JPS6317780B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6317780B2 JPS6317780B2 JP58041760A JP4176083A JPS6317780B2 JP S6317780 B2 JPS6317780 B2 JP S6317780B2 JP 58041760 A JP58041760 A JP 58041760A JP 4176083 A JP4176083 A JP 4176083A JP S6317780 B2 JPS6317780 B2 JP S6317780B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- raw material
- starting rod
- fiber raw
- tip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 46
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 30
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 238000003306 harvesting Methods 0.000 claims description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 2
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 8
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0144—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
- C03B2203/26—Parabolic or graded index [GRIN] core profile
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/46—Comprising performance enhancing means, e.g. electrostatic charge or built-in heater
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光通信に用いる光フアイバの製造方
法に関するものである。さらに詳しくは、高純度
プリフオーム製造工程を用いた低損失ガラス系集
光性光フアイバの製造方法を提供するものであ
る。
法に関するものである。さらに詳しくは、高純度
プリフオーム製造工程を用いた低損失ガラス系集
光性光フアイバの製造方法を提供するものであ
る。
従来例の構成と問題点
本発明者は、以前、特願昭57−201461号にて、
原料ガス雰囲気中で出発棒先端を集光した光で加
熱し、前記加熱部に光フアイバ原料を析出させて
プリフオームを製造する方法を提案した。
原料ガス雰囲気中で出発棒先端を集光した光で加
熱し、前記加熱部に光フアイバ原料を析出させて
プリフオームを製造する方法を提案した。
この方法では、第１図に示すように、例えば、
ETLOF型の光フアイバを製造する場合、あらか
じめ、密閉容器内にたとえば石英ガラスからなる
出発棒１をセツトし、雰囲気ガスとしてガス導入
口６よりCiCl4＋O2の混合ガスを導入しながら、
炭酸ガスレーザ光７を集光して出発棒１の先端を
加熱し、この加熱部分にのみSiO2を析出させ、
析出の進行に供つて出発棒１を回転させながら引
き上げて行くとプリフオーム５を製造される。
ETLOF型の光フアイバを製造する場合、あらか
じめ、密閉容器内にたとえば石英ガラスからなる
出発棒１をセツトし、雰囲気ガスとしてガス導入
口６よりCiCl4＋O2の混合ガスを導入しながら、
炭酸ガスレーザ光７を集光して出発棒１の先端を
加熱し、この加熱部分にのみSiO2を析出させ、
析出の進行に供つて出発棒１を回転させながら引
き上げて行くとプリフオーム５を製造される。
このとき、化学反応式は、
SiCl4＋O2→SiO2＋Cl2
となり、H2を用いないので、原理的にOHが残留
することはなく、純粋な石英ガラスのコア用プリ
フオームを製造することができる。
することはなく、純粋な石英ガラスのコア用プリ
フオームを製造することができる。
なお、レーザ出力、出発棒の回転速度、導入ガ
ス量の制御により、出発棒先端を溶融させ、透明
のプリフオームを一挙に製造することも可能であ
る。
ス量の制御により、出発棒先端を溶融させ、透明
のプリフオームを一挙に製造することも可能であ
る。
こゝで、炭酸ガスレーザを用いるのは、炭酸ガ
スレーザでは波長が10.6μｍであるため、石英ガ
ラスの吸収率が高く、析出しつつあるプリフオー
ム先端のみを効率よく加熱することが出来るから
である。従つて、プリフオーム先端でSiCl4＋O2
の反応を生じさせ、析出したSiO2を溶融させる
ものにも非常に好都合である。
スレーザでは波長が10.6μｍであるため、石英ガ
ラスの吸収率が高く、析出しつつあるプリフオー
ム先端のみを効率よく加熱することが出来るから
である。従つて、プリフオーム先端でSiCl4＋O2
の反応を生じさせ、析出したSiO2を溶融させる
ものにも非常に好都合である。
次に、上述の如く製造されたプレフオームを回
転させながら、側面を再びレーザで加熱し、こん
どは、クラツドの原料となるSiCl4とBCl3とO2の
混合ガスを吹入めば、コア用プリフオームの表面
にクラツド用プリフオームが析出された光フアイ
バ用プリフオームを容易に製造することができ
る。
転させながら、側面を再びレーザで加熱し、こん
どは、クラツドの原料となるSiCl4とBCl3とO2の
混合ガスを吹入めば、コア用プリフオームの表面
にクラツド用プリフオームが析出された光フアイ
バ用プリフオームを容易に製造することができ
る。
ところが、この方法では、集光性光フアイバの
製造は行えない。すなわち、この方法は、コア用
プリフオームの製造工程で、出発棒先端をできる
だけ均一に加熱するため、不純物は光フアイバ原
料析出方向に垂直な方向で非常に均一となる。従
つて、長さ方向に垂直な方向に屈折率が変化して
いることが必要な集光性光フアイバを製造するこ
とはできない。
製造は行えない。すなわち、この方法は、コア用
プリフオームの製造工程で、出発棒先端をできる
だけ均一に加熱するため、不純物は光フアイバ原
料析出方向に垂直な方向で非常に均一となる。従
つて、長さ方向に垂直な方向に屈折率が変化して
いることが必要な集光性光フアイバを製造するこ
とはできない。
さらにまた、上述の方法では出発棒先端を極部
的に溶融させた場合、前記溶融部に未反応ガスあ
るいは反応によつて生じたガスが溶け込み、この
小さな気泡の為に光透過率が悪くなつたり、ある
いは出発棒先端の加熱温度をやや低くして、
CVDにより光フアイバ原料を析出させた場合に
も、微細な気泡を取り込むことがあり、後工程で
脱泡を行う必要があつた。
的に溶融させた場合、前記溶融部に未反応ガスあ
るいは反応によつて生じたガスが溶け込み、この
小さな気泡の為に光透過率が悪くなつたり、ある
いは出発棒先端の加熱温度をやや低くして、
CVDにより光フアイバ原料を析出させた場合に
も、微細な気泡を取り込むことがあり、後工程で
脱泡を行う必要があつた。
発明の目的
以上述べてきた従来法の欠点に鑑み、本発明の
目的は、−OH基を含まない低損失集光性光フア
イバの製造方法を提供することにある。
目的は、−OH基を含まない低損失集光性光フア
イバの製造方法を提供することにある。
さらには、微細な気泡を含まないプリフオーム
の製造工程を用いた集光性光フアイバの製造方法
を提供することにある。
の製造工程を用いた集光性光フアイバの製造方法
を提供することにある。
発明の構成
本発明は、加熱エネルギーとして集光した光
（例えば、レーザ光）を用い、光フアイバ原料ガ
ス雰囲気中（SiCl4あるいはSiCl4＋GeCl4等とO2）
で出発棒あるいは析出しつつあるプリフオーム先
端を極所的に加熱し、前記加熱部で化学反応を生
じせしめ、SiO2あるいはSiO2とGeO2の混合物等
の結晶材料を析出させるとともに、出発棒を回転
させながら引き上げてプリフオームを形成する方
法において、前記出発棒先端に析出する光フアイ
バ原料の析出方法に垂直な方向に温度差が生じる
ように、集光した光を照射し、さらに導入ガスの
ノズルを複数個用意し、光フアイバ原料の析出方
向に垂直な方向に不純物濃度が異る（偏析するよ
うに）ように光フアイバ原料を析出させる方法よ
りなる。さらに、望ましくは、反応室内を数10mm
Hgの圧力で行うことにより、（SiCl4、GeCl4、
O2等の）反応ガスあるいは未反応ガスの取り込
みを防止する方法であり、また、望ましくは前記
出発棒に超音波を印加して、超音波のキヤビテー
シヨン効果より、取り込まれたガスを追い出す方
法よりなるものである。
（例えば、レーザ光）を用い、光フアイバ原料ガ
ス雰囲気中（SiCl4あるいはSiCl4＋GeCl4等とO2）
で出発棒あるいは析出しつつあるプリフオーム先
端を極所的に加熱し、前記加熱部で化学反応を生
じせしめ、SiO2あるいはSiO2とGeO2の混合物等
の結晶材料を析出させるとともに、出発棒を回転
させながら引き上げてプリフオームを形成する方
法において、前記出発棒先端に析出する光フアイ
バ原料の析出方法に垂直な方向に温度差が生じる
ように、集光した光を照射し、さらに導入ガスの
ノズルを複数個用意し、光フアイバ原料の析出方
向に垂直な方向に不純物濃度が異る（偏析するよ
うに）ように光フアイバ原料を析出させる方法よ
りなる。さらに、望ましくは、反応室内を数10mm
Hgの圧力で行うことにより、（SiCl4、GeCl4、
O2等の）反応ガスあるいは未反応ガスの取り込
みを防止する方法であり、また、望ましくは前記
出発棒に超音波を印加して、超音波のキヤビテー
シヨン効果より、取り込まれたガスを追い出す方
法よりなるものである。
実施例の説明
例えば、集光性光フアイバを製造する場合には
第２図ａに示すごとく出発棒１の先端の中央部の
みを集光した光８で照射し、光フアイバ原料の析
出方向（プリフオームの成長方向）と垂直な方向
に、第２図ｂの如く温度分布を持たせ、さらに、
中心部に吹き込むガス１７（例えば、SiCl4＋O2）
と、外周部へ吹き込むガス１８（SiCl4＋B2Cl3＋
O2）の２つのノズルを用いて光フアイバ原料を
析出させることにより、第２図ｃの如く不純物濃
度が光フアイバプリフオーム中心と外周部で異な
る、すなわち屈折率が光フアイバプリフオーム中
心部で大きく外周部で小さな集光性光フアイバの
プリフオーム１２を容易に製造することができ
る。
第２図ａに示すごとく出発棒１の先端の中央部の
みを集光した光８で照射し、光フアイバ原料の析
出方向（プリフオームの成長方向）と垂直な方向
に、第２図ｂの如く温度分布を持たせ、さらに、
中心部に吹き込むガス１７（例えば、SiCl4＋O2）
と、外周部へ吹き込むガス１８（SiCl4＋B2Cl3＋
O2）の２つのノズルを用いて光フアイバ原料を
析出させることにより、第２図ｃの如く不純物濃
度が光フアイバプリフオーム中心と外周部で異な
る、すなわち屈折率が光フアイバプリフオーム中
心部で大きく外周部で小さな集光性光フアイバの
プリフオーム１２を容易に製造することができ
る。
なお、このとき、反応室内を減圧状態とし反応
ガスの圧力が小さい程形成されたプリフオーム中
の反応ガスあるいは未反応ガスの取り込みを防止
しプリフオーム中の気泡を少くできるが、逆に成
長速度が遅くなるので、ガス圧力の調整は必要と
する光フアイバの性能に合わせて調節してやれば
良い。
ガスの圧力が小さい程形成されたプリフオーム中
の反応ガスあるいは未反応ガスの取り込みを防止
しプリフオーム中の気泡を少くできるが、逆に成
長速度が遅くなるので、ガス圧力の調整は必要と
する光フアイバの性能に合わせて調節してやれば
良い。
一方、出発棒先端の加熱温度を光フアイバ原料
が溶融する程度にまで昇温する場合には、さらに
出発棒に超音波を印加し、超音波のキヤビテーシ
ヨン効果により、光フアイバ原料の溶融部より溶
存ガスを排出することも可能である。
が溶融する程度にまで昇温する場合には、さらに
出発棒に超音波を印加し、超音波のキヤビテーシ
ヨン効果により、光フアイバ原料の溶融部より溶
存ガスを排出することも可能である。
最後に、上述の方法で製造したプリフオームを
線引き機にかけて、長距離用光フアイバを製造す
ることができる。
線引き機にかけて、長距離用光フアイバを製造す
ることができる。
発明の効果
本発明の方法を用いることにより、ガラス系の
高純度低損失集光性光フアイバを容易に製造する
ことができる。すなわち、フアイバ原料となるプ
リフオーム中に−OH基及び気泡を含まず、気泡
及び、−OH基の振動による吸収の無い高精度低
損失集光性光フアイバを製造することができる。
さらに反応ガスや未反応ガスのプリフオーム中へ
の溶け込みを最少限に抑制することができる。
高純度低損失集光性光フアイバを容易に製造する
ことができる。すなわち、フアイバ原料となるプ
リフオーム中に−OH基及び気泡を含まず、気泡
及び、−OH基の振動による吸収の無い高精度低
損失集光性光フアイバを製造することができる。
さらに反応ガスや未反応ガスのプリフオーム中へ
の溶け込みを最少限に抑制することができる。
しかも、加熱は光フアイバ原料を析出する部分
のみ極部的に行うことができ、エネルギー効率が
非常によい。また、析出面には、高純度の原料ガ
スのみしか接触しないので、他の不純物が混入す
ることが無い。さらにまた、従来のVAD法と同
じように連続製造が可能なため、継目のない長距
離用光フアイバを製造することができる。
のみ極部的に行うことができ、エネルギー効率が
非常によい。また、析出面には、高純度の原料ガ
スのみしか接触しないので、他の不純物が混入す
ることが無い。さらにまた、従来のVAD法と同
じように連続製造が可能なため、継目のない長距
離用光フアイバを製造することができる。
第１図は本発明者が特願昭57−201461号に示し
た光フアイバ製造法の概念図、第２図は本発明の
方法を用いた実施例の概念図であり、第２図ａは
集光性光フアイバのプリフオームを製造する場合
の概念図、第２図ｂはその時に光フアイバ原料析
出方向と垂直な方向の温度分布図、第２図ｃはで
きたプリフオームの屈折率の分布を示す図であ
る。 １……出発棒、５，１２……プリフオーム、６
……ガス導入口、７……集光した光（レーザー
光）、８……レーザ光、１７，１８……ガスノズ
ル。
た光フアイバ製造法の概念図、第２図は本発明の
方法を用いた実施例の概念図であり、第２図ａは
集光性光フアイバのプリフオームを製造する場合
の概念図、第２図ｂはその時に光フアイバ原料析
出方向と垂直な方向の温度分布図、第２図ｃはで
きたプリフオームの屈折率の分布を示す図であ
る。 １……出発棒、５，１２……プリフオーム、６
……ガス導入口、７……集光した光（レーザー
光）、８……レーザ光、１７，１８……ガスノズ
ル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 減圧状態の光フアイバ原料ガス雰囲気中で出
発棒先端を集光した光で極所的に加熱し、前記出
発棒先端に光フアイバ原料を析出させるに際し、
前記光フアイバ原料の析出方向に垂直な方向に温
度差が生じるように前記光を照射して前記出発棒
先端を加熱し、前記出発棒先端の加熱部の中心部
と外周部にそれぞれ第１、第２のガスノズルより
組成の異なる第１、第２の原料ガスを同時に吹き
つけ、前記光フアイバ原料の析出方向に垂直な方
向に連続的に屈折率が異るように前記光フアイバ
原料を成長させて集光性光フアイバー用プリフオ
ームを形成することを特徴とした光フアイバの製
造方法。 ２ 減圧状態の光フアイバ原料ガス雰囲気中で出
発棒先端を集光した光で極所的に加熱し、前記出
発棒先端に光フアイバ原料を析出させるに際し、
前記光フアイバ原料の析出方向に垂直な方向に温
度差が生じるように前記光を照射して前記出発棒
先端を加熱溶融し超音波を印加しながら、前記出
発棒先端の加熱部の中心部と外周部にそれぞれ第
１、第２のガスノズルより組成の異なる第１、第
２の原料ガスを同時に吹きつけ、前記光フアイバ
原料の析出方向に垂直な方向に連続的に屈折率が
異なるように前記光フアイバ原料を成長させて集
光性光フアイバー用プリフオームを形成すること
を特徴とした光フアイバの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4176083A JPS59169949A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 光フアイバの製造方法 |
| US06/550,548 US4530709A (en) | 1982-11-16 | 1983-11-10 | Method for producing optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4176083A JPS59169949A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 光フアイバの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59169949A JPS59169949A (ja) | 1984-09-26 |
| JPS6317780B2 true JPS6317780B2 (ja) | 1988-04-15 |
Family
ID=12617355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4176083A Granted JPS59169949A (ja) | 1982-11-16 | 1983-03-14 | 光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59169949A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50138844A (ja) * | 1974-04-24 | 1975-11-06 | ||
| JPS50141334A (ja) * | 1974-04-24 | 1975-11-13 |
-
1983
- 1983-03-14 JP JP4176083A patent/JPS59169949A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50138844A (ja) * | 1974-04-24 | 1975-11-06 | ||
| JPS50141334A (ja) * | 1974-04-24 | 1975-11-13 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59169949A (ja) | 1984-09-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4406684A (en) | Core torch for fabricating single-mode optical fiber preforms | |
| US3957474A (en) | Method for manufacturing an optical fibre | |
| US4414012A (en) | Fabrication methods of doped silica glass and optical fiber preform by using the doped silica glass | |
| US4265649A (en) | Method for preparing a preform for optical waveguides | |
| US4367085A (en) | Method of fabricating multi-mode optical fiber preforms | |
| GB2128981A (en) | Fabrication method of optical fiber preforms | |
| EP0100174B1 (en) | Method of making glass optical fiber | |
| US7437893B2 (en) | Method for producing optical glass | |
| JPS6317780B2 (ja) | ||
| JP3498590B2 (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 | |
| JPH0331658B2 (ja) | ||
| US4530709A (en) | Method for producing optical fiber | |
| JPS6256094B2 (ja) | ||
| JPS60264338A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JP2965235B2 (ja) | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| JPS59141436A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPS61151031A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPS60221332A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPH0613415B2 (ja) | プリフオ−ム用ス−トの形成方法 | |
| JPH04342427A (ja) | 高ｏｈ基含有石英ガラスの製造方法 | |
| JP3169503B2 (ja) | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| JPS5992930A (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
| JP3118723B2 (ja) | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| JPS59454B2 (ja) | 光伝送用ファイバ母材の製造方法 | |
| JP3992970B2 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法及びその製造装置 |