JPS63185962A - ピラゾロン誘導体の製造方法 - Google Patents
ピラゾロン誘導体の製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
) 本発明はピラゾロン誘導体の製造方法に関するもの
である。
である。
(従来の技術と問題点)
従来、一般式[2]で表わされる化合物、即ち、1−(
フェニル又は置換フェニル)−3−低級アルコシー5−
ピラゾロン類の製造法としては、通常、次式[4] す) で表わされるアセト蓚酸低級アルキルジエステル類と、
次式[5] (式中X及びYは、[2]式における夫々と同一のもの
を示す) で表わされる置換又は非置換のフェニルヒドラジンとを
縮合反応させることによって製造されている。
フェニル又は置換フェニル)−3−低級アルコシー5−
ピラゾロン類の製造法としては、通常、次式[4] す) で表わされるアセト蓚酸低級アルキルジエステル類と、
次式[5] (式中X及びYは、[2]式における夫々と同一のもの
を示す) で表わされる置換又は非置換のフェニルヒドラジンとを
縮合反応させることによって製造されている。
従って、本発明における前記[1]式で表わされる、ピ
ラゾロン誘導体、即ち、1−(フェニル又は置換フェニ
ル)−3−中級アルコキシ−5−ピラゾロン類は、前記
[4]式のアセト蓚酸低級アルキルジエステル類の代り
に、下記[4]′式%式%[4] (式中R3及びR2は、[2]式及び〔3]における夫
々と同一のものを示す) で表わされるアセト蓚酸低級アルキル中級アルキル混合
ジエステルを使用するか、4又は下記[4J“式 %式%[41 (式中R2は、[3]におけると同一のものを示す)で
表わされるアセト蓚酸中級アルキルジエステルを使用す
る外は、従来法における前記〔2」のピラゾロン誘導体
の製造法によって製造することが考えられる。
ラゾロン誘導体、即ち、1−(フェニル又は置換フェニ
ル)−3−中級アルコキシ−5−ピラゾロン類は、前記
[4]式のアセト蓚酸低級アルキルジエステル類の代り
に、下記[4]′式%式%[4] (式中R3及びR2は、[2]式及び〔3]における夫
々と同一のものを示す) で表わされるアセト蓚酸低級アルキル中級アルキル混合
ジエステルを使用するか、4又は下記[4J“式 %式%[41 (式中R2は、[3]におけると同一のものを示す)で
表わされるアセト蓚酸中級アルキルジエステルを使用す
る外は、従来法における前記〔2」のピラゾロン誘導体
の製造法によって製造することが考えられる。
しかしながら、この方法における前記式[11:’及び
[4]“のアセト蓚酸アルキルジエステルの製造は煩雑
かつ経済的でないうえ、これ等とフェニルヒドラジンと
からのピラゾロン誘導体の製造も困難であり実用性に乏
しい。
[4]“のアセト蓚酸アルキルジエステルの製造は煩雑
かつ経済的でないうえ、これ等とフェニルヒドラジンと
からのピラゾロン誘導体の製造も困難であり実用性に乏
しい。
即ち、前記[4]のアセト蓚酸低級アルキル(炭素数1
〜3のアルキル)ジエステルは、酢酸低級アルキルエス
テ、ルと蓚酸低級アルキルエステルとを単にナトリウム
低級アルコラードの存在下で縮合させることによって極
めて容易かつ安価に得られるが、式[4]′及び[4]
″のアセトn酸アルキルジエステルを製造するには、蓚
酸中級〜 アルキル(炭素数5〜10のアルキル)ジ
エステルと酢酸低級又は中級アルキルエステルとを縮合
させる要があるため操作が煩雑で経済性に乏しい。
〜3のアルキル)ジエステルは、酢酸低級アルキルエス
テ、ルと蓚酸低級アルキルエステルとを単にナトリウム
低級アルコラードの存在下で縮合させることによって極
めて容易かつ安価に得られるが、式[4]′及び[4]
″のアセトn酸アルキルジエステルを製造するには、蓚
酸中級〜 アルキル(炭素数5〜10のアルキル)ジ
エステルと酢酸低級又は中級アルキルエステルとを縮合
させる要があるため操作が煩雑で経済性に乏しい。
また、前記[41のアセト蓚酸低級アルキルジエステル
とフェニルヒドラジンとの縮合及び閉環反応は水溶媒で
円滑に行なわれるが、式[4]′及び[4]”のアセト
蓚酸中級アルキルジエステルとフェニルヒドラジンとの
反応は、水溶媒中では困難で収率も低く、実用性に乏し
い欠点がある。
とフェニルヒドラジンとの縮合及び閉環反応は水溶媒で
円滑に行なわれるが、式[4]′及び[4]”のアセト
蓚酸中級アルキルジエステルとフェニルヒドラジンとの
反応は、水溶媒中では困難で収率も低く、実用性に乏し
い欠点がある。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、従来法による上述の問題点を解決し、工業生
産上を利に、前示[1]式のピラゾロン誘導体を製造す
ることを目的として種々検討の結果達成されたものであ
る。
産上を利に、前示[1]式のピラゾロン誘導体を製造す
ることを目的として種々検討の結果達成されたものであ
る。
本発明の方法を以下詳細に説明するに、本性において、
一方の原料として使用される、前記(2)式で表わされ
る1−(フェニル又は置換フェニル)−3−低級アルコ
キシ−5−ピラゾロン類としては、[2]式におけるR
1が、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基のような炭素数1〜3の直鎖状又は分枝状のアルキル
基である化合物であり、具体的には例えば、1−フェニ
ル−3−カルボエトキシ−5−ピラゾロン類 ルボエトキシ−5−ピラゾロン、1−(2.4−ジメチ
ルフェニル)−3−カルボメトキシ−5−ピラゾロン、
■−(4−エチルフェニル)−3−カルボエトキシ−5
−ピラゾロン、■−(3−プロピルフェニル)−3−カ
ルボエトキシ−5−ピラゾロン、l−(2−メチル−6
−クロロフェニル)−3−カルボエトキシ−5− ピラ
ゾロン、1−(2−クロロフェニル)−3−カルボエト
キシ−5−ピラゾロン、■−(3−ブロモフェニル)−
3−カルボメトキシ−5−ピラゾロン、1−(2.5−
ジクロロフェニル)−3−カルボエトキシ−5−ピラゾ
ロンなどが挙げられる。
一方の原料として使用される、前記(2)式で表わされ
る1−(フェニル又は置換フェニル)−3−低級アルコ
キシ−5−ピラゾロン類としては、[2]式におけるR
1が、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基のような炭素数1〜3の直鎖状又は分枝状のアルキル
基である化合物であり、具体的には例えば、1−フェニ
ル−3−カルボエトキシ−5−ピラゾロン類 ルボエトキシ−5−ピラゾロン、1−(2.4−ジメチ
ルフェニル)−3−カルボメトキシ−5−ピラゾロン、
■−(4−エチルフェニル)−3−カルボエトキシ−5
−ピラゾロン、■−(3−プロピルフェニル)−3−カ
ルボエトキシ−5−ピラゾロン、l−(2−メチル−6
−クロロフェニル)−3−カルボエトキシ−5− ピラ
ゾロン、1−(2−クロロフェニル)−3−カルボエト
キシ−5−ピラゾロン、■−(3−ブロモフェニル)−
3−カルボメトキシ−5−ピラゾロン、1−(2.5−
ジクロロフェニル)−3−カルボエトキシ−5−ピラゾ
ロンなどが挙げられる。
また、他の原料である前記[3,1式で表わされるアル
コールとして,は、炭素数が5〜1oの直鎖状又は分枝
状のアルキル基を有するアルコールが使用され、一般に
炭素数の大きい高級アルコール程エステル交換反応が進
行し難くなる。
コールとして,は、炭素数が5〜1oの直鎖状又は分枝
状のアルキル基を有するアルコールが使用され、一般に
炭素数の大きい高級アルコール程エステル交換反応が進
行し難くなる。
本発明方法において使用される触媒としては、従来から
エステル交換反応に一般に使用されている触媒、例えば
硫酸、塩酸、リン酸又はp−)ルエンスルホン酸のよう
な有機スルホン酸等が挙げられる。
エステル交換反応に一般に使用されている触媒、例えば
硫酸、塩酸、リン酸又はp−)ルエンスルホン酸のよう
な有機スルホン酸等が挙げられる。
末法の反応は、[2]式の1−(フェニル又は置換フェ
ニル)−3−低級アルコキシ−5−ピラゾロン類の1モ
ルに対して[3]式のアルコールを等モル−20倍モル
、好ましくは4倍モル〜6倍モルを使用し、通常0.0
1〜0.1モル程度の前記触媒の存在下で加熱すること
によって行なわれる。温度は通常80−150°C1と
くに120〜135°C程度が好ましい。
ニル)−3−低級アルコキシ−5−ピラゾロン類の1モ
ルに対して[3]式のアルコールを等モル−20倍モル
、好ましくは4倍モル〜6倍モルを使用し、通常0.0
1〜0.1モル程度の前記触媒の存在下で加熱すること
によって行なわれる。温度は通常80−150°C1と
くに120〜135°C程度が好ましい。
末法の反応は、平衡反応であるので、反応によって副生
する低級アル;−ルを減圧下において可及的に除去する
のが望ましく、その結果エステル交換反応は極めて円滑
に進行し、90〜99%の転換率で目的とする[1]式
のピラゾロン誘導体を得ることができる。
する低級アル;−ルを減圧下において可及的に除去する
のが望ましく、その結果エステル交換反応は極めて円滑
に進行し、90〜99%の転換率で目的とする[1]式
のピラゾロン誘導体を得ることができる。
(発明の効果)
本発明の方法は、前述のように容易かつ安価に人手し得
る前記[4]のアセ[6酸部級アルキルジエステル及び
置換又は非置換の7フエニルヒドラジンから経済的に製
造される[21式の1−(〕−エニル又は置換フェニル
)−3−低級アルコキシ−5−ビラ、ゾロン類と、[3
]式の中級アルコールとから、目的とする[1]式のピ
ラゾロン誘導体を簡便かつ工業的有利に製造することが
できる。
る前記[4]のアセ[6酸部級アルキルジエステル及び
置換又は非置換の7フエニルヒドラジンから経済的に製
造される[21式の1−(〕−エニル又は置換フェニル
)−3−低級アルコキシ−5−ビラ、ゾロン類と、[3
]式の中級アルコールとから、目的とする[1]式のピ
ラゾロン誘導体を簡便かつ工業的有利に製造することが
できる。
(実施例)
以下本発明を実施例について更に詳細に説明するが、本
発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
実施例1
■−フェニルー3−(カルボー2−エチルヘキシル)−
5−ピラゾロンの製造: 冷却管、温度計を付した1000100Oの反応器に、
後記参考例1に記載の、方法で製造した1−フェニル−
3−カルボエトキシ−5〜ピラゾロン232g (1モ
ル)と2−エチルヘキシルアルコール600g(4,6
モル)及び硫酸7 g (0,07モル)を仕込み、常
圧下撹拌して125〜128℃に加熱し、生成するエチ
ルアルコールを留去させながら約2時間反応させた後減
圧下(200〜100 mn+Hg)で更に温度を12
5〜135°Cに保ち、生成するエチルアルコール及び
過剰量の2−エチルヘキシルアルコールを留去させなが
ら約7時間反応させた。転換率はHPLC値(高速液体
クロマトグラムの値)で98%であった。
5−ピラゾロンの製造: 冷却管、温度計を付した1000100Oの反応器に、
後記参考例1に記載の、方法で製造した1−フェニル−
3−カルボエトキシ−5〜ピラゾロン232g (1モ
ル)と2−エチルヘキシルアルコール600g(4,6
モル)及び硫酸7 g (0,07モル)を仕込み、常
圧下撹拌して125〜128℃に加熱し、生成するエチ
ルアルコールを留去させながら約2時間反応させた後減
圧下(200〜100 mn+Hg)で更に温度を12
5〜135°Cに保ち、生成するエチルアルコール及び
過剰量の2−エチルヘキシルアルコールを留去させなが
ら約7時間反応させた。転換率はHPLC値(高速液体
クロマトグラムの値)で98%であった。
反応終了後、トルエン■80IR1を加えて均一に混和
した後、20001dlの水中に注入し、7〜15℃で
撹拌しながら30%水酸化ナトリウム溶液をpl+ 1
2に達するまで添加した。次いで分液処理して目的物を
含む水層を分取し、これに50%硫酸70gを加えて中
和し、生成する油状物を採取し、水蒸気蒸留して残存す
るトルエン及び2−エチルヘキシルアルコールを完全に
除いて静置し、上層の水層を除去した。生成する結晶を
採取して1−フェニル−3−(カルボー2−エチルヘキ
シル)−5−ピラゾロン255gを得た。収率は80.
5χである。
した後、20001dlの水中に注入し、7〜15℃で
撹拌しながら30%水酸化ナトリウム溶液をpl+ 1
2に達するまで添加した。次いで分液処理して目的物を
含む水層を分取し、これに50%硫酸70gを加えて中
和し、生成する油状物を採取し、水蒸気蒸留して残存す
るトルエン及び2−エチルヘキシルアルコールを完全に
除いて静置し、上層の水層を除去した。生成する結晶を
採取して1−フェニル−3−(カルボー2−エチルヘキ
シル)−5−ピラゾロン255gを得た。収率は80.
5χである。
本品を更にシリカゲルクロマトグラフィー(溶媒トルエ
ン)により精製したものの物性値は下記の通りであった
。
ン)により精製したものの物性値は下記の通りであった
。
融点:94°C1
IR吸収スペクトル: (エステル) 1725cm−
’、’It−NMI?(δ、ppm、cDc l 3)
:2H5 ■ 1.6 〜1.0 ppm(158,m) C11
41(C112):Icll−CH2−。
’、’It−NMI?(δ、ppm、cDc l 3)
:2H5 ■ 1.6 〜1.0 ppm(158,m) C11
41(C112):Icll−CH2−。
5.93 ppm(IH,s) ピラゾロン環
。
。
7.7〜7.2 ppm(5H,m) ベンゼン環元
素分析値: 参考例1 ■−フェニルー3−カルボエトキシ−5−ピラゾロンの
製造: フェニルヒドラジン塩酸塩14.5g(0,1モル)と
アセト蓚酸ジエチルエステルナトリウム塩21g(0,
1モル)を水300戚中でpH3,0〜4.5で縮合さ
せ生成したヒドラゾンを単離した。このヒドラゾンを3
001dの水に懸濁し、炭酸ナトリウムを加えてpi
9.0〜10.3に保ち、25°Cで8時間撹拌して閉
環させ、この液に塩酸55rIlを加えて放置し、析出
した結晶を濾取して、融点1B5.8°Cの1−フェニ
ル−3−カルボエトキシ−5−ピラゾロン25.1gを
得た。
素分析値: 参考例1 ■−フェニルー3−カルボエトキシ−5−ピラゾロンの
製造: フェニルヒドラジン塩酸塩14.5g(0,1モル)と
アセト蓚酸ジエチルエステルナトリウム塩21g(0,
1モル)を水300戚中でpH3,0〜4.5で縮合さ
せ生成したヒドラゾンを単離した。このヒドラゾンを3
001dの水に懸濁し、炭酸ナトリウムを加えてpi
9.0〜10.3に保ち、25°Cで8時間撹拌して閉
環させ、この液に塩酸55rIlを加えて放置し、析出
した結晶を濾取して、融点1B5.8°Cの1−フェニ
ル−3−カルボエトキシ−5−ピラゾロン25.1gを
得た。
実施例2
l−(4−クロロフェニル)−3−(カルボ−n−ペン
チルオキシ)−5−ピラゾロンの製造; 後記参考例2に記載の方法で製造した、1−(4−クロ
ロフェニル)−3−カルボエトキシ−5−ピラゾロン2
0g(0,07モル)、n−ペンチルアルコール150
戚(1,3モル)及び硫酸0.5g(0,005モル)
を実施例1と同様の反応器に仕込み、常圧下撹拌して1
10〜120℃に加熱し、生成するエチルアルコールを
留去させながら約3時間反応させた後減圧(250〜1
50鑓Hg)とし、温度を130°Cに保持しながら更
に反応させ、生成するエチルアルコール及び過剰量のn
−ペンチルアルコールを留去させながら約4時間反応さ
せた。転換率はHPLC値で95%であった。
チルオキシ)−5−ピラゾロンの製造; 後記参考例2に記載の方法で製造した、1−(4−クロ
ロフェニル)−3−カルボエトキシ−5−ピラゾロン2
0g(0,07モル)、n−ペンチルアルコール150
戚(1,3モル)及び硫酸0.5g(0,005モル)
を実施例1と同様の反応器に仕込み、常圧下撹拌して1
10〜120℃に加熱し、生成するエチルアルコールを
留去させながら約3時間反応させた後減圧(250〜1
50鑓Hg)とし、温度を130°Cに保持しながら更
に反応させ、生成するエチルアルコール及び過剰量のn
−ペンチルアルコールを留去させながら約4時間反応さ
せた。転換率はHPLC値で95%であった。
反応終了後、アセトニトリル30gを加え、析出する結
晶を濾取し乾燥して、融点169.3°Cの1−(4−
クロロフェニル)−3−(カルボ−n−ペンチルオキシ
)−5−ピラゾロン19.6gを得た。この結晶をアセ
トニトリルから再結晶すれば融点169.7°Cの純品
(HPLC(tf100χ)が針状結晶として得られた
。収率は90%である。
晶を濾取し乾燥して、融点169.3°Cの1−(4−
クロロフェニル)−3−(カルボ−n−ペンチルオキシ
)−5−ピラゾロン19.6gを得た。この結晶をアセ
トニトリルから再結晶すれば融点169.7°Cの純品
(HPLC(tf100χ)が針状結晶として得られた
。収率は90%である。
参考例2
l−(4−クロロフェニル)−3−カルボエトキシ−5
−ピラゾロンの製造: ρ−クロロフェニルヒドラジン18 g (0,1モル
)とアセト蓚酸ジエチ、ルエステルナトリウム塩21g
(0,1モル)を参考例1と全く同様に処理して、融点
192.3℃の1−(4−クロロフェニル)−3−カル
ボエトキシ−5−ピラゾロン24.2gを得た。
−ピラゾロンの製造: ρ−クロロフェニルヒドラジン18 g (0,1モル
)とアセト蓚酸ジエチ、ルエステルナトリウム塩21g
(0,1モル)を参考例1と全く同様に処理して、融点
192.3℃の1−(4−クロロフェニル)−3−カル
ボエトキシ−5−ピラゾロン24.2gを得た。
実施例3
l−(4−メチルフェニル)−3−(カルボ−n−ペン
チルオキシ)−5−ピラゾロンの製造: 後記参考例3に記載の方法で製造した1−(4−メチル
フェニル)−3−カルボエトキシ−5−ピラゾロン20
g (0,08モル)、n−ペンチルアルコール15
0 m(1,3モル)及び硫酸0.5g(0,005モ
ル)を実施例2と全く同様に処理して融点147.9℃
の1−(4−メチルフェニル)−3−Cカルボ−n−ペ
ンチルオキシ)−5−ピラゾロン16.9gを得た。収
率は73%である。
チルオキシ)−5−ピラゾロンの製造: 後記参考例3に記載の方法で製造した1−(4−メチル
フェニル)−3−カルボエトキシ−5−ピラゾロン20
g (0,08モル)、n−ペンチルアルコール15
0 m(1,3モル)及び硫酸0.5g(0,005モ
ル)を実施例2と全く同様に処理して融点147.9℃
の1−(4−メチルフェニル)−3−Cカルボ−n−ペ
ンチルオキシ)−5−ピラゾロン16.9gを得た。収
率は73%である。
この結晶をアセトニトリルを用いて再結晶すれば融点1
50.3°Cの純品(IIPLC値100χ)が針状結
晶として得られた。
50.3°Cの純品(IIPLC値100χ)が針状結
晶として得られた。
参考例3
l−(4−メチルフェニル)−3−カルボエトキシ−5
−ピラゾロンの製造; p−)リルヒドラジン塩酸塩18 g (0,11モル
)とアセト蓚酸ジエチルエステルナトリウム塩21g(
0,1モル)を参考例1と全く同様に処理して融点18
0.6℃の1−(4−メチルフェニル)−3−カルボエ
トキシ−5−ピラゾロン25.8gを得た。
−ピラゾロンの製造; p−)リルヒドラジン塩酸塩18 g (0,11モル
)とアセト蓚酸ジエチルエステルナトリウム塩21g(
0,1モル)を参考例1と全く同様に処理して融点18
0.6℃の1−(4−メチルフェニル)−3−カルボエ
トキシ−5−ピラゾロン25.8gを得た。
実施例4
1−フェニル−3−(カルボ−n−ペンチルオキシ)−
5−ピラゾロンの製造= l−フェニル−3−カルボエトキシ−5−ピラゾロン2
3.2g (0,1モル)、n−ペンチルアルコール1
50mj!(1,3モル)及び硫酸0.5g(0,00
5モル)を実施例2と全く同様に処理して、融点128
.9℃の1−フェニル−3−(カルボ−n−ペンチルオ
キシ)−5−ピラゾロン20gを得た。収率は73%で
ある。
5−ピラゾロンの製造= l−フェニル−3−カルボエトキシ−5−ピラゾロン2
3.2g (0,1モル)、n−ペンチルアルコール1
50mj!(1,3モル)及び硫酸0.5g(0,00
5モル)を実施例2と全く同様に処理して、融点128
.9℃の1−フェニル−3−(カルボ−n−ペンチルオ
キシ)−5−ピラゾロン20gを得た。収率は73%で
ある。
手 続 補 正 書く自発)
昭和62年3月20日
特許庁長官 黒 1)明 雄 殿
1 事件の表示 昭和62年特許願第15281号2
発明の名称 ピラゾロン誘導体の製造方法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 岩城製薬株式会社 4 代理人 住 所 東京都港区赤坂4丁目13番5号明細書の発明
の詳細な説明の欄 6補正の内容 (1)明細書第2頁下から5行〜4行に「低級アルコシ
」とあるを「低級アルコキシ」と訂正する。
発明の名称 ピラゾロン誘導体の製造方法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 岩城製薬株式会社 4 代理人 住 所 東京都港区赤坂4丁目13番5号明細書の発明
の詳細な説明の欄 6補正の内容 (1)明細書第2頁下から5行〜4行に「低級アルコシ
」とあるを「低級アルコキシ」と訂正する。
(2)同第3頁下から4行にr RI00CCH2CO
COOR電」とあるをr RI00CCH2COCOO
R2Jと訂正する。
COOR電」とあるをr RI00CCH2COCOO
R2Jと訂正する。
(3)同第5頁16行に「(2)式」とあるを「[21
式」と訂正する。
式」と訂正する。
(4)同第8頁13行及び第9頁16行に「エチルヘキ
シル」とあるを「エチルへキシルオキシ」と訂正する。
シル」とあるを「エチルへキシルオキシ」と訂正する。
(5〉同第9頁18行に「シリカゲルクロマトグラフィ
ー」とあるを「シリカゲルカラムクロマトグラフィー」
と訂正する。
ー」とあるを「シリカゲルカラムクロマトグラフィー」
と訂正する。
(6)同第1O頁4〜5行の式
%式%
■亘」匡丘郊−CH2−Jと訂正する。
(7)同第10頁6〜7行の式
(8)同第12頁!5行に「p−クロロフェニルヒドラ
ジン」とある次に「塩酸塩」を挿入する。
ジン」とある次に「塩酸塩」を挿入する。
以 上
Claims (1)
- (1)一般式[2] ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・[2] (式中R_1は炭素数1〜3のアルキル基を示し、X及
びYは夫々水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜3の
アルキル基を示し、XとYは同一であっても異なってい
てもよい) で表わされる化合物を、 一般式[3] R_2−OH・・・・・・・・・・・・[3](式中R
_2は炭素数5〜10のアルキル基を示す)で表わされ
るアルコールと触媒の存在下エステル交換反応させるこ
とを特徴とする 一般式[1] ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・・・[1] (式中R_2は炭素数5〜10のアルキル基を示し、X
及びYは夫々水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜3
のアルキル基を示し、XとYは同一であっても異なって
いてもよい) で表わされるピラゾロン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1528187A JPS63185962A (ja) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | ピラゾロン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1528187A JPS63185962A (ja) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | ピラゾロン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63185962A true JPS63185962A (ja) | 1988-08-01 |
Family
ID=11884470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1528187A Pending JPS63185962A (ja) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | ピラゾロン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63185962A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6011052A (en) * | 1996-04-30 | 2000-01-04 | Warner-Lambert Company | Pyrazolone derivatives as MCP-1 antagonists |
-
1987
- 1987-01-27 JP JP1528187A patent/JPS63185962A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6011052A (en) * | 1996-04-30 | 2000-01-04 | Warner-Lambert Company | Pyrazolone derivatives as MCP-1 antagonists |
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