JPS63179871A - 置換イソキノリン誘導体および抗潰瘍剤 - Google Patents

置換イソキノリン誘導体および抗潰瘍剤

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JPS63179871A
JPS63179871A JP62165044A JP16504487A JPS63179871A JP S63179871 A JPS63179871 A JP S63179871A JP 62165044 A JP62165044 A JP 62165044A JP 16504487 A JP16504487 A JP 16504487A JP S63179871 A JPS63179871 A JP S63179871A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 星来上座M里分里 本発明は抗潰瘍剤として有用な置換イソキノリン誘導体
に関する。
鎧米辺韮重 従来この種の化合物としては2−[(1−イソキノリル
メチル)スルフィニルツー5−メトキシベンズイミダゾ
ールが知られているが、この化合物は酸分泌抑制作用の
活性がやや低いという欠点がある(特開昭59−181
277 )。
明が 決しようとする問題点 従来より、シメチジン(特公昭56−1309 ’)の
副作用として抗アンドロゲン作用、肝臓の代謝酵素活性
阻害作用、精神障害誘発作用などが報告されており、ま
た、最近開発されたオメプラゾール(特開昭54−14
1783 )は酸に不安定であるといわれている。ゆえ
に、これらの副作用が軽減し、化学的安定性の向上した
抗潰瘍剤の開発が望まれてきた。
刊11<11氏土擾Jコ戸列五閃 本発明者らは、抗潰瘍作用の向上と、好ましからぬ副作
用の軽減及び化学的安定性の向上のために鋭意研究した
結果、下記、一般式(I)で示される新規なイソキノリ
ン誘導体またはその酸付加塩が目的に合致することを見
い出し、本発明を完成した。
(以下余白) 光」じ凶札示 本発明は一般式 (式中、Rは水素、ヒドロキシ、メトキシ、アセトキシ
、アセトキシメチルまたはトリフルオロメチル、 R1,R1、R1およびR4はそれぞれ水素、ヒドロキ
シ、置換されていてもよいC,−C,アルコキシ、アセ
トキシ、プロピニルオキシ、アリルオキシまたは置換さ
れていてもよいベンジルオキシ、またはR2およびR3
は一緒になってメチレンジオキシを形成してもよく、 R6は水素、ヒドロキシメチル、C!−04アルコキシ
カルボニル またはフタリジル、 nは0または1をそれぞれ表わす。ただし、Rカメトキ
シ、R1、R1、Rsl R4およびRsがそれぞれ水
素である場合を除く.) で示きれる化合物またはその製薬上許容される酸付加塩
に関する。
本発明の目的物質(1)は (a)一般式 (式中、Rは前記と同意義を有する。)で示される化合
物に一般式 (式中、R1、R1、R3およびR4は前記と同意義を
有する。) で示される化合物を反応させて、一般式(式中、R,R
’、R2、R1およびR4は前記と同意義を有する。) で示される化合物を生成させ、 (b)前記化合物(Ia)を(i)ヒドロキシメチル化
、次いでO−アシル化に付すか、または(i)アルカン
酸ハロメチルエステルもしくは3−ハロフタリドとの置
換反応に付して、一般式(式中、RSR’、R”、R8
、R4およびR’4を前記と同意義を有する。) で示される化合物を生成跡せ、 (c)前記化合物(Ia)を酸化して、一般式で示され
る化合物を生成させ、 (d)前記化合物(Ib)を酸化して、一般式(式中、
R,R’、R1、R8およびR4は前記と同意義を有し
 RMはClC4アルコキシカルボニル、C*C*アシ
ルオキシメチルまたはフタリジルを表わすJ) で示される化合物を生成させ、または (e)前記化合物(Ic)をアルカン酸ハロメチルエス
テルまたは3−ハロフタリドとの置換反応に付して、一
般式 (式中、R,R’、R3、R8およびR4は前記と同意
義を有し、R6はC,−C,アルコキシカルボニル、C
,−C,アシルオキシメチルまたはフタリジルを表わす
。) で示される化合物を生成きせることによって得られる。
C,−C,アルコキシとはメトキシ、エトキシ、n−プ
ロポキシ、イソプロポキシ、n−プトキシ、5ee−ブ
トキシ、n−ペンチルオキシなどを意味する。このアル
コキシ上に存在し得る置換基とはシクロプロピJ呟 シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどのC
,−C,シクロアルキルおよびフッ素、塩素、臭素など
のハロゲン1または2個以上を意味する。またベンジル
上に存在し得る置換基としてはハロゲンまたはメトキシ
が挙げられる。
ClC−アルコキシカルボニルとはメトキシカルボニル
、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、n
−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニルなどを
意味する。
Cl  Csアシルオキシメチルとはアルカノイルオキ
シメチル(例えば、アセトキシメチル、プロピオニルオ
キシメチル、ブチリルオキシメチル、ピバロイルオキシ
メチル、バレリルオキシメチルなど)およびアルコキシ
カルボニルオキシメチル(例えば、エトキシカルボニル
オキシメチル、n−プロボキシカルポニルオキシメチル
、n−ブトキシカルボニルオキシメチルなど)を意味す
る。
目的物質(I)の製造法を次の反応工程図に示す。
(以下余白) (式中、R,R’、R’、RA 、 R4およびR6は
前記と同意義を有する。) 墓土工1 本工程では2−メルカプトベンズイミダゾール(■)に
1−クロロメチルイソキノリン(■)を反応させて、2
−(1−イソキノリルメチルチオ)ベンズイミダゾール
(Ia)に導く0本反応は塩基の存在下に適当な溶媒中
でθ〜12,0℃、好ましくは15〜50℃にて実施さ
れる。
使用される塩基としては、無機塩基(例えば、KzCO
s、Na5COs、Na0)l、 NaHCOsなど)
および有機塩基(例えば、トリエチルアミン、ピリジン
、ジプチルアミンなど)が例示される。
溶媒としては、MeO)I、 EtOH,ベンゼン、C
HCl 、 、四塩化炭素、ジメチルスルホキシド、テ
トラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、水などが挙
げられる。
旦珠 本工程では化合物(II)に1−ジクロロメチル−3,
4−ジヒドロイソキノリン(mV)を反応させて、A法
の場合と同じ生成物(Ia)を与える。本反応は前記の
塩基および溶媒を使用して15〜120℃の温度で実施
されるが、KOH−EtOH系を使用して50〜80”
Cに加熱して実施する方法が好ましい。
この反応では脱塩化水素によるジヒドロイソキノリン環
の芳香化が同時に進行して、目的物質(Ia)が好収率
で得られる。
策主工貫 人並 前工程で得られた化合物(Ia)にホルムアルデヒドを
反応させてヒドロキシメチル化を行い、1−ヒドロキシ
メチルベンズイミダゾール(Ib: R’−CHloH
)に導く。本反応はアセトニトリル、ジメチルホルムア
ミドなどの溶媒中15〜100℃、好ましくは50〜8
0℃で実施きれる。
かくして得られるヒドロキシメチル体(Ib)を0−ア
シル化反応に付して、目的とする1−アシルオキシメチ
ル体(I b : R’−CI−C,アシルオキシメチ
ル)に導く。本反応は酸無水物(例えば、無水酢酸、無
水酪酸、無水吉草酸など)またはハロゲノ蟻酸アルキル
(例えば、クロロ蟻酸エチル、クロロ蟻酸n−プロピル
など)を用いて実施される。必要なら、前記した溶媒お
よび/または塩基の存在下に常法により実施すればよい
反応は一般に15〜120℃、好ましくは50〜100
℃で行われる。
アシル化剤としてハロゲン蟻酸アルキルを使用する場合
、N−アシルオキシメチル体(Ib :R6−アルコキ
シカルボニルオキシメチル)とともにN−アルコキシカ
ルボニル体(I b : R’−アルコキシカルボニル
)が生成することもある。
この場合、両生酸物は常法によって分離生成されうる。
且迭 別法として化合物(Ia)をN−置換反応に付して、N
−置換体(I b : R’=アルカノイルオキシメチ
ルまたはフタリジル)に導く。N−置換反応にはアルカ
ン酸ハロメチルエステル(例えば、ピバリン酸クロロメ
チルエステル、醋酸ブロモメチルエステル、酢酸クロロ
メチルエステルなど)または3−ハロフタリド(例えば
、3−クロロフタリド、3−ブロモフタリドなど)が使
用される。
アルカン酸ハロメチルエステルを使用する反応はジメチ
ルホルムアミド、ヘキサメチルホスホアミドなどの溶媒
中水素化アルカリ金属(例えば、水素化ナトリウム、水
素化カリウムなど)、アルカリ金属アルコキシド(例え
ば、ナトリウムメトキシド、カリウムエトキシドなど)
などの塩基の存在下に15〜100℃、好ましくは15
〜50℃にて実施される。
また3−ハロフタリドを使用する反応はジメチルホルム
アミド、ヘキサメチルホスホアミドなどの溶媒中水素化
ナトリウム、トリエチルアミン、ジブチルアミンなどの
塩基の存在下に15〜120℃、好ましくは50〜80
℃にて実施される。
第」51塁 前記第1工程で得られた化合物(!a)を過酸(例えば
、過酸化水素、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸など
)で酸化して、スルフィニル体(Ic)に導く。本反応
はクロロホルム、1.2−ジクロロエタン、四塩化度素
、ジメチルホルムアミド、酢酸などの溶媒中−100〜
0℃、好ましくは−30〜−5℃あるいは室温(15〜
25℃)下に実施きれる。反応終了後、常法により反応
液を亜硫酸水素ナトリウムで処理して、残留する過酸を
分解菌せたのち、目的物質の精製を行う。
爪土工皇 本工程は前記第2工程で得られた化合物(Ib:R’−
アルロキシカルボニル、アシルオキシメチルまたはフタ
リジル)を過酸で酸化して、対応するスルフィニル体(
Id:R″篇アルコキシカルボニル、アシルオキシメチ
ルまたはフタリジル)棹導く。本反応は前記第3工程の
場合と同一の反応条件で実施される。
第」≦旦拐 本工程は前記第3工程で得られたスルフィニル体(I 
c : R’−水素)をアルカン酸ハロメチルまたは3
−へロフタリドによるN−置換反応に付して、対応する
N−置換体(I d : R”−アルカノイルオキシル
または3−フタリジル)に導く。
零N−置換反応は第2工程B法の場合と同一の反応条件
で実施される。
原料物質1)および(IV)は、例えば下記に示される
反応工程図に示されるように実施される。
(以下余白) =16− ヒ合物(III)の合成法 (I) (式中、R1,R1、R1およびR4は前記と同意義を
有する。) [Gibson et al、  J、  Heter
ocyclic Chem、+  L251 (196
4)] *1FM、F、Grundon et al、、J、C
hem、Soc、、3531*2iA、P、Ph1ll
ips、 J、 Am、 Chew、 Soc、、 7
46125率3:D、 Pawellek at al
、、 J、 Org、 Chem、、 25281本発
明目的化合物(I)は酸付加塩に変換可能であり、この
場合使用してもよい酸としては塩酸、臭化水素酸、リン
酸などの無機酸、酢酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル
酸、クエン酸、リンゴ酸、アジピン酸、コハク酸、3−
塩化安息香酸、安息香酸などの有機酸などが挙げられる
本発明目的化合物(I)および/またはその塩はヒトま
たは動物に経口または非経口的に投与し得る0例えば、
化合物CI)は錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、液剤
などとして経口的に、また注射剤、坐剤などとして非経
口的に投与される。
これらの製剤は賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、安定
剤、矯味矯臭剤、懸濁化剤、分散剤、溶解補助剤、防腐
剤などの添加剤を用いて間知の方法に従って製造される
。賦形剤としては、乳糖、ショ糖、でんぷん、セルロー
ス、ソルビットなど;結合剤としては、アラビアゴム、
ゼラチン、ポリビニルピロリドンなど;滑沢剤としては
、ステアリン酸マグネシウム、タルク、シリカゲルなど
がそれぞれ例示される。
本発明目的化合物(I)を成人の消化性潰瘍疾患の治療
に使用する場合、−日用量は経口投与では0 、1〜5
00mg、非経口投与では0.1〜300mgであって
、これを1回または数回に分けて投与すればよい。
以下に実施例、参考例、および製剤例を示して本発明実
施の態様を示す。
但し、実施例、参考例および表中で使用する略号は次の
意味を有するものとする。
Me:メチル     Et:エチル Ph:フェニル    MeOH:メタノールEtOH
:エタノール  KO)I :水酸化カリウムAcOH
:酢酸     NaOH:水酸化ナトリウムCH3C
N ニアセトニトリル Ac0Et :酢酸エチルEt
mO:エチルエーテル KCN   ニジアン化カリウム CLCIs ニジクロロメタン HCHO:ホルムアルデヒド C)ICI、 、クロロホルム EtsNニトリエチルアミン THF  :テトラヒドロフラン NaH:水素化ナトリウム DMF   ニジメチルホルムアミド POC1,ニオキシ塩化リン LiAIHa :水素化アルミニウムリチウムMeO:
メトキシ EtO:エトキシ 0−Al  :アリルオキシ 0−Bz  :ベンジルオキシ 0−i−Pro :イソプロとルオキシ(d):分解点 (以下余白) 1上l H(,1a−1) (1)6 、7−シメトキシイソキノリンー1−イルメ
タノール306.3mg(1,397mmol)に乾燥
CH*C1* 20 mlとチオニルクロリド665m
g(5、59mmol)を加え、室温下に2時間攪拌し
た。反応液を濃縮し、茶褐色結晶として1−クロロ−(
6,7−シメトキシイソキノリンー1−イル)メタン4
90mgを得た。
(2)この生成物に2−メルカプトベンズイミダゾール
220.3mg(1,487mmol)、炭酸カリウム
1.16g(8,38mmol)および乾燥DMF10
mlを加え、室温で17時間攪拌し、DMFを減圧留去
した。残渣に水を加え、CH*C1gで抽出した。有機
層を無水芒硝で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付して精製した。これを
CLCL 8mlに溶解し、シクロヘキサン40m1加
えて晶析させ、目的化合物2−[(6,7−シメトキシ
イソキノリンー1−イル)メルカプトベンズイミダゾー
ル(Ia−1) 369.1mg(収率ニア5.2%)を結晶として得た
融点:183.5〜185.5℃(d)元素分析(C,
、H□NsO*Sとして)計算値(X) F C,64
,94i H,4,88i N、 11.96S、  
9.12 実測値(%) : C,64,82; 1(、4,77
; N、 11.86S、  9.15 (式中、R1、R8、R1、R4およびRは前記と同意
義を有する。) 実施例1と同様に、表1に示す反応条件で反応を行い、
目的化合物(Ia)を得た。
(以下余白) 火】d烈ヱ 99%EtOH20mlに86%KOH514,8IT
1g(7、87mmol)と2−メルカプトベンズイミ
ダゾール(I[、−1)434.1mg(2,89mm
ol)を加えて溶解許せ、1−ジクロロメチル−6−メ
ドキシー7−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−
3、4−ジヒドロイソキノリン(IV−1)900 、
1mg(2、63mmol)を加えた。室温で30分間
攪拌後、3時間還流した。溶媒を減圧下で留去し、水を
加え、CHCl、で抽出した。不溶物として存在する目
的物を濾取し、これにCHCl。
抽出物を合わせて粗製物722.5mgを得た。
CH*C1+  15mlに分散させ、濾過し、CHI
Cl、で洗浄し、目的化合物2−([6−メドキシー7
−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)イソキノリン
−1−イルコメチルチオ)ベンズイミダゾール(Ia−
7)666.5mg(収率:60.4%)を得た。
融点=232〜234℃(d) 元素分析:(C3゜H+ 5Nso*sFmとして〉計
算値<%>:C,57,27’; H,3,84; N
、 10.02S、 7.64 ; F、 13.59
実測値(X) : C,56,98i H,3,92i
 N、 9.97S、 7.77 i F、 13.3
6=28− 叉遺土1L二灸1 (式中、R,R’、R”、R3およびR1は前記と同意
義を有する。) 実施例7と同様にして、表2に示す反応条件で反応を行
い、目的化合物(Ia)を得た。
(以下余白) 衷1d」釘ス ンズイミダゾール(Ib−1 化合物(Ia−1)702mgとCHsCN 11ml
の懸濁液に37%HCHO水溶液490mgを加え、7
0°Cで30分間攪拌した。冷時濾取し、CI 、CN
で洗浄し、目的物1−ヒドロキシメチル−2−[(6,
7−シメトキシイソキノリンー1−イル)メチルチオ]
ベンズイミダゾール(Ib−1)705mg(収率:9
2.8%)を得た。
融点: 156〜158℃(d) (AcOEtより再
結晶)元素分析(C,。H+*N5SOsとして)計算
値(X) : C,62,98i H,s、oz; N
+ 11.025、8.40 実測値(に”): C,63,03i H,5,01j
 N、 10.86S、 8.32 (以下余白) 衷11しし辷二灸工 (式中、R1、R2、R”およびR4は前記と同意義を
有する。) 実施例22と同様にして、表3に示す反応条件で反応を
行い、目的化合物(Ib)を得た。
11開昭63−179871(15) 衷mN2互 ルベンズイミダゾール(I b−2 化合物(Ib−1)534mgとピリジン12m1の溶
液に無水酪酸0.67m1を加え、4時間攪拌した。減
圧下でピリジンを留去し、残渣をCHC1sで抽出し、
水洗し、乾燥し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付してAc0Etで溶出し、
溶出する画分より目的物2−[(6,7−シメトキシイ
ソキノリンー1−イル)メチルチオツー1−ブチリルオ
キシメチルベンズイミダゾール(I b−4)540m
g(収率:85.4%)を得た。
融点: 149−151℃(Ac0Etより再結晶)元
素分析(Cm 4H* J−50−とじて)計算値C%
”) : C,63,84; H,5,51N、 9.
31S、 7.10 実測値(に): C,63,89;H,5,711N、
 9.24S、 7.03 (以下余白) 叉1土926二l互 (式中、R1、R’ 、 R’ 、 R”B 、l: 
TJ R’ tt 前記ト同意義を有する。) 実施例25と同様にして、表4に示す反応条件で反応を
行い、目的化合物(Ib)を得た。
衷1己」ζ且 化合物(I b  1 ) 1 、9 g 、 Ets
N 1 、39ml、CHCl5 120 mlの溶液
にクロロギ酸エチル0.52m1を加えて2時間30分
攪拌した。これを、飽和NaHCOs水溶液で中和し、
CHCl、層を乾燥し、溶媒を留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムク07トグラフイーに付してCHCl5  
Ac0Et(4: 1v/v )で溶出した。
初溶出画分より、1−エトキシカルボニル−2−[(6
,7−シメトキシイソキノリンー1−イル)メチルチオ
コベンズイミダゾール(Ib−9)840mg(収率:
40.0%)を得た。
融点、 194〜196°C(AcOEtより再結晶)
元素分析(CxJ*+N5SOaとして)計算値(に)
: C,62,40; H,5,00i N、 9.9
2S、 7.57 実測値(X) : C,62,37; H,4,95;
 N、 9.8O5,7,46 あとの溶出画分より目的物1−エトキシカルボニルオキ
シメチル−2−[(6,7−シメトキシイソキノリンー
1−イル)メチルチオコベンズイミダゾール(Ib−8
)1240mg(収率:54.9%)を得た。
融点: 161〜162℃(AcOEtより再結晶)元
素分析(C□H*5NsSOsとして)計算値(X):
C,60,91i H,5,11i N、 9.27’
;S、  7.07 実測値(X) : C,60,89; H+ 5.19
i N、 9.17FS、  7.21 (以下余白) 一43= 実施例30 ル(Ic−1) 2−[(6,7−ジメトキシイソキノリン−1−イル)
メチルチオコベンズイミダゾール(Ia−1)246.
0mg(0,700mmol)にCHCLlomlを加
え、−10〜−15℃で80%m−CPBA151、O
mg(0,700mmol)を加え、同温で30分間攪
拌した。反応混合物に飽和NaHCOs水溶液3ml、
10%NaH3O5水溶液0.3mlを加え、室温にも
どし、水2mlを加え、CHCl、で抽出した。
CHCl、層を無水芒硝で乾燥し、減圧下で濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付してA
c0Et −MeOHで溶出した。得られた結晶をCH
mClt−ベンゼンで洗い、目的化合物2−[(6,7
−シメトキシイソキノリンー1−イル)メチルスルフィ
ニル]ベンズイミダゾール(Ic−1)216.2mg
(収率:83.7%)を得た。
融点:275〜278℃(d) 元素分析(C+、H+tNsOsS・1/10H,Oと
して)計算値(X) : C,6t、so; H,4,
70; N、 11.38S、 8.68 実測値(X) : C,61,68;H,4,70i 
N、 11.24S、 8.71 叉1(M31.二l盈 R’      (Ia)または(Ib)(式中、R1
,Rffi、R”、R’、R’およびRは前記と同意義
を有する。) 実施例30と同様にして、表5に示す反応条件で反応を
行い、目的化合物(Ic)または(Id)をそれぞれ得
た。
実施例56 1」1二Lλ (Ic−13) 化合物(Ic−13)410mgとDMF20mlの溶
液に60%Nap(油性)46+ngを加え30分間攪
拌し、ピバリン酸クロロメチルエステル0.158m1
を加え、7時間攪拌した。減圧下でDMFを留去し、残
渣をCHCImで抽出し、水洗した。CHCl、層を乾
燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにイ寸し、Ac0Etで溶出し、溶出した両分か
ら目的物2−[(7−アリルオキシ−6−メドキシイソ
キノリンー1−イル)メチルスルフイニルコーエーピバ
ロイルオキシメチルベンズイミダゾール(Id−7)x
a。
mg(収率、30.2%)を得た。
融点:132〜134℃(d) 元素分析〈C□H*、N5SOiとして〉計算値(X)
 + C,63゜89 ; H,5,76;N、 8.
28 i S、 6.32 実測値(X) i C,63,86i H,5,87:
N、 8.09 i S、 6.24 (以下余白) メチルベンズイミダゾール(I d−8実施例56と同
様にして、化合物(Ic−16)675mgに60%N
aH(油性)88mg、  ピバリン酸クロロメチルエ
ステル0 、3ml、DMF 10mlを用いて反応を
行い、目的化合物2−[(6−’  −52− メトキシイソキノリン−1−イル)メチルスルフィニル
ツー1−ピバロイルオキジメチルベンズイミダゾール(
Id−8)0.28g(収率;31.3%)を得た。
融点:125〜127℃(d) 元素分析(ct 4H□Nl5O,として)計算値(に
) F C,63,84; H,5,58、N、 9.
31S、 7.10 実測値(X) : C,63,78i H,5,69;
 N、 9.04S、 6.90 (以下余白) 衷mms旦 オキシメチルベンズイミダゾール Id−9実施例56
と同様にして、化合物(Ic−1)331mgに60%
NaU (油性) 40 mg、 ピバリン酸クロロメ
チルエステル142mg、 DMF 10mlを用いて
反応を行い、目的化合物2−[(6,7−シメトキシイ
ソキノリンー1−イル)メチルスルフィニル]−1−ピ
バロイルオキシメチルベンズイミダゾール(Id−9)
210mg(収率:48.4%)を得た。
融点:114〜116℃(d) 元素分析(C*5HxtNsSChとして)計算値(X
) i C,62,35+ L 5.65 iN、 8
.73 i S、 6.66 実測値(%) : C,62,33i )1.5.87
 i L 8.58S、 6.50 (以下余白) 55一 実施例59 (Id−10) 実施例56と同様にして、化合物(Ic−14)490
mgに60%NaH(油性)49mg、ピバリン酸クロ
ロメチルエステル167mg、 DMF 20mlを用
いて反応を行い、目的化合物2−[(6−メドキシイソ
キノリンー1−イル)メチルスルフィニルツー1−ピバ
ロイルオキシメチルベンズイミダゾール(Id−10)
240+ng(収率;37.5%)を得た。
融点:161〜162℃(d) 元素分析(Cs+Hs+N5Osとして)計算値(X)
 F C,66,77+ H,5,60;■ N、 7.54 ; S、 5.75 実測値(X) : C,66,72i H,5,66F
N、 7.50 ; S、 5.60 (以下余白) 東!■ ズイミダゾール(Id−11 (ジアステレオマーの混合物) 3−クロロフタリド102.0mg(0,605mmo
l)に乾燥DMF1.1mlとEtsN 83 、5m
g(0、825mmol)を加え、65〜70℃で1時
間30分加温し化合物(IV>とした。これにに*CO
591、2mg(0、66mmol)、2−[(6,7
−シメトキシイソキノリンー1−イル)メチルスルフイ
ニルコペンズイミダゾール・1/3水和物205 、4
mg(0、55mmol)および乾燥DMF1.3ml
を加え、室温で2時間30分攪拌した。
この反応物に水を加え、CHCl、で抽出した。ClC
l。
層は無水芒硝で乾燥し、減圧下で濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにイ寸し、Ac0Et
で溶出した。目的物をAc0Etで洗浄し、目的物2−
(6,7−シメトキシイソキノリンー1−イル)メチル
スルフィニル−1−フタリジルベンズイミダゾール(I
d−11)(ジアステレオマーの混合物)248.0m
g(収率、88.7%)を得た。
融点: 183.0〜184.4℃(d)元素分析<C
*tH*+N5ChS・1/2H,Oとして)−+py
− 計算値(X) F C,63,77i H,4,36i
N、  8.26  i  S、  6.30実fil
l値(X) : C,63,96i H,4,24;N
、  8.13  F  S、  6.10CH2−0
−C−t−Bu  (Ib  10)60%Na830
 、8mg(0、77mmol)を乾燥DMF5mlに
溶かした溶液に2−([6−メドキシー7−(2,2,
2−トリフルオロエトキシ)インキノリン−1−イルコ
メチルチオ)ベンズイミダゾール(I a−7)293
 、6mg(0、7m+nol)を加え、室温下に10
分間攪拌した。混合液にピバリン酸クロロメチルエステ
ル126.5mgを加え、室温下に2時間攪拌し、−夜
装置した。DMFを減圧留去し、残渣に水を加え、CH
*C1tで抽出した。CH*C1*層を無水芒硝で乾燥
し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、CH*C1t −Ac0Etで溶出した。
粗生成物をシクロヘキサンで洗滌し、標題化合物(Ib
−10)344.7mgを得た。収率92.3%。
融点: 160.5〜162.0℃ 元素分析(C* −H* 5Nso−5Faとして)計
算値(X) : C,58,53; H,4,91:N
、 7.88 ; S、 6.01 ; F、 10.
68実測値(%) : C,58,38; H,4,8
6;N、  7.77  ;  S、  6.18  
;  F、  10.90塞m(NJ彰1 実施例30の場合と同様に、化合物(Ib−10)32
4.0mgにCHCl5 30ml中で80%m−CP
BA 261 、9mgを反応許せ、標題化合物(Id
−12)135.4mgを得た。収率40.6%。
融点: 139.0〜140.5℃(d)元素分析(C
zsHtJsOaSFsとして)計算値(X) : C
,56,82: H,4,77iN、7.65  ; 
 S、5.83  ;  F、10.37実測値(に)
 : C,57,00i H,4,84iN、  7.
48  ;  S、  6.08  i  F、  1
0.25参考例1 (e−1)          (f−1)26m1乾
燥DMF中、バニリン(e−1)3.96g(26、O
mmol)に、60%NaH1,04g(26、Omm
ol)をゆっくりと加え混合液を窒素気流中、30分間
攪拌した。2,2゜2−トリフルオロエチルトリプルオ
ロメタンスルホナート(6,64g:2B、6mmol
)を反応液に滴下し、室温で一昼夜攪拌した。反応液を
水に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル層を水で洗浄
後、無水芒硝で乾燥し、減圧下で濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢
酸エチルで溶出し、目的物3−メトキシ−4−(2,2
,2−トリフルオロエトキシ)ベンズアルデヒド(f’
−1)5.98g(収率:98.2%)を得た。
IR,l/CHCl” ! 1270.1480.17
20 (Cm−’)ax 側1孤に1 (e)           (f’)(式中、R1お
よびR1はそれぞれ前記と同意義を有する。QおよびQ
′はそれぞれヒドロキシ、またはメトキシを表わす、) 参考例1と同様にして、表6に示す反応条件で反応を行
い目的化合物(f’)を得た。
(以下余白) 参考例4 (f’−1) (g−1) 化合物(f−1)2.81g(12,0mmol)、工
゛タノール20m1、ニトロメタン1.46g(24、
0mmol)の混合物に86%KOH1、96g(30
、0mmol)、水3ml、メタノール45m1を水冷
下で滴下し、反応混合物を同温で30分間攪拌した。反
応液を、15%HCl30m1に注いだ。
沈殿した結晶を濾過により集めた後、水で洗滌後乾燥し
、粗結晶2.90g得た。シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、ベンゼン−酢酸エチルで溶出し、目的
物1−(2−ニトロエチニル)−3−メトキシ−4−(
2,2,2−トリフルオロエトキシ)ベンゼン(g−1
)2゜31g(収率:69.4%)を得た。
IR,vCHCl” : 1260.1160.133
5 (am−’)ax (r)             (g)(式中 R1
およびR1は、それぞれ前記と同意義を有する。) 参考例4と同様にして、表7に示す反応条件で反応を行
い目的化合物(g)を得た。
(以下余白) 艶21乳ヱ (g−1) (h−1) 窒素気流下にLiAIB、 1 、58 g (41、
6mmol〉を、乾燥THF 15mlに加え、反応混
合液に化合物(g−1)2.31g(8,32mmol
)と乾燥rHF30mlを20−25℃で滴下した。2
時間攪拌後、反応液を酢酸エチル1.2ml、含水エー
テル10m1、水6mlの順に水冷下で混合した。反応
液の温度を、室温に戻し1時間撹拌した。反応液を濾過
助剤を用いて濾過しTI(Fで洗滌した。溶媒を減圧下
で濃縮して粗目的物1−(2−アミノエチル)−3−メ
トキシ−4−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ベ
ンゼン(h−1)(1,97g;収率、95.0%)を
得た。
NMR8CD”” : 1.42 (s、2H); 2
.57−3.05 (tn。
4H); 3.85 (s、3H); 4.34 (q
2H); 6.60−7.00 (3H)(g)   
           (h)(式中、R1およびR1
はそれぞれ前記と同意義を有する。) 参考例7と同様にして、表8に示す反応条件で反応を行
い目的化合物(h)を得た。
(以下余白) 艶」」」L且 (h−4) 3−アリルオキシ−4−メトキシフェネチルアミン(h
−4)3.05gの溶液とジクロロ酢酸メチルエステル
2.52gを100℃で45分間攪拌した。反応混合液
を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに1寸しCHCl、で溶出した。溶出液を濃
縮して、目的物N−(3−アリルオキシ−4−メトキシ
フェネチル)ジクロロアセトアミド(i−1)2.18
g(収率:6B、8%)を得た。
m、p、 : 88−90℃(酢酸エチルから再結晶)
元素分析C+ aH1tc1*osとしてC,52,8
5i H,5,39i N、 4.40 iCl、 2
2゜28 実験値C,52,64i H,5,42i N、 4.
39 iCl、  22.00 (式中、R1,R*、R8およびR4はそれぞれ前記と
同意義を有する。) 参考例10と同様にして、表9に示す反応条件で反応を
行い目的化合物(i)を得た。
(以下余白) 参2 (i−5) (j−1) N−[3−メトキシ−4−(2,2,2−トリフルオロ
エトキシ)フェニル]ジクロロアセトアミド1.18g
(3,28mmol)にキシレン8mlとPOCIs 
4 、02g(26、2mmol)を加え、反応液を2
時間還流した。キシレンを減圧下で蒸留し、残渣にエー
テルを加え、10%HCIで抽出した。塩酸層を30%
NaOHで中和し、エーテルで抽出した。エーテル層を
、無水芒硝で乾燥し、減圧下で濃縮し、粘稠な液体を得
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、CH
,C1m−酢酸エチルで溶出し、目的物1−ジクロロメ
チル−6−メドキシー7−(2,2,2−トリフルオロ
エトキシ)−3、4−ジヒドロイソキノリン(j−1)
560.1mg(収率:49.9%)を結晶として得た
IR,νCH” : 1155.1270.1320 
(am−’)aX 艶J」ししく二11 (式中、R1、R1、R8およびR4はそれぞれ前記と
同意義を有する。) 参考例23と同様にして、表10に示す反応条件で反応
を行い、目的化合物(j)を得た。
(以下余白) 実験例 ラット潅流胃における酸分泌抑制作用 体重300gのJCL−3Dラツトを試験前に、24時
間絶食許せた。ラットにウレタン麻酔し、気管および頚
静脈にカニユーレを挿入した。
腹部を正中線に沿って切開し、幽門部と食堂にカニユー
レを挿入して固定した。食道カニユーレを通して37゛
Cの生理食塩水で胃内腔を潅流しく1ml/分)、幽門
カニユーレより潅流液を一定時間毎に集めた。潅流液を
0.0IN水酸化ナトリウムで滴定して酸分泌量を測定
した。ヒスタミン・二塩酸塩3 mg/ kg/時間を
連続的に頚静脈カニユーレより注入した。被験化合物を
90分後に腹腔内投与し、さらに90分間潅流液の酸分
泌量を前記と同様にして測定し、被験化合物により最大
酸分泌抑制量を求めた。
1検文令葡 ここで用いる化合物番号は、該当化合物が製造された実
施例番号に対応するものとする。
胛」【法 ヒスタミン・二基酸塩注入から90分後の酸分泌量と被
験化合物投与後の最大抑制時の酸分泌量とから酸分泌抑
制率(%)を算出して示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは水素、ヒドロキシ、メトキシ、アセトキシ
    、アセトキシメチルまたはトリフルオロメチル、 R^1、R^2、R^3およびR^4はそれぞれ水素、
    ヒドロキシ、置換されていてもよいC_1−C_5アル
    コキシ、アセトキシ、プロピニルオキシ、アリルオキシ
    または置換されていてもよいベンジルオキシ、またはR
    ^2およびR^3は一緒になつてメチレンジオキシを形
    成してもよく、 R^6は水素、ヒドロキシメチル、C_2−C_4アル
    コキシカルボニル、C_2−C_5アシルオキシメチル
    またはフタリジル、 nは0または1をそれぞれ表わす。ただし、Rがメトキ
    シ、R^1、R^2、R^3、R^4およびR^5がそ
    れぞれ水素である場合を除く。) で示される化合物またはその製薬上許容される酸付加塩
  2. (2)特許請求の範囲第1項に記載された化合物または
    その製薬上許容される酸付加塩を含有する抗潰瘍剤。
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