JPS63178249A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 妓」（Ｊ二訪 本発明は水溶性ポリビニルアセタール系中間層を有する
電子写真感光体に関する。

従」Ｌ上二権 従来、導電性基板上に感光層を設けた一般的な電子写真
感光体、特に感光層が電荷発生層と電荷移動層とから構
成される積層型電子写真感光体に高帯電性、高感度性お
よび低残留電位性を付与するため種々の試みがなされて
きた。その１つとして、高感度の電荷発生層中へ帯電時
に導電性基板側から帯電電荷と逆極性の電荷が注入する
のを阻止するための中間層を設けることが提案された。

例えば、特開昭４７−６３４１．４８−３５４４および
４８−１２０３４号には硝酸セルロース系樹脂中間層が
、特開昭４８−４７３４４．５２−２５６３８．５８−
３０７５７．５８−６３９４５．５８−９５３５１．５
８−９８７３９および６０−６６２５８号にはポリアミ
ド系樹脂中間層が、特開昭４８−２６１４１号には酢酸
ビニル系樹脂中間層が、特開昭４９−６９３３２および
５２−１０１３８号にはマレイン酸系樹脂中間層が、そ
して特開昭５８−１０６５４９号には水溶性ポリビニル
ブチラール系樹脂中間層がそれぞれ開示されている。中
でもポリビニルブチラールのような水溶性ポリビニルア
セタール系のものは電気抵抗が１０１′′Ω■前後で中
間層として好適であること、゛′有機溶媒に侵されない
ため感光層を積層塗工し易い上、成膜性が良く均一な塗
膜となり易いので、感光層の塗膜特性向上に著しく寄与
し得ること等の点から最も好ましい中間層である しかしポリビニルアセタール系中間層を設けた感光体に
おいては特に高温高湿下で繰返し使用した場合、帯電性
は良好であるが、感度が低下する上、画像露光後、残留
電位が蓄積し、地肌部電位が上昇して特に白ベタ部の地
汚れを生じるという欠点があった。

且−一一孜 本発明の目的は水溶性ポリビニルアセタール系中間層を
有するにも拘わらず、低温低湿下は勿論、高温高湿下で
繰返し使用しても高感度を維持し、しかも地汚れを生じ
ない耐久性のある電子写真感光体を提供することである
。

豊−一一皮 本発明の電子写真感光体は導電性基板上に中間層及び感
光層を順次設けた電子写真感光体において、前記中間層
が水溶性ポリビニルアセタールを主成分とし、且つこの
中間層内にポリビニルアセタールの不純物として含まれ
る酢酸、無機酸及び／又はそれらのアルカリ金属塩の量
を中間層の０．５重量％以下にしたことを特徴とするも
のである。ここでいう水溶性ポリビニルアセタールとは
アセタール化度が４０モル％以下で、またビニルアルコ
ール成分が５０モル％以上のものである。

本発明者らは従来の水溶性ポリビニルアセタール系中間
層を有する感光体における欠点を解消するため、種々検
討した。その結果、従来の欠点の原因は水溶性ポリビニ
ルアセタール中に含まれる不純物にあることを見出した
。水溶性ポリビニルアセタールは一般にポリ酢酸ビニル
を苛性ソーダ等のアルカリの存在下でケン化してポリビ
ニルアルコールとし、更にこれを塩酸等の無機酸の存在
下、アルデヒドでアセタール化した後、苛性ソーダ等の
アルカリで中和して製造されている。このため得られる
水溶性ポリビニルアルコールには例えば下記式に示すよ
うに、不純物として酢酸及びそのアルカリ金属塩（通常
ナトリウム塩）や無機酸（通常塩酸又は硫酸）及びその
アルカリ金属塩（通常ナトリウム塩）が相当量混入する
。この場合、反応溶剤としては一般にアルコールを主体
とする溶剤が用いられるので、混入した酢酸ナトリウム
、塩化ナトリウム等は水溶性ポリビニルアセタールに比
べてアルコールに対する溶解性が低いので、大部分は母
液分離の際、取除くことができるが、それでも１〜５ｗ
ｔ程度の混入は避けられない。

Ｑ＝Ｃ−ＣＨ３ なおアセタール化のためのアルデヒドの例及びアセター
ル化反応の例も下記に示す。

ＣＨ ＣＨ。

ＣＨ ＣＨ２ＣＨ。

３）　　ＣＨ。

ＣＨ ＣＨ，−ＣＨ−ＣＨ。

ＣＨ ＣＨ２ＣＨ，ＣＨ。

ＯＨ０Ｈ ＣＨ。

前述のようなアルカリ金属イオンは高温高湿下の帯電及
び露光の繰返しによって中間層内を移動（イオン伝導）
して中間層と接する感光層に到達し、その結果、光減衰
感度を低下させたり、残留電位を増大させるものと推測
される。一方、酸イオンは帯電、露光の繰返しに関わり
なく。

感光層に接触することにより帯電性を低下させるものと
推測される。

これに対し本発明の水溶性ポリビニルアセタール系中間
層はこれら欠点の原因となる酢酸塩等の塩や酢酸等の酸
の量を０．５％＋１″１以下に減少させたので、中間層
内のイオン量、従って感光層に接触するアルカリイオン
量、従って感光層に接触するアルカリイオン量及び酸イ
オン量が少なくなり、高温高湿下の繰返し使用において
も光減衰感度の低下や残留電位の増大等も殆どなくなる
。しかし０．５ｖｔ％を越えると、従来と同様、感度（
光減衰感度）の低下や、残留電位増大による地汚れ等が
ひどくなる。

従って本発明の中間層に用いられる水溶性ポリビニルア
セタールは従来使われている水溶性ポリビニルアセター
ルから酢酸ナトリウム等の塩及び酢酸等の酸を所定量ま
で取除く必要がある。この水溶性ポリビニルアセタール
中に不純物として含まれる以上のような塩や酸は蒸溜、
抽出、分液、濾過等の一般に用いられる化学工業的手段
では取除くことが困難であるが、イオン交換法、透析法
、電気透析法等のイオンを分離する方法及び分子の大き
さの違いから分離する方法で取除くことができる。いず
れの場合も市販のポリビニルアセタールを純水又は純水
とメタノールとの混合溶媒に溶解して溶液の状態で精製
する。

イオン交換法は陰イオン交換樹脂及び陽イオン交換樹脂
、又は陰イオン交換膜及び陽イオン交換膜、或いは陰イ
オン交換繊維及び陽イオン交換繊維を用いて酢酸イオン
、塩素イオン等の陰イオン（酸基）を水酸イオンに、ま
たナトリウムイオン等の陽イオン（塩基）を水素イオン
に置換える形で酢酸ナトリウム等の塩や酢酸等の酸を取
除く。陰イオン交換樹脂は一般には塩素イオンが結合し
た状態で市販されているため、この塩素イオンを例えば
水酸化ナトリウムの１規定水溶液で水酸イオンに置換し
、充分に純水で洗浄して用いる。陽イオン交換樹脂は一
般にはナトリウムイオン又は水素イオンが結合した状態
で市販されている。ナトリウムイオンは例えば塩化水素
の３規定水溶液で水素イオンに置換して充分に純水で洗
浄して用いる６水素イオンが結合したイオン交換樹脂の
場合にも同様に塩化水素溶液で処理して用いる。イオン
交換樹脂は陰イオン交換樹脂と陽イオン交換樹脂とを別
々のカラムに充填して用いてもよいし、また１本のカラ
ムに混合して充填して用いてもよい。

水溶性ポリビニルアセタールのケン化度、アセタール化
度、及び重合度並びにアセタール化剤であるアルデヒド
のアルキル基によって異なるが、３〜１５　ｖｔ％の水
溶液又はメタノール−水混合溶液を０．５〜１０ｃｃ／
分程度のカラム展開速度で処理することによって酸基及
び塩基の濃度が１１００ｐｐ以下の純粋な水溶性ポリビ
ニルアセタール溶液を得ることができる。

透析法はセロハン膜、コロジオン膜、硫酸紙、アセチル
セルロース膜、蛋白質膜、合成樹脂膜等の透析膜を用い
て行なわれるが、この場合、透析膜１例えばセロハンチ
ューブ又はシートの場合はグリセリン等が溶は込んでい
るので、これを純水で充分洗浄してグリセリン等を除い
て数十人の孔を作り、塩化亜鉛又は水酸化ナトリウムの
水溶液で処理して孔径を調節（広げる）し、再び充分洗
浄して用いる。水溶性ポリビニルアセタールの溶液を上
記処理したセロハンチューブ又はシートに包込んでナイ
ロン糸等で結んで５０倍〜１００倍量の撹拌している純
水槽中につるす。５〜２０時間毎に４回〜５回純水を新
しいものに交換すれば純粋な水溶性ポリビニルアセター
ルの溶液が得られる。

電気透析法は上記透析法のポリビニルアセタール溶液側
と純水側とに白金等、イオン化傾向の小さい材料の電極
を入れて、ポリビニルアセタール側を■電極に純水側を
ｅ電極にして電流を流して陽イオン（塩基）を取除き、
次に純水槽を新しいものに交換してポリビニルアセター
ル側をｅ電極に純水側を■電極にして電流を流して陰イ
オン（酸基）を取除き、純粋なポリビニルアセタール溶
液を得る方法である。

いずれにしても上記透析膜を用いる両方法は浸透圧によ
って水が侵入するため、ポリビニルアセタールの固形分
濃度を処理後に調整する必要がある。

本発明感光体の基本的な構成は第１図に示すように導電
性基板１上に水溶性ポリビニルアセタール系中間層２及
び単層型感光層３を設けたものと、第２図に示すように
導電性基板１上に水溶性ポリビニルアセタール系中間層
２、及び電荷発生層４及び電荷移動層５からなる積層型
感光層３′を設けたものである。

本発明では更に、レーザー光源を用いたプリンター用感
光体に要求される光干渉防止のため。

単層型感光体でも積層型感光体でも各々第３〜４図に示
すように、導電性基板１と中間Ｍ２との間に光数乱性又
は光吸引性下引層６を挿入することができる。

次に本発明で用いられる各構成材料について説明する。

導電性基板は帯電電荷と逆極性の電荷を基板側に供給す
ることを目的とする層であって、電気抵抗が１０８Ω口
以下で、かつ各中間層及び感光層の成膜条件に耐えられ
る材料が使用される。

これら材料の例としては、Ａ　Ｉ２　、　Ｎｉ、　Ｃｒ
、　Ｚｎ、ステンレス等の電気伝導性の金属および合金
並びにガラス、セラミックス等の無機絶縁物質およびポ
リエステル、ポリイミド、フェノール樹脂、ナイロン樹
脂１紙等の有機絶縁性物質の表面を、真空蒸着、スパッ
タリング、吹付塗装等の方法によって、Ａ　Ｑ　ｔ　Ｎ
ｉｙ　Ｃｒ　Ｉ　Ｚ　ｎ　ｒステンレス、炭素、　Ｓｎ
Ｏ２，Ｉｎ２Ｏ，等の導電性物質を被覆して導電処理を
行なったものが挙げらける。

水溶性ポリビニルアセタール系中間層は感光体の帯電時
に、導電性基板から感光層への電荷注入を阻止して、帯
電性を保ちかつ感光体露光時には感光層で発生した電荷
対の一方、即ち導電性基板側に阻止されている電荷とは
反対極性の電荷を導電性基板側へ移動させる作用を有す
る。特に感光層が高感度の場合には感光層の帯電性が悪
くなるので必要である。この中間層は前述のようにして
得られる高純度ポリビニルアセタールの溶液を基板上に
塗布して形成される。

厚さは０．２〜２μｍが適当である。

単層型感光層は画像露光によって潜像電荷を形成させる
ことを目的とする層である。この種の感光層は１色素増
感された酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛等の光導電性
粉体、セレン粉体、無定形シリコン粉体、ポリビニルカ
ルバゾール。

フタロシアニン顔料、オキサジアゾール顔料、アゾ顔料
等を、必要に応じて結着剤樹脂及び／又は後述する電子
供与性化合物と共に、中間層上に塗布形成される。また
ピリリウム系染料とビスフェノールＡ系のポリカーボネ
ートとから形成される共晶錯体に電子供与性化合物を添
加した組成物を用いて単層型感光層を形成することがで
きる。結着剤樹脂としては後述する積層型感光層と同様
のものが使用される。厚さは５〜３０μが適当である。

一方、積層型感光層の場合、電荷発生層は画像露光によ
って潜像電荷を発生分離させることを目的とする層であ
る。電荷発生層は有機系染顔料、結晶セレンまたはセレ
ン化ヒ素等を電荷発生物質とし、これを結着剤樹脂と共
に中間層上に塗布形成される。有機系顔料としてはフタ
ロシアニン系顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペ
リレン系顔料、スクアリック塩基染料、アズレニウム塩
系染料、キノン系縮合多環化合物等がある。中でもジス
アゾ顔料およびトリスアゾ顔料が好ましく、その具体例
としては下記のものが挙げられる。

（以下余白） 顔料血　　　　　　　　　　　　　　　顔料嵐顔料胆　
　　　　　　　　　　　　　顔赴也顔料血　　　　　　
　　　　　　　　顔料嵐顔料血　　　　　　　　　　　
　　　　顔料嵐一般式ｍ：　ｈ−Ｎ＝Ｎ（６防１（Ｃ＝
）ＩＣ舎ＣＨ＝ＣＨ舎Ｎ＝Ｎ−Ａ顔料＆　　　　　　　
　　　　　　　顔料＆顔料嵐　　　　　　　　　　　　
　　顔料虱これら有機系染顔料と併用される結着剤樹脂
としてはポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、エ
ポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルなどの縮
合系樹脂並びにポリスチレン。

ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ−Ｎ−ビ
ニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、スチレン−
ブタジェン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重
合体等の重合体および共重合体等の接着性、絶縁性樹脂
が挙げられる。

なお有機系染顔料の含有量は６０〜１００重量％が好ま
しい。また有機系染顔料を用いた場合の電荷発生層の厚
さは０．０５〜０．５μが適当である。

結晶セレン又はセレン化ヒ素合金の粒子を用いた場合は
電子供与性結着剤及び／又は電子供与性有機化合物と併
用される。このような電子供与性物質としてはポリビニ
ルカルバゾールおよびその誘導体（例えばカルバゾール
骨格に塩素、臭素などのハロゲン、メチル基、アミノ基
などの置換基を有するもの・）、ポリビニルピレン、オ
キサジアゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、ジアリール
メタン、α−フェニルスチルベン。

トリフェニルアミン系化合物などの窒素含有化合物およ
びジアリールメタン系化合物等があるが、特にポリビニ
ルカルバゾールおよびその誘導体が好ましい。またこれ
らの物質を混合して用いても良い。混合して用いる場合
もポリビニルカルバゾールおよびその誘導体に他の電子
供与性有機化合物を添加するのが好ましい。この種の無
機系電荷発生物質の含有量は層全体の３０〜９０重量％
が適当である。また無機系電荷発生物質を用いた場合の
電荷発生層の厚さは０．２〜５μｍが適当である。

電荷発生層上に設けられる電荷移動層は帯電電荷をその
表面に保持させ、かつ露光により電荷発生層で発生分離
した電荷を移動させて保持していた帯電電荷と結合させ
ることを目的とする層である。帯電電荷を保持させる目
的達成のために電気抵抗が高いことが要求され、また保
持した帯電電荷で高い表面電位を得る目的を達成するた
めには、誘電率が小さくかつ電荷移動性が良いことが要
求される。これらの要件を満足させるためには有機電荷
移動物質を有効成分として含有する有機電荷移動層が用
いられる。

有機電荷移動物質としては、たとえば、ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール系化合物、ピラゾリン′系化合物、α−
フェニルスチルベン系化合物、ヒドラゾン系化合物、ジ
アリールメタン系化合物、トリフェニルアミン系化合物
、ジビニルベンゼン系化合物、フルオレン系化合物、ア
ントラセン系化合物、オキサジアゾール系化合物。

ジアミノカルバゾール系化合物など従来知られている化
合物を使用することができる。ポリビニルカルバゾール
等の重合体以外のこれら有機電荷移動物質は、結合剤と
してポリカーボネート等の電荷発生層用結合剤樹脂と同
様な樹脂及びシリコン油と併用される。またこれらには
、必要に応じて可塑剤が配合される。こうした可塑剤と
しては、例えばハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタ
レン、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ト
リクレジルホスフェ−ト等やポリエステル等の重合体や
共重合体などがあげられる。電荷移動層は以上の成分を
溶解した溶液を電荷発生層上に塗布形成される。なお電
荷移動層の厚さは５〜３０μｍが適当である。

また電荷移動物質と結合剤との重量比は２／８〜８／２
が適当である。シリコン油の使用量は結合剤の０．００
１〜１重量％が適当である。

光散乱性下引層及び光吸収性下引層は前述のようにプリ
ンター用感光体における光干渉防止を目的とする層で、
光散乱性下引層は例えば酸化スズ、酸化アンチモン等の
導電性粉体と酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛等の白色
顔料とを下記のような熱硬化性樹脂中に分散して構成さ
れまた光吸収性下引層は例えば炭素、各種金属等の導電
性光吸収性顔料及び／又は光吸収性有機顔料を同様な熱
硬化性樹脂中に分散して構成される。ここで使用される
熱硬化性樹脂は、例えば活性水素（−ＯＨ基、−ＮＨ２
基、−ＮＨ基等の水素）を複数個含有する化合物とイソ
シアネート基を複数個含有する化合物および／またはエ
ポキシ基を複数個含有する化合物とを熱重合させたもの
である。活性水素を複数個含有する化合物としては、た
とえばポリビニルブチラール、フェノキシ樹脂、フェノ
ール樹脂、ポリアミド、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト基等の活性水素を含有するアクリル樹脂等があげられ
、イソシアネート基を複数個含有する化合物としては、
たとえばトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等
とこれらのプレポリマー等があげられ、さらにエポキシ
基を複数個含有する化合物としては、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂があげられる。いずれにしても光数乱性
又は光吸収性下引層は以上のような成分を溶解又は分散
した液を基板上に塗布し、５０〜２００℃で熱重合させ
て形成される。なおこの下引層の厚さは１〜１０μｍが
適当である。また導電性粉体と白色顔料と前記熱硬化性
樹脂との重量比は２〜６／１〜５／２〜６が適当であり
、また導電性光吸収性顔料及び／又は光吸収性有機顔料
と前記熱硬化性樹脂との重量比は４〜９／１〜６が適当
である。

以下に本発明を実施例によって説明する。

実施例１ 市販の水溶性ポリビニルアセタール（セキスイ化学社製
エスレックＷ２Ｏ１）の１０重量％水溶液を第５図に示
すイオン交換カラム（図中、７は高純度水溶性ポリビニ
ルアセタール水溶液、８は遡上調整バルブ、９は陰イオ
ン交換樹脂、１０は陽イオン交換樹脂、１１は市販の水
溶性ポリビニルアセタールの水溶液、１２は加圧調整バ
ルブ。

１３は加圧用Ｎ２ガス）に通して処理し、約１０重量％
の高純度水溶性ポリビニルアセタール水溶液を作った。

なお陰イオン交換樹脂としてはダウケミカル社製ダウエ
ックスＭＳＡ−１を約８０ｃｃ、陽イオン交換樹脂とし
ては同じくダウエックス５０Ｗを約８０ｃｃ使用し、ま
たカラム展開速度は１ｃｃ／分とした。

分析結果（固形分当りの含有量：単位＝　ｐｐｍ）　：
従って未処理の市販の水溶性ポリビニルアセタールは酢
酸ナトリウムを約２．４重量％含有し、且つ塩化ナトリ
ウムを約１．１重量％含有していることが予想される。

これに比較して処理後の高純度水溶性ポリビニルアセタ
ールは酢酸ナトリウム及び塩化ナトリウムを合計量で０
．００１重量％以下、また酢酸及び塩酸を合計量で０．
０５重量％以下含んでいることになる。

またガスクロマトクラフによる分析結果からアセチル基
の含有量を推定した結果、ケン化度は処理前後で変化し
ていないことが判った。次に上記高純度水溶性ポリビニ
ルアセタール水溶液を用いて下記中間層塗工液を作成し
た。

また比較用塗工液−７として前記未処理の市販ポリビニ
ルアルコールの１０重置火水溶液１００重量部とメタノ
ール６７重量部との混合液を用意した。

次にパークレン蒸気で洗浄した厚さ０．３ｍｍのＡＱ板
上に塗工液−１〜７を各々浸漬塗工し、１３０℃で１０
分間乾燥して１μｌ厚の水溶性ポリビニルアセタール系
中間層を形成した。

一方、１５■φのガラスポット中に容積の１／２の量の
ｆｅｌｌφのステンレスポールと４００ｇのシクロヘキ
サノンと２５ｇの前記アゾ顔料１を投入して４８時間ミ
リングした。さらに４０８ｇのシクロヘキサノンを追加
投入してさらに２４時間ミリングしたのち、取り出した
分散溶液８００ｇを撹拌しながらテトラヒドロフラン８
００ｇを滴下して電荷発生層用塗工液−８とした。

次にこの塗工液−８を前記中間層上に浸漬塗工し、１３
０℃で１０分間乾燥して約０．１μｌ厚の電荷発生層を
形成した。

引続きこの電荷発生層上に下記処方の電荷移動層用塗工
液−９を浸漬塗工し、１３０℃で１時間乾燥して２１μ
ｌ厚の電荷移動層を形成した。

しり。

シリコン油（商品名ＫＦ−５０）　　　　　　０．００
０２重量部テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　
　８０重量部以上のようにして作成した各感光体を低温
低湿（１０℃、１５％）及び高温高温（３０℃、９０％
）の各測定環境で市販の静電複写紙試験装置（川口電機
製作所製ＳＰ４２ｇ型）を用いて一６ＫＶのコロナ放電
を２０秒間行なって帯電させた後、感光体の表面電位Ｖ
ｍを測定し、さらに２０秒間暗所に放置した後、表面電
位Ｖｐ６を測定した。ついでタングステンランプ光を感
光体表面での照度が４．５ルツクスになる様に照射して
Ｖｐｏが１／２になるまでの露光量Ｅ１／２および３０
秒間照射後の残留表面電位Ｖｒとを測定した。またくり
返し疲労特性を知るために上記装置で−７，５ＫＶでの
帯電と３０ルツクスでの露光を１時間くり返して疲労後
の表面電位Ｖｍ’、表面電位Ｖｐｏ’、露光量Ｅ　１／
２’および残留表面電位Ｖｒ’を測定した。低温低湿下
の結果を表−１に、また高温高湿下の結果を表−２に示
す。

実施例２ １５ａｕφのガラスポットに容積の１７２量のｌａａφ
のメノウボール４００ｇの下記樹脂液および２５ｇの前
記アゾ顔料ＮＱ４７を投入して４８時間ミリングした。

さらに５８０ｇの樹脂液を追加投入してさらに２４時間
ミリングしたのち、取り出した分散溶液９５０ｇを撹拌
しながらメチルエチルケトン７１０ｇを滴下して電荷発
生層用塗工液−１０とした。

樹脂液 シクロヘキサン　　　　　　　　　　　　　９７０重量
部次にこの塗工液−１０を電荷発生層用塗工液−８の代
りに用いて実施例１と同様にして感光体を作成し、同様
に高温高湿下の電気特性を測定した。その結果を表−３
に示す。

（以下余白） 実施例３ 厚さ１００μｍの、表面にＡｆｉを真空蒸着したポリエ
チレンテレフタレートフィルムのＡＱ蒸着面にウェット
ギャップ５０μｍで塗工液−１をブレード塗工し、１２
０℃で１０分間乾燥して厚さ約１゜５μ腫の中間層を形
成した１次にこの中間層上にウェットギャップ５０μ鳳
で塗工液−８をプレート塗工し、１２０℃で１０分間乾
燥して約０．１μｍ厚の電荷発生層を形成した。更にこ
の電荷発生層上にウェットギャップ２００μ−で塗工液
−９をブレード塗工し、１２０℃で２０分間乾燥して約
２０μ重厚の電荷移動層を形成し、感光体を作成した。

この感光体を８０腸諷φのＡｌドラムに貼付けてＦＴ４
０６０（Ｃ株）リコー製複写機〕にセットし、コピーを
行なったところ、地肌部、特に白ベタ画像部が均一に白
く抜けた地汚れのないきれいな黒色画一が得られた。こ
こでＦ　Ｔ４０６０は帯電及び電子チャージャーと現像
バイヤスの電源を負極性に改造して用い、現像剤は正荷
電トナーを含む２成分系現像剤を用いた。

次に複写機の現像剤を取りはずして現像及び転写工程を
除き静電的に１０，０００枚コピー相当分くり返し操作
した後、再び現像剤を取付けて画像をコピーしたところ
初期と同様のきれいなコピーが得られた。

比較例１ 中間層の塗工に塗工液−７を用いた以外は実施例３と同
様にして感光体を作成し、実施例３と同様にして画像コ
ピー、静電的くり返し及びくり返し後の画像コピーを行
なったところ、初期は実施例−３と同様地肌部、特に白
ベタ画像部がきれいなコピーが得られたが、１０，００
０枚コピー相当分くり返し後のコピー画像は特に白ベタ
部に地汚れが観察された。

実施例４ ９ａｌφのガラスポットに容積の１７２量の１１φのア
ルミナ焼結ボールと酸化アンチモンＬｏｖｔ％を含有す
る酸化スズの微粉８ｇと酸化チタン粉末５ｇと固形分濃
度１２ｖｔ％のブチラール樹脂（セキスイ化学製ＢＬ−
１）のメチルエチルケトン溶液６５ｇとを入れて７２時
間ミリングし１次にメチルエチルケトン４７ｇを追加し
て４５時間ミリングした０次に取出した顔料分散液８０
重量部に対して８重量部のトリエンジイソシアネートの
２０ｗｔ％メチルエチルケトン溶液を加えて撹拌し、光
散乱性下引層塗工液とした。

上記塗工液を浸漬塗工で実施例１と同じＡＱ。

基板上に塗工して１３０℃で１時間加熱硬化させて約３
μｍ厚の光散乱性下引層を形成した。次にこの下引層上
に実施例２と同様にして中間層、電荷発生層及び電荷移
動層を形成し、感光体を作成した。以下この感光体の電
気特性を実施例１と同様にして高温高湿下の電気特性を
測定した。その結果を表−４に示す。

（以下余白） 茄−−−（ 本発明の感光体は中間層が以上のように高純度の水溶性
ポリビニルアセタールで構成されているので、低温低湿
は勿論、高温高温においても高い帯電性、高い光減衰感
度および低い残留電位を示し、また環境による電気特性
の変動の少ない等の利点を有している。

【図面の簡単な説明】

第１〜４図は本発明感光体の一例の構成図、第５図は実
施例１で用いたイオン交換カラムの断面図である。 １・・・導電性基板 ２・・・水溶性ポリビニルアセタール系中間層３・・・
単層型感光層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、導電性基板上に中間層及び感光層を順次設けた電子
   写真感光体において、前記中間層が水溶性ポリビニルア
   セタールを主成分とし、且つこの中間層内に前記ポリビ
   ニルアセタールの不純物として含まれる酢酸、無機酸及
   び／又はそれらのアルカリ金属塩の量を中間層の０．５
   重量％以下にしたことを特徴とする電子写真感光体。 ２、基板と中間層との間に更に白色顔料又は光吸収性顔
   料と熱硬化性樹脂とを主成分とする光数乱性又は光吸収
   性下引層が設けられる特許請求の範囲第１項記載の感光
   体。 ３、中間層が０．５重量％以下の酢酸ナトリウム及び塩
   化ナトリウムを含む水溶性ポリビニルアセタールを主成
   分としてなる特許請求の範囲第１項又は第２項記載の感
   光体。