JPS63185952A - 新規な有機複合錯体 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/06—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom
- C07D213/16—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom containing only one pyridine ring
- C07D213/20—Quaternary compounds thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/04—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to the ring carbon atoms
- C07D215/10—Quaternary compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D217/00—Heterocyclic compounds containing isoquinoline or hydrogenated isoquinoline ring systems
- C07D217/02—Heterocyclic compounds containing isoquinoline or hydrogenated isoquinoline ring systems with only hydrogen atoms or radicals containing only carbon and hydrogen atoms, directly attached to carbon atoms of the nitrogen-containing ring; Alkylene-bis-isoquinolines
- C07D217/10—Quaternary compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D233/64—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms, e.g. histidine
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、7,7,8.8−テトラシアノキノジメタン
(以下TCNQという)およびTCNQのある種の誘導
体をアクセプターとし、N−アルキル含窒素複素環化合
物をドナーとする新規な有機複合錯体に関するものであ
る。
(以下TCNQという)およびTCNQのある種の誘導
体をアクセプターとし、N−アルキル含窒素複素環化合
物をドナーとする新規な有機複合錯体に関するものであ
る。
従来の技術
導電性有機化合物は、軽量であること、異方性を有する
こと、加工・成形が容易であること、化学的修飾が可能
であることなどの特徴を有するため、強い関心を持たれ
ている。
こと、加工・成形が容易であること、化学的修飾が可能
であることなどの特徴を有するため、強い関心を持たれ
ている。
このような導電性有機化合物の代表的なものとして、含
窒素複素環化合物とTCNQとからなるTCNQ&’I
体が知られている0文献としては、「有機半導体材料の
合成と応用」、株式会社シー・エム・シー発行、198
1年、 「現代化学」1株式会社東京化学同人発行、No、14
1.12〜19頁、1982年などがある。
窒素複素環化合物とTCNQとからなるTCNQ&’I
体が知られている0文献としては、「有機半導体材料の
合成と応用」、株式会社シー・エム・シー発行、198
1年、 「現代化学」1株式会社東京化学同人発行、No、14
1.12〜19頁、1982年などがある。
特開昭61−254561号公報には、含窒素複素環化
合物のカチオンと、TCNQのアニオンラジカルおよび
中性TCNQからなるTCNQ錯体が示されている。
合物のカチオンと、TCNQのアニオンラジカルおよび
中性TCNQからなるTCNQ錯体が示されている。
特開昭61−204173号公報には、特殊な71環系
含窒素複素環化合物とTCNQとの1:1または1:2
錯体が示されている。
含窒素複素環化合物とTCNQとの1:1または1:2
錯体が示されている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上述のTCNC1体は、高導電性ではあ
るが、融点が比較的高いため(たとえば、含窒素複素環
化合物とTCNQとのl:2錯体の場合でおおむね20
0℃以上)、加工や成形に際し制約があるという問題点
があり、TCNQ錯体の高導電性を維持しながらも融点
の低い導電性有機化合物の開発が強く要望されている。
るが、融点が比較的高いため(たとえば、含窒素複素環
化合物とTCNQとのl:2錯体の場合でおおむね20
0℃以上)、加工や成形に際し制約があるという問題点
があり、TCNQ錯体の高導電性を維持しながらも融点
の低い導電性有機化合物の開発が強く要望されている。
本発明は、このような状況に鑑み、従来のTCNQM体
に比し融点の低い有機錯体を見出すべくなされたもので
ある。
に比し融点の低い有機錯体を見出すべくなされたもので
ある。
問題点を解決するための手段
本発明は、「ピリジン、キノリンおよびイソキノリンよ
りなる群から選ばれた含窒素複素環化合物(D)のN−
アルキルオニウムカチオンと、一般式 (式中Rはアルキル基)で示される2.5−ビス[(ア
ルコキシカルボニル)エチル]−7.7。
りなる群から選ばれた含窒素複素環化合物(D)のN−
アルキルオニウムカチオンと、一般式 (式中Rはアルキル基)で示される2.5−ビス[(ア
ルコキシカルボニル)エチル]−7.7。
8、8−テトラシアノキノジメタン(A) およf/7
,7,8.8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ)
のアニオンラジカル [A ・ TC NQコ゛ とを構成成分とする一般式 %式%] で示される新規な有機複合錯体.」をその要旨とするも
のである。
,7,8.8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ)
のアニオンラジカル [A ・ TC NQコ゛ とを構成成分とする一般式 %式%] で示される新規な有機複合錯体.」をその要旨とするも
のである。
以下本発明の詳細な説明する。
化」」飢Uつ−
L式で示される2.5−ビス[(アルコキシカルボニル
)エチル]ー7.7,8.8ーテトラシアノキノジメタ
ン(A)は、TCNQ骨格を有する文献未載の新規な化
合物であり、本出願人はこの化合物につきすでに特願昭
60−166081号および特願昭61−256255
号として特許出願を行っている。
)エチル]ー7.7,8.8ーテトラシアノキノジメタ
ン(A)は、TCNQ骨格を有する文献未載の新規な化
合物であり、本出願人はこの化合物につきすでに特願昭
60−166081号および特願昭61−256255
号として特許出願を行っている。
L式の化合物(A)中、Rはアルキル基であり、該アル
キル基としては、たとえば、メチル。
キル基としては、たとえば、メチル。
エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、シクロヘキシル基など炭素
数1〜10程度のアルキル基があげられる。式中の2つ
のアルキル基は異なる種類のものであってもよいが,製
造上の容易さから通常は同一のものとする.工業的には
炭素数1〜4程度の低級アルキル基が実用的である。
基、オクチル基、デシル基、シクロヘキシル基など炭素
数1〜10程度のアルキル基があげられる。式中の2つ
のアルキル基は異なる種類のものであってもよいが,製
造上の容易さから通常は同一のものとする.工業的には
炭素数1〜4程度の低級アルキル基が実用的である。
上式の化合物(A)は、たとえば2つのRが共にメチル
基の場合、融点が168℃と低くかつメタノールをはじ
め汎用の溶媒にも良好な溶解性を示す.ちなみにTCN
Qは,融点が294〜296°C程度であり、溶媒もア
セトニトリル、ジオキサン、ジメチルホルムアミドなど
数種類のものに制限され,他のほとんどの有機溶媒に不
溶性である。
基の場合、融点が168℃と低くかつメタノールをはじ
め汎用の溶媒にも良好な溶解性を示す.ちなみにTCN
Qは,融点が294〜296°C程度であり、溶媒もア
セトニトリル、ジオキサン、ジメチルホルムアミドなど
数種類のものに制限され,他のほとんどの有機溶媒に不
溶性である。
」一式の化合物(A)は、一般式
(式中Rは前記と同一)で示される2.5−ビス(ジシ
アノメチレン)シクロヘキサン−l,4−イレン−(3
−プロピオン酸アルキル)を酸化することにより製造さ
れる。
アノメチレン)シクロヘキサン−l,4−イレン−(3
−プロピオン酸アルキル)を酸化することにより製造さ
れる。
酸化反応は,不活性ガス雰囲気中、N−プロモスクシン
イミドまたは臭素を用いて、通常アセトニトリルその他
の媒体中で行われ、系にはピリジンその他の塩基性物質
を存在させる。
イミドまたは臭素を用いて、通常アセトニトリルその他
の媒体中で行われ、系にはピリジンその他の塩基性物質
を存在させる。
この反応は、0℃ないし80℃で0.1〜8時間程度行
えば十分である。
えば十分である。
化合物(rV)に対するN−ブロモスクシンイミドまた
は臭素の反応比は、前者1モルに対し後者を1〜5モル
とするのが通常である。
は臭素の反応比は、前者1モルに対し後者を1〜5モル
とするのが通常である。
反応終了後は、必要に応じて系に水を加えて沈Sを析出
させ、ついで常法により精製する。
させ、ついで常法により精製する。
なお化合物(A)は、2.5−ビス(ジシアノメチレン
)シクロヘキサン−1,4−イレン−(3ニプロピオン
酸) (rVa)を酸化して2.5−ビス[カルボキ
シルエチル]−7,7,8,8−テトラシアノキノジメ
タンを得、これをエステル化することによっても得るこ
とができる。エステル化は公知の方法で行われ、たとえ
ばこの酸化生成物を塩化チオニル等で酸クロライドとし
た後、アルコールと反応させればよい、また、#化反応
中にエステル化を同時に行うときは、上記酸化反応中に
アルコールを共存させればよい。
)シクロヘキサン−1,4−イレン−(3ニプロピオン
酸) (rVa)を酸化して2.5−ビス[カルボキ
シルエチル]−7,7,8,8−テトラシアノキノジメ
タンを得、これをエステル化することによっても得るこ
とができる。エステル化は公知の方法で行われ、たとえ
ばこの酸化生成物を塩化チオニル等で酸クロライドとし
た後、アルコールと反応させればよい、また、#化反応
中にエステル化を同時に行うときは、上記酸化反応中に
アルコールを共存させればよい。
化合物(A)の原料である化合物(■)(または化合物
(IV a))は、たとえば特願昭60−166081
号に記載の方法により取得される。
(IV a))は、たとえば特願昭60−166081
号に記載の方法により取得される。
一般式
(R″はアルキル基)で示されるサクシニルコハク酸ジ
アルキルを、一般式 %式% (Rは水素またはアルキル基)で示されるアクリル酸ま
たはアクリル酸アルキルと反応させて、一般式 □で示されるシクロヘキサン−2,5−ジオン誘導体を
得る0反応は通常有機溶剤中、金属アルコラード触媒の
存在下に行われる。
アルキルを、一般式 %式% (Rは水素またはアルキル基)で示されるアクリル酸ま
たはアクリル酸アルキルと反応させて、一般式 □で示されるシクロヘキサン−2,5−ジオン誘導体を
得る0反応は通常有機溶剤中、金属アルコラード触媒の
存在下に行われる。
次に、上記シクロヘキサン−2,5−ジオン誘導体(I
I )を水媒体中で塩酸、硫酸、P−1ルエンスルフオ
ン酸、強酸型イオン交換樹脂などの強酸の存在下に加熱
すれば1式 で示されるシクロヘキサン−2,5−ジオン−1,4−
イレン−(3−プロピオン酸)が取得される。この化合
物(IIIa)をエステル化すれば、シクロヘキサン−
2,5−ジオン−1,4−イレン−(3−プロピオン酸
アルキル)(■)が取得される。
I )を水媒体中で塩酸、硫酸、P−1ルエンスルフオ
ン酸、強酸型イオン交換樹脂などの強酸の存在下に加熱
すれば1式 で示されるシクロヘキサン−2,5−ジオン−1,4−
イレン−(3−プロピオン酸)が取得される。この化合
物(IIIa)をエステル化すれば、シクロヘキサン−
2,5−ジオン−1,4−イレン−(3−プロピオン酸
アルキル)(■)が取得される。
続いて化合物(In)をマロノニトリルと反応させれば
、2.5−ビス(ジシアノメチレン)シクロヘキサン−
1,4−イレン−(3−7’ロピオン酸アルキル)(■
)が得られる。
、2.5−ビス(ジシアノメチレン)シクロヘキサン−
1,4−イレン−(3−7’ロピオン酸アルキル)(■
)が得られる。
この場合、上記化合物(]Ua)を先にマロ/ニトリル
と反応させて2.5−ビス(ジシアノメチレン)シクロ
ヘキサン−1,4−イレン−(3−7’ロピオン酸)C
■a>を得、ついでこの化合物(■a)をエステル化し
て化合物(ff)を得るようにしてもよい。
と反応させて2.5−ビス(ジシアノメチレン)シクロ
ヘキサン−1,4−イレン−(3−7’ロピオン酸)C
■a>を得、ついでこの化合物(■a)をエステル化し
て化合物(ff)を得るようにしてもよい。
化合物(A)の原料である化合物(IT)または(IV
a)は、そのほか、特願昭6’l−256255号に記
載の方法によっても製造可撤である。
a)は、そのほか、特願昭6’l−256255号に記
載の方法によっても製造可撤である。
すなわち、シクロヘキサン−1,4−ジオンをピロリジ
ンによりエナミン化して1.4−ジビロリジノシグロヘ
キサン1.3−ジエンを得、ついでこの化合物にアクリ
ル酸またはアクリル酸エステルを反応させて上記(ma
)または([I[)の化合物を製造する。
ンによりエナミン化して1.4−ジビロリジノシグロヘ
キサン1.3−ジエンを得、ついでこの化合物にアクリ
ル酸またはアクリル酸エステルを反応させて上記(ma
)または([I[)の化合物を製造する。
この反応は、以ドのように行われる。
m1段階の反応は、シクロヘキサン−1,4−ジオンを
ピロリジンによりエナミン化して1,4−ジビロリジノ
シクロヘキサン1.3−ジエンを得る反応である。
ピロリジンによりエナミン化して1,4−ジビロリジノ
シクロヘキサン1.3−ジエンを得る反応である。
溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが用
いられる。
いられる。
反応温度は、湯流下が好ましく、また反応中に副生ずる
氷を系外に除去しながら反応を進行させる。触媒は特に
必要ではないが、p−トルエンスルホン酸などの酸が使
用できる。
氷を系外に除去しながら反応を進行させる。触媒は特に
必要ではないが、p−トルエンスルホン酸などの酸が使
用できる。
反応系は、生成したジエナミンの酸化を防止するため、
窒素雰囲気下に保つのが有利である。
窒素雰囲気下に保つのが有利である。
ピロリジンの使用量は、シクロヘキサン−1゜4−ジオ
ン1モルに対して2〜4モルの範囲から!択する。
ン1モルに対して2〜4モルの範囲から!択する。
反応時間は、1〜3時間が適当である。
第1段階の反応生成液から溶媒および残余のピロリジン
を除去した後、第2段階の反応である不飽和化合物(ア
クリル酸またはアクリル酸エステル)との反応を行う。
を除去した後、第2段階の反応である不飽和化合物(ア
クリル酸またはアクリル酸エステル)との反応を行う。
溶媒としては、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、エ
タノール、メタノール、アセトニトリルなどが使用され
る。
タノール、メタノール、アセトニトリルなどが使用され
る。
不飽和化合物は、シクロヘキサン−1,4−ジオン当り
2〜4モルの割合で使用される。
2〜4モルの割合で使用される。
還流下で3〜24時間程度反応を行い、その後シクロヘ
キサン−1,4−ジオンに対して2モル当−1程度の水
を添加して1〜2時間時間量流下で加水分解反応を続行
すると、化合物(I[[a)または(III)が得られ
る。
キサン−1,4−ジオンに対して2モル当−1程度の水
を添加して1〜2時間時間量流下で加水分解反応を続行
すると、化合物(I[[a)または(III)が得られ
る。
化合物(ma)または(III)から化合物(rV)を
得る方法は前記と同一である。
得る方法は前記と同一である。
1旦亙j
TCNQは、常法により製造することができる。たとえ
ば、シクロヘキサン−1,4−ジオンをマロノニトリル
と反応させた後、N−ブロモスクシンイミドまたは臭素
を用いて酸化することにより取得される。
ば、シクロヘキサン−1,4−ジオンをマロノニトリル
と反応させた後、N−ブロモスクシンイミドまたは臭素
を用いて酸化することにより取得される。
含窒素複素環化合物(D)としては、ピリジン、キノリ
ンおよびイソキノリンよりなる群から選ばれた含窒素複
素環化合物が用いられる。
ンおよびイソキノリンよりなる群から選ばれた含窒素複
素環化合物が用いられる。
この含窒素複素環化合物(D)にヨウ化アルキルまたは
臭化アルキルを反応させれば、対応するN−フルキルオ
ニウムカチオン(D )、すなわち、N−アルキルピリ
ジニウムカチオン、N−アルキルキノリニウムカチオン
、N−アルキルインキノリニウムカチオン られる。これらのN−フルキルオニウムカチオンは、■
記の一般式で示される。
臭化アルキルを反応させれば、対応するN−フルキルオ
ニウムカチオン(D )、すなわち、N−アルキルピリ
ジニウムカチオン、N−アルキルキノリニウムカチオン
、N−アルキルインキノリニウムカチオン られる。これらのN−フルキルオニウムカチオンは、■
記の一般式で示される。
ここでR′は,水素または炭素数1〜10程度のアルキ
ル基、たとえば、メチル基、エチル基。
ル基、たとえば、メチル基、エチル基。
n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソ
ブチル基, 3eC−ブチル基、アミル基,ヘキシル基
、オクチル基などである.R′としては、特に炭素数1
〜4のアルキル基が好ましい。
ブチル基, 3eC−ブチル基、アミル基,ヘキシル基
、オクチル基などである.R′としては、特に炭素数1
〜4のアルキル基が好ましい。
瓦仇亙丘l護
本発明の有機複合錯体は、上述の含窒素複素環化合物(
D)のN−アルキルオニウムカチオン(D+)と、上述
の化合物(A)およびTCNQのアニオンラジカル [A・TCNQI” とを構J&成分とするものであり、一般式%式% この複合錯体は、好適には次の方法により製造される。
D)のN−アルキルオニウムカチオン(D+)と、上述
の化合物(A)およびTCNQのアニオンラジカル [A・TCNQI” とを構J&成分とするものであり、一般式%式% この複合錯体は、好適には次の方法により製造される。
(a)D−TCNQ’で示される錯体の溶剤溶液と化合
物(A)の溶剤溶液とを加温状態で混合し、冷却後、形
成した結晶を分離し、必要に応じて洗浄、乾燥する。
物(A)の溶剤溶液とを加温状態で混合し、冷却後、形
成した結晶を分離し、必要に応じて洗浄、乾燥する。
(b)D−A” で示される錯体の溶剤溶液とTCN
Qの溶剤溶液とを加温状態で混合し、冷却後、形成した
結晶を分離し,必要に応じて洗浄,乾燥する。
Qの溶剤溶液とを加温状態で混合し、冷却後、形成した
結晶を分離し,必要に応じて洗浄,乾燥する。
(c) D の溶剤溶液に化合物(A)の溶剤溶液と
TCNQの溶剤溶液とを加温状態で混合し、冷却後、形
成した結晶を分離し、必要に応じて洗浄、乾燥する。
TCNQの溶剤溶液とを加温状態で混合し、冷却後、形
成した結晶を分離し、必要に応じて洗浄、乾燥する。
ここで、D”−TCNQ7またはD+・A7で示される
錯体は、たとえば次のようにして取得することができる
。
錯体は、たとえば次のようにして取得することができる
。
(+)ヨウ化または臭化N−フルキルオニウムの溶剤溶
液と化合物(A)の溶剤溶液とを加温状態で混合し、冷
却後、形成した結晶を分離し、必要に応じて洗浄、乾燥
する。
液と化合物(A)の溶剤溶液とを加温状態で混合し、冷
却後、形成した結晶を分離し、必要に応じて洗浄、乾燥
する。
(11)ヨウ化または臭化N−アルキルオニウムの溶剤
溶液とTCNQまたは化合物(A)のリチウム錯体の溶
剤溶液とを加温状態で混合し、冷却後、形成した結晶を
分離し、必要に応じて洗浄。
溶液とTCNQまたは化合物(A)のリチウム錯体の溶
剤溶液とを加温状態で混合し、冷却後、形成した結晶を
分離し、必要に応じて洗浄。
乾燥する。
上記(a)、(b)、(C)、または(i)。
(ii)における溶剤または洗浄剤としては、たとえば
、アルコール(メタノール、エタノール、n−プロパノ
ール、インプロパツール等)、ケトン(アセトン、メチ
ルエチルケトン等)、ニトリル(アセトニトリル等)、
エステル(酢酸メチル。
、アルコール(メタノール、エタノール、n−プロパノ
ール、インプロパツール等)、ケトン(アセトン、メチ
ルエチルケトン等)、ニトリル(アセトニトリル等)、
エステル(酢酸メチル。
酢酸エチル等)、エーテル(ジメチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等)、炭化水素(ヘキサン等)、セロソル
ブなどの有機溶剤の1種または2種以上の混合物、ある
いはこれらの有機溶剤の含水物が用いられる。なお、上
に列挙した溶剤のうちでもTCNQは溶剤の種類がアセ
トニトリル、テトラヒドロフランなど数種類に限定され
るが、化合物(A)は汎用の溶剤に溶解するので、溶剤
の選択枝が広い。
ヒドロフラン等)、炭化水素(ヘキサン等)、セロソル
ブなどの有機溶剤の1種または2種以上の混合物、ある
いはこれらの有機溶剤の含水物が用いられる。なお、上
に列挙した溶剤のうちでもTCNQは溶剤の種類がアセ
トニトリル、テトラヒドロフランなど数種類に限定され
るが、化合物(A)は汎用の溶剤に溶解するので、溶剤
の選択枝が広い。
形成した複合錯体は、有機化合物のみを構成成分とする
ものでありながら高導電性を示すので、導電性塗料、導
電性インク、導電性プラスチフクス、導電性ゴム、高機
能導電性分子膜、電極、液晶表示管、太陽電池、高密度
メモリー、非線形光学材料、生物素子、固体電解質およ
びコンデンサーなどの用途に有用である。
ものでありながら高導電性を示すので、導電性塗料、導
電性インク、導電性プラスチフクス、導電性ゴム、高機
能導電性分子膜、電極、液晶表示管、太陽電池、高密度
メモリー、非線形光学材料、生物素子、固体電解質およ
びコンデンサーなどの用途に有用である。
作 用
D4・T CN Q” と化合物(A)との反応。
D−A’ とTCNQとの反応、あるいはD とAお
よびTCNQとの反応により、N−アルキルオニウムカ
チオン(D+)と、上述の化合物(A)およびTCNQ
の7ニオンラジカル [A・TCNQ]’ とを構成成分とする複合錯体 D′+ ・ [A・TCNQI7 が得られる。
よびTCNQとの反応により、N−アルキルオニウムカ
チオン(D+)と、上述の化合物(A)およびTCNQ
の7ニオンラジカル [A・TCNQ]’ とを構成成分とする複合錯体 D′+ ・ [A・TCNQI7 が得られる。
この複合錯体は、電荷移動型の錯化合物であり、すぐれ
た導電性を示す。
た導電性を示す。
実 施 例
次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。
ヒ A 1 ゛坤すクシ
ニルコハク酸ジエチル(I ) 128.13g (0
,5モル)、アクリル酸メチル112.4g (1,0
モル)、ナトリウムメチラート2.18g (0,04
モル)およびメタノール7001を混合し、アルゴン置
換後、15時間還流下に反応を行った。ついでメタノー
ルを減圧留去し、ベンゼンを加えた少着の水を加えて分
液し、ベンゼン層を乾燥後、減圧留去し、黄褐色のオイ
ルであるシクロヘキサン−2゜5−ジオン誘導体(n)
181.97gを得た。
ニルコハク酸ジエチル(I ) 128.13g (0
,5モル)、アクリル酸メチル112.4g (1,0
モル)、ナトリウムメチラート2.18g (0,04
モル)およびメタノール7001を混合し、アルゴン置
換後、15時間還流下に反応を行った。ついでメタノー
ルを減圧留去し、ベンゼンを加えた少着の水を加えて分
液し、ベンゼン層を乾燥後、減圧留去し、黄褐色のオイ
ルであるシクロヘキサン−2゜5−ジオン誘導体(n)
181.97gを得た。
上記で得たシクロへキサン−2,5−ジオン誘導体(I
I ) 177.55g (0,414モル)、木30
0m1およびe[EMtlOgを混合し、塁流下に反応
させた。
I ) 177.55g (0,414モル)、木30
0m1およびe[EMtlOgを混合し、塁流下に反応
させた。
反応の進行と共に沸点が低下するので1時々メタノール
、エタノールを留去し、反応を 120時間継続した。
、エタノールを留去し、反応を 120時間継続した。
ついでメタノール、エタノールを留去した後、冷却した
。
。
析出した結晶をろ別し、融点190℃の生成物29.9
8gを得た。これを水より再結晶し、融点192〜19
4℃のシクロヘキサン−2,5−ジオン−1,4−イレ
ン−(3−プロピオン酸)(ma’)を得た。
8gを得た。これを水より再結晶し、融点192〜19
4℃のシクロヘキサン−2,5−ジオン−1,4−イレ
ン−(3−プロピオン酸)(ma’)を得た。
上記で得たシクロヘキサン−2,5−ジオン−1,4−
イレン−(3−プロピオン酸) (IIIa)12.
8g (50ミリモル)を水300m1に溶解後、当騒
の炭酸水素ナトリウムで中和し、ついでマロンニトリル
8.8g (100ミリモル)とβ−アラニンi、og
を加え、水浴上で加熱を2時間行い、冷却後希塩酸で酸
性となし、析出した結晶をろ別後洗浄、乾燥し、2.5
−ビス(ジシアノメチレン)シクロヘキサン−1,4−
イレン−(3−7”ロピオン酸) (1’Va) 8
.6gを得た。
イレン−(3−プロピオン酸) (IIIa)12.
8g (50ミリモル)を水300m1に溶解後、当騒
の炭酸水素ナトリウムで中和し、ついでマロンニトリル
8.8g (100ミリモル)とβ−アラニンi、og
を加え、水浴上で加熱を2時間行い、冷却後希塩酸で酸
性となし、析出した結晶をろ別後洗浄、乾燥し、2.5
−ビス(ジシアノメチレン)シクロヘキサン−1,4−
イレン−(3−7”ロピオン酸) (1’Va) 8
.6gを得た。
上記で得た2、5−ビス(ジシアノメチレン)シクロへ
午サンー1.4−イレン−(3−プロピオ7酸)(rV
a)8.6gをメタノールに溶解後、10℃で塩化チオ
ニル31.Ogを添加し、2時間攪拌して、生成した結
晶をろ別し、洗浄後乾燥して、2.5−ビス(ジシアノ
メチレン)シクロヘキサ7−1.4−イレン−(3−プ
ロピオン酸メチル)(IV)8.3gを得た。
午サンー1.4−イレン−(3−プロピオ7酸)(rV
a)8.6gをメタノールに溶解後、10℃で塩化チオ
ニル31.Ogを添加し、2時間攪拌して、生成した結
晶をろ別し、洗浄後乾燥して、2.5−ビス(ジシアノ
メチレン)シクロヘキサ7−1.4−イレン−(3−プ
ロピオン酸メチル)(IV)8.3gを得た。
に記で得た2、5−ビス(ジシアノメチレン)シクロへ
午サンー1.4−イレン−(3−7’ロビオン酸メチル
) (ff) 5.7gをアセトニトリル5001
に懸濁させ、アルゴン?1換後N−ブロモスクシンイミ
ド6.0gを加え、1時間攪拌した。冷却後系の温度を
10℃以下に保ってピリジン9.0 gを添加し、2時
間攪拌した。水300m1を加えて析出した沈yをろ別
、水洗後、乾燥し、目的化合物5.1gを得た。2,5
−ビス(ジシアノメチレン)シクロヘキサン−1,4−
イレン−(3−プロピオン酸メチル)(■)に対する収
率は90%であった。
午サンー1.4−イレン−(3−7’ロビオン酸メチル
) (ff) 5.7gをアセトニトリル5001
に懸濁させ、アルゴン?1換後N−ブロモスクシンイミ
ド6.0gを加え、1時間攪拌した。冷却後系の温度を
10℃以下に保ってピリジン9.0 gを添加し、2時
間攪拌した。水300m1を加えて析出した沈yをろ別
、水洗後、乾燥し、目的化合物5.1gを得た。2,5
−ビス(ジシアノメチレン)シクロヘキサン−1,4−
イレン−(3−プロピオン酸メチル)(■)に対する収
率は90%であった。
この化合物の特性値は次の通りであり、式で示される2
、5−ビス[(メトキシカルボニル)エチル]−7.7
,8.8−テトラシアノキノジメタン(A−1)である
と確認された。
、5−ビス[(メトキシカルボニル)エチル]−7.7
,8.8−テトラシアノキノジメタン(A−1)である
と確認された。
融点 167〜168℃
IRν”’ 3050.29B0,2215.17
40゜8h +550 、1515 、1200 、1175 。
40゜8h +550 、1515 、1200 、1175 。
915、 90O
NMRδ騙Sグ斧 2.81(48T) 、 3.8f
3(3HS)Mass ale 378.345
. 344. 317゜303、259. 258(B
)、 257また、2,5−ビス(ジシアノメチレン)
シクロヘキサン−1,4−イレン−(3−7’ロピオン
酸エチル)(■)を酸化することにより、2.5−ビス
[(エトキシカルボニル)エチル]−7゜7.8.8−
テトラシアノキノジメタン(A −2)を得た。
3(3HS)Mass ale 378.345
. 344. 317゜303、259. 258(B
)、 257また、2,5−ビス(ジシアノメチレン)
シクロヘキサン−1,4−イレン−(3−7’ロピオン
酸エチル)(■)を酸化することにより、2.5−ビス
[(エトキシカルボニル)エチル]−7゜7.8.8−
テトラシアノキノジメタン(A −2)を得た。
1以U
シクロヘキサン−1,4−ジオンをマロノニトリルと反
応させた後、N−ブロモスクシンイミドまたは臭素を用
いて酸化することにより取得されたTCNQを用いた。
応させた後、N−ブロモスクシンイミドまたは臭素を用
いて酸化することにより取得されたTCNQを用いた。
ヨウ上N−アルキルオニウム D” I’−ピリジン、
キノリン、イソキノリンに等モルのヨウ化メチル、ヨウ
化エチル、ヨウ化イソプロピル、ヨウ化n−プロピル、
ヨウ化イソプロピルまたはヨウ化n−ブチルを反応させ
ることにより、ド記のヨウ化N−フルキルオニウム(D
”I−)ヲ得た。
キノリン、イソキノリンに等モルのヨウ化メチル、ヨウ
化エチル、ヨウ化イソプロピル、ヨウ化n−プロピル、
ヨウ化イソプロピルまたはヨウ化n−ブチルを反応させ
ることにより、ド記のヨウ化N−フルキルオニウム(D
”I−)ヲ得た。
D−1”I−ヨウ化N−メチルピリジニウムD−2”I
−ヨウ化N−n−ブチルピリジニウムD−3’I−ヨウ
化N−エチルキノリニウムD−41ヨウ化N−イソプロ
ピルキノリニウム D−51ヨウ化N−エチルインキノリニウムD−8I
ヨウ化N−n−プロピルインキノリニウム D−7I ヨウ化N−n−ブチルイソキノリニウム 実施例1〜10 上述の化合物(A>またはTCNQと上述の各種ヨウ化
N−フルキルオニウム(DI)、!:lflいて、下記
(a)または(b)の方法により複合錯体を製造した。
−ヨウ化N−n−ブチルピリジニウムD−3’I−ヨウ
化N−エチルキノリニウムD−41ヨウ化N−イソプロ
ピルキノリニウム D−51ヨウ化N−エチルインキノリニウムD−8I
ヨウ化N−n−プロピルインキノリニウム D−7I ヨウ化N−n−ブチルイソキノリニウム 実施例1〜10 上述の化合物(A>またはTCNQと上述の各種ヨウ化
N−フルキルオニウム(DI)、!:lflいて、下記
(a)または(b)の方法により複合錯体を製造した。
まず、化合物(A)またはTCNQのリチウム錯体をエ
タノールに加温溶解し、これに等モルのヨウ化N−アル
キルオニウム(D”I−)を加温溶解したアセトニトリ
ル溶液を混合し、室温にて放置冷却した。析出した結晶
をろ取し、エタノールで洗浄後、真空乾燥して、D″・
A7 またはD+・TCNQ’錯体を得た。
タノールに加温溶解し、これに等モルのヨウ化N−アル
キルオニウム(D”I−)を加温溶解したアセトニトリ
ル溶液を混合し、室温にて放置冷却した。析出した結晶
をろ取し、エタノールで洗浄後、真空乾燥して、D″・
A7 またはD+・TCNQ’錯体を得た。
(a)h記で得たD+・TCNQ?で示される錯体のア
セトニトリル溶液と、該錯体と等モルの化合物(A)の
アセトニトリル溶液とを加温状態で混合し、室温にて放
置冷却した。析出した結晶をろ取し、アセトニトリルで
洗浄後、真空乾燥して、複合錯体を得た。
セトニトリル溶液と、該錯体と等モルの化合物(A)の
アセトニトリル溶液とを加温状態で混合し、室温にて放
置冷却した。析出した結晶をろ取し、アセトニトリルで
洗浄後、真空乾燥して、複合錯体を得た。
(b)上記で得たD+・A?で示される錯体のアセトニ
トリル溶液と、該錯体と等モルのTCNQのアセトニト
リル溶液とを加温状態で混合し、冷却した。析出した結
晶をろ取し、アセトニトリルで洗浄後、真空乾燥して、
複合錯体を得た。
トリル溶液と、該錯体と等モルのTCNQのアセトニト
リル溶液とを加温状態で混合し、冷却した。析出した結
晶をろ取し、アセトニトリルで洗浄後、真空乾燥して、
複合錯体を得た。
得られた複合錯体の性状、特性を第1表に示す。
また比較のため、常法により得られた含窒素複素環化合
物とTCNQとの1:2錯体の融点および比抵抗を併せ
て第1表の注2に示す・特性値中、比抵抗は、複合錯体
を常法により加圧成形した後、二端子法により測定を行
い、次式により求めたものである。
物とTCNQとの1:2錯体の融点および比抵抗を併せ
て第1表の注2に示す・特性値中、比抵抗は、複合錯体
を常法により加圧成形した後、二端子法により測定を行
い、次式により求めたものである。
比抵抗(Ω・C11)=抵抗値(Ω)X電極接触苗植(
c+ai) /試料厚さくCa+)発明の効果 未発明の新規なイT機複合錯体は、従来のTCNQ 3
6体の高導電性を維持しながら、融点が極めて低くなっ
ているので加工性・成形性が顕著に改善される。
c+ai) /試料厚さくCa+)発明の効果 未発明の新規なイT機複合錯体は、従来のTCNQ 3
6体の高導電性を維持しながら、融点が極めて低くなっ
ているので加工性・成形性が顕著に改善される。
よって本発明の有機複合錯体は、導電性材料等として、
従来のTCNQ錯体では期待しえなかった種々の用途が
期待できる。
従来のTCNQ錯体では期待しえなかった種々の用途が
期待できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ピリジン、キノリンおよびイソキノリンよりなる群
から選ばれた含窒素複素環化合物(D)のN−アルキル
オニウムカチオン(D^+)と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rはアルキル基)で示される2、5−ビス[(ア
ルコキシカルボニル)エチル]−7、7、8、8−テト
ラシアノキノジメタン(A)および7、7、8、8−テ
トラシアノキノジメタン(TCNQ)のアニオンラジカ
ル [A・TCNQ]^■ とを構成成分とする一般式 D^+・[A・TCNQ]^■ で示される新規な有機複合錯体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62016358A JPS63185952A (ja) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | 新規な有機複合錯体 |
DE3802170A DE3802170A1 (de) | 1987-01-27 | 1988-01-26 | Organischer mischkomplex |
GB8801671A GB2200635B (en) | 1987-01-27 | 1988-01-26 | Organic mixed complex of tetracyanoquinodimethane derivative |
US07/147,407 US4889934A (en) | 1987-01-27 | 1988-01-26 | Organic mixed complex |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62016358A JPS63185952A (ja) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | 新規な有機複合錯体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63185952A true JPS63185952A (ja) | 1988-08-01 |
Family
ID=11914120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62016358A Pending JPS63185952A (ja) | 1987-01-27 | 1987-01-27 | 新規な有機複合錯体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4889934A (ja) |
JP (1) | JPS63185952A (ja) |
DE (1) | DE3802170A1 (ja) |
GB (1) | GB2200635B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060252878A1 (en) * | 2005-05-09 | 2006-11-09 | Razdik Jason M | Plasticized aqueous alkali-soluble resin coating compositions with reduced odor and pH |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61204173A (ja) * | 1985-03-07 | 1986-09-10 | Takasago Corp | 導電性有機化合物 |
JPH0710842B2 (ja) * | 1985-05-02 | 1995-02-08 | 和光純薬工業株式会社 | 新規tcnq錯体 |
-
1987
- 1987-01-27 JP JP62016358A patent/JPS63185952A/ja active Pending
-
1988
- 1988-01-26 US US07/147,407 patent/US4889934A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-01-26 GB GB8801671A patent/GB2200635B/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-01-26 DE DE3802170A patent/DE3802170A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4889934A (en) | 1989-12-26 |
DE3802170C2 (ja) | 1991-06-27 |
DE3802170A1 (de) | 1988-08-04 |
GB2200635A (en) | 1988-08-10 |
GB2200635B (en) | 1991-03-06 |
GB8801671D0 (en) | 1988-02-24 |
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