
着nりに異物として混入するという問題があった。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の問題点を解決するために、この発明はるつぼの開
口部周縁と蓋の接触部に気密を保持するための高融点金
属薄板を挾み込むもので、高融点金属薄板に接触するる
つぼと蓋の接触部の断面形状は凸円弧状または鋭角状の
凸部などとしたものである。
〔作用〕
この発明は上記の構成であるから、るつぼの開口部周縁
上の接触部と蓋の下側の接触部の間に高融点金属薄板を
介在させたのち、蓋をねじ込みなどの手段によってるつ
ぼに締め込んでいくと、再接触部が金属薄板を挾み込ん
でるつぼの開口周縁部と蓋の間の気密を保つ状態となる
〔実施例〕
第1図に示す第1の実施例において、11はカーボンに
よって作られたるつぼ、12はその上端開口部外周の突
縁で、この突縁12の外周に雄ネジを設ける。
13は中央に小孔14を有する蓋であって、これもカー
ボンにより作られる。この113の周囲の下向縁15の
内周に雌ネジを設ける。
また、るつぼ11の開口部の内周には半径的2■の凸弧
状横断面を有する接触部16を全周に亘って設け、蓋1
3の下面にも上記接触部16に対向する半径約2鵬の凸
弧状横断面を有する接触部17を全周に亘って設ける。
上記再接触部16.17の接点における接線は水平面に
対して20@〜80@の間とするが、好ましく約45°
である。
18は高融点金属薄板で金または白金を用い、その厚み
は約0.1〜0.5閣である。
また、上記金属薄板18は環状で、かつテーパ状である
。ただし、必ずしもテーパ状にする必要はない。
いま、上記の金属薄板18を第3図aのように、るつぼ
11と113の相対向している接触部16.17間に介
在させた状態で、るつぼ11の突縁12の外周の雄ネジ
に蓋13の下向縁15の内周の雌ネジを徐々にねじ込ん
で、接触部16.17で第3図すのように金属薄板18
を挾み込む。
第2図は他の実施例を示すもので、るつぼ11の内側上
端と蓋13の下端面にそれぞれ形成した環状の接触部2
1.22はそれぞれ鋭角状断面を有するもので、高融点
金属薄板23は平板の環状であり、他の部分は第1図の
実施例と同じである。
この場合、第4図のaのように金属薄板23をるつぼ1
1と蓋13の再接触部21.22間に介在させた状態で
、前記実施例と同様にるつぼ11の突縁12の外周の雄
ネジに蓋13の下向縁15の内周の雌ネジを徐々にねじ
込んで接触部21.22を第4図すのように金属薄板2
3の上下面に食い込んだ状態で挾み込む。
この際、実施例では接触部21.22の径を異ならせて
食い違い状にしであるが、同径にして同じ位置において
金属薄板23を挾むようにしてもよい。
上記の各実施例の場合、るつぼ11と蓋13を手動操作
により締め込むだけでるつぼ11の開口部周囲と蓋13
とは完全に気密となり、真空中において、10000°
Cまでの加熱冷却を50回繰り返しても気密性は劣化し
なかった。
〔効果〕
この発明は上記のように、るつぼの開口部周縁と蓋の接
触部の間に高融点金属薄板を介在させ、ねじ込みなどの
手段により前接触部で金属薄板を挾み込むものであるか
ら、るつぼの開口部周縁と蓋の接触部の気密が完全に保
たれ、しかも金属薄板は高融点金属からなっているから
、高温においても破れるおそれはなく、高温加熱と冷却
を繰り返しても気密性劣化のおそれはない、従って蓋に
設けた小孔以外の隙間からの蒸発気体の無駄な洩れがな
くなり、蒸発試薬量も節約でき、蒸発試薬が腐食性の場
合でもるつぼ周囲のヒータなどを腐食させるおそれはな
い。
この発明の気密構造を用いた蒸発源るつぼは、上記のよ
うな優れた特性を有するので、真空蒸着装置に利用する
ことにより高品位の蒸着膜を作ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図はこの発明を実施した吟っぽの各偶を示
す縦断正面図、第3図a、bは第1図の実施例の要部の
作用を示す拡大断面図、第4図a、bは第2図の実施例
の要部の作用を示す拡大断面図、第5図a、b、cは従
来例を示す斜視図および断面図、第6図a、bは気密構
造の従来例を示す断面図である。 11・・・・・・蒸発源るつぼ、13・・・・・・蓋、
14・・・・・・小孔、16.17.21.22・・・
・・・接触部、18.23・・・・・・高融点金属薄板
。 特許出願人  住友電気工業株式公社 同代理人  鎌  1) 文  二 第1図        第3図 第5図

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)試薬を入れるるつぼと、このるつぼ上の開口部に
    被せる小孔付きの蓋により構成した真空蒸着用蒸発源る
    つぼにおいて、るつぼの開口部周縁と蓋の接触部に気密
    を保持するための高融点金属薄板を挾み込むことを特徴
    とする蒸発源るつぼにおける気密構造。
  2. (2)上記高融点金属薄板に接触するるつぼと蓋の接触
    部の断面形状を凸円弧状としたことを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の蒸発源るつぼにおける気密構造。
  3. (3)上記高融点金属薄板に接触するるつぼと蓋の接触
    部の断面形状を鋭角状の凸部としたことを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の蒸発源るつぼにおける気密構
    造。
  4. (4)上記高融点金属薄板が0.1〜0.5mmの厚さ
    を有するものであることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の蒸発源るつぼにおける気密構造。
  5. (5)上記高融点金属薄板の材質が金または白金である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の蒸発源る
    つぼにおける気密構造。
JP2159987A 1987-01-31 1987-01-31 蒸発源るつぼにおける気密構造 Pending JPS63190163A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100375341B1 (ko) * 2000-08-18 2003-03-10 대백신소재주식회사 흑연화 처리용 도가니
EP3209810A1 (de) * 2014-10-23 2017-08-30 Solibro Research AB Verdampungstiegel
CN107502864A (zh) * 2017-08-17 2017-12-22 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚盖及其盖合方法和坩埚

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CN107502864B (zh) * 2017-08-17 2019-08-23 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚盖及其盖合方法和坩埚

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