JPS63170253A - 歯科修復材料 - Google Patents

歯科修復材料

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JPS63170253A
JPS63170253A JP62084922A JP8492287A JPS63170253A JP S63170253 A JPS63170253 A JP S63170253A JP 62084922 A JP62084922 A JP 62084922A JP 8492287 A JP8492287 A JP 8492287A JP S63170253 A JPS63170253 A JP S63170253A
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strontium fluoride
acid
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リヴハード ウイリアム ビリントン
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    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K6/00Preparations for dentistry
    • A61K6/80Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
    • A61K6/884Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising natural or synthetic resins
    • A61K6/887Compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • A61K6/889Polycarboxylate cements; Glass ionomer cements

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ガラス/ポリ(カルボン酸)組成物の改良お
よびガラス/ポリ(カルボン酸)組成物に係るものであ
る。
ガラス/ポリ(カルボン酸)セメント組成物は、よく知
られており、既に確立されている。
このような組成物は、基本的には、(i)遊離カルボン
酸基を含むポリマー(典型的にはアクリル酸のホモポリ
マーまたはコポリマー)および(it)酸浸出性多価金
属イオン源[例えばアルミノフルオロケイ酸カルシウム
ガラスのような酸で浸出されるガラス(laachab
leglass) ]から構成されている。水の存在に
、おいて、ポリ酸が多価金属イオン源から多価金属イオ
ンを浸出し、これらがポリマー分子鎖を架橋結合させて
固体物質(セメント)を与えるのに役立つ、このような
組成物は、専門的に信頼に足る議論がなされており、例
えば、“有機石材高分子材料”(Organolith
ic Macro−molecular Materi
alg)、著者ニー、ディー。
ウィルソン(A、D、11i1son)およびニス、ク
リスプ(S、 Cr1spL応用科学出版社(Appl
iedScience Publishers) 、1
977 (特に4章参照)が取扱っている。
ガラス/ポリ(カルボン酸)セメント組成物は、歯科修
復材料(d antal r astorativem
aterial)として特別な用途を有することが見出
されているが、しかし実用的な欠点としては放射線透過
性があることで、本質的にX線を透過することが障害と
なっている。結果として、例えば、このような組成物を
使用して行なわれた歯科修復をX線技術で検査すること
が不可能となり、更に、動かされたり、人によって飲み
込まれたりすることのある歯科修復の任意の部分を、X
線技術を用いてその所在を確かめることが不可能となる
歯物質の放射線不透過性(即ち歯物質がX線を吸収する
程度)は、歯物質の1mmと同じ放射線不透過性を有す
るアルミニウムの厚さくmm)によって便宜的に定義さ
れることができる。エナメル質の典型的な値は、エナメ
ル質mm当りでアルミニウム1.3−2.7mmであり
、象牙質では、象牙質mm当りでアルミニウム0 、6
−2 、0 m mとなる。
本発明によって、放射線不透過性セメント剤が、遊離カ
ルボキシル基を含むポリマー、酸浸出性多価金属イオン
源および水、更にフッ化ストロンチウムを含むことから
成る組成物から生成されることができるということがわ
かったのである。フッ化ストロンチウムは、他の若干放
射線不透過性性質を有している他の物質が存在していて
も、本質的にすべての放射線不透過性を与える、現在主
要な放射線不透過剤である6 更にフッ化ストロンチウムの使用は、光学的に透明な硬
化セメント剤(フッ化ストロンチウムが無い場合に得ら
れる硬化セメント剤に似ている)を与え、このことが本
発明の硬化セメント剤を歯科修復で価値有るものにして
いることが、見出されている。この半透明性は、 CI
L7゜値の表現で表わされれば、適切には0.7より少
なく、好ましくは0.6以下で、最も好ましくは0.5
以下である。
従って、本発明によれば、遊離カルボキシル基を含むポ
リマーを、水およびフッ化ストロンチウムの存在下で微
粒子状の酸またはアルカリ浸出性多価金属イオン源と反
応させることから成る架橋結合セメント剤を製造する方
法が与えられる。
使用時に満足な放射線不透過性を達成するためには、フ
ッ化ストロンチウムが、適切には、遊離カルボキシル基
を含むポリマー、酸浸出性多価金属イオン源およびフッ
化ストロンチウムの合計重量基準で、7.5から 50
重量%、好ましくは15から33重量%、より好ましく
は19から23重量%で存在している。
多価金属イオン源は、例えば、アルミノフルオロケイ酸
カルシウムガラスのような酸浸出性ガラスであることが
でき、それは好ましくは、カルシウム(CaOとして計
算)9ないし25重量%;アルミニウム(AQ、O,と
して計算)28ないし38重量% 寥 シリカ(Sin
、として計算)25ないし30重量%;そしてフッ素(
F、として計算)0ないし12重量%;そしてリン(P
 * Osとして計算)Oないし9重量%を含んでなる
ものである1便宜のために、以後は多価金属イオン源を
単に“ガラス”と称することにする。理解されるところ
であろうが、フッ化ストロンチウム自身は、多価金属イ
オン源として役立つことができる。
遊離カルボキシル基を含むポリマーは、好ましくは、 
アクリル酸ホモポリマーである。
アクリル酸コポリマーも使用することができるが、ホモ
ポリマーの方が好ましい[ディー。
ジェー、セッチェル(D、 J 、 5etchell
)および共同研究者、英国歯科学雑誌(B rftis
hDental Journal) 、 1985 、
 158巻、220頁参照]、アクリル酸ポリマーまた
はコポリマーは、適切には、20,000がら125.
000までの範囲の分子量を有し、好ましくは、35,
000ないし7o、ooOlそして最も好ましくは、4
5,000  から55.000  までの範囲の分子
量を有している0便宜のために、遊離カルボキシル基を
含むポリマーを今後単に“ポリアクリル酸″と称するこ
とにする。
ガラスは、微粒子の形状でなければならず。
適切には0.5から60μmの範囲の粒径を有している
。ガラスの粒径は、これらの範囲内で、本組成物の1的
となる最終用途に応じて変化することができる。かくし
て1例えば。
本組成物が簡単な歯科修復材料(即ち充填材または封止
材)として使用されるべき場合には1粒径は適切には0
.5から40μmの範囲であり、好ましくは、1から3
0μm、最も好ましくは2から20μmの範囲であり、
そしていわゆる“複合”歯科修復材料(即ちエチレン系
不飽和樹脂物質、不活性微粒子充填剤および樹脂物質の
硬化剤の混合物)の下で副充填剤、基剤または裏打剤(
ライナー)として使用する目的の場合には、粒径は適切
には2から60μmの範囲、好ましくは2から40μm
、そして最も好ましくは5から30μmの範囲である。
ポリアクリル酸のガラスに対する重量比率は、適切には
0.15 : 1から0.5 : 1、好ましくは0.
2 : 1から0.3 : 1であり、そして水のガラ
スに対する重量比率は、適切には0.2: 1から0.
5: 1.好ましくは約0.25:1である。
ポリアクリル酸とガラスの反応は、混合物の処理時間及
び/又は硬化時間を変えたりまたは調整したりするのに
役立つ他の物質の存在において行なわれることができ、
例えば酒石酸のようなヒドロキシカルボン酸が、処理時
間に影響することなしに組成物の硬化速度を増加させる
のに役立っている。
ガラス、ポリアクリル酸およびフッ化ストロンチウムか
ら固体セメント剤を形成するための組成物は、二成分系
パックとして出されることができ、この−成分はポリア
クリル酸水溶液(必要により処理/硬化時間調整剤を含
む)を含んで成り、他成分はフッ化ストロンチウムと共
に微粒子ガラスを含んで成るものである。別の方法では
、乾燥混合物(トライブレンド)が、微粒子ガラスおよ
び粉末ポリマーおよびフッ化ストロンチウムから作り上
げられることができ、続いてこれに水を加えれば、セメ
ント形成組成物となる。
本発明に従って生成されるセメント剤は、一般的に放射
線不透過性であり、そしてこれらが顕著にベース−充填
剤、基剤またはライナーとして上述のいわゆる複合充填
剤材料の下で使用されるのに適していることが見出され
たのである。
多種類のこのような複合充填剤材料が、知られあるいは
提案されている。より普通に用いられるこれらの材料は
、ポレエチレン系の不飽和上ツマ−またはオリゴマー(
例えばビス−〇MAまたはその誘導体またはウレタンジ
アクリレート)、エチレン系不飽和成分(例えばエチレ
ングリコールジメタクリレート)、充填剤および重合開
始剤を含んでなるものである。典型的な充填剤は1粒径
が1から80μmの範囲にあるガラスセラミックスまた
は微粒子石英、またはホウケイ酸ガラス及び/又は粒径
0.005から0.2μmの範囲のコロイダルシリカで
ある0重合開始剤は、室温温度で作用する開始剤で1例
えば過酸化ベンゾイルおよび三級アミンであることがで
き、あるいは化学線照射感受性開始剤1例えばベンゾフ
ェノンまたはカンファーキノンであることができる。
従って1本発明の別の具体例では、基剤、ライナーまた
は副充填剤を本発明方法に従って形成し、次に1個また
は1個以上のエチレン系不飽和化合物、微粒子充填剤お
よびエチレン系不飽和化合物用の重合開始剤を含んでな
る複合歯科組成物からのオーバレイイング充填剤を基剤
の上に形成することを含んで成る歯科修復方法が与えら
れる。
フッ化ストロンチウムは、本発明に従って他の歯科修復
材料、例えば上述の複合型材料における放射線不透過剤
として用いられることができる。特に、フッ化ストロン
チウムは複合充填剤材料において、およびピットおよび
組織の密封剤において用いられることができ、ここでは
イオンでのフッ化物のカリエス(caries)抑制効
果が特に望ましいものであり、そしてフッ化ストロンチ
ウムの放射線不透過性効果が、再発カリエスの診断にお
いて手助けとなることができる。
より広い観点に立てば、本発明は、放射線不透過剤とし
て、好ましくは主要なまたは唯一の放射線不透過剤とし
てストロンチウムを含む樹脂構造物を与える。好ましく
は半透明であるこのような構造物は、構造物mm当りで
少なくともアルミニウム1.0mm、好ましくは少なく
とも1.5mm、  最も好ましくは構造物mm当りで
少なくともアルミニウム2.0mm の放射線不透過性
を適切に有している。このような構造物は、歯科修復方
法に適切に使用される。
本発明がよく理解されることができるために、次の諸実
施例が、唯説明の方法ということで与えられている。諸
実施例においては、すべてのパーセントは、別に指示さ
れない限り1重量パーセントとなっている。
去!tU セメント−形成粉末が、(a)  62.1重量%の微
粒子フルオロアルミノケイ酸カルシウムガラス[ケムフ
ィル■(Chemfil u )として市販]でソータ
ー平均径(S auter MeanDiameter
)  5 μmのもの、(b)15.1%の分子量45
,000を有するポリアクリル酸、(c)1.3%の酒
石酸、および (d)21.5%のフッ化ストロンチウ
ムから、製造された。
その粉末を、歯科用スパーチルおよびガラスブロックを
用いて、粉末/水比率6.8:1で、手で水と混合した
。得られたセメント剤は、典型的には23℃で、3分間
の作用時間を有し、セメント剤1mm当りアルミニウム
2.5mmの放射線不透過性を有しており。
圧縮強さ182MPa、  表面強さ15.3MPaで
、0.25%の溶解度であった。
去J42Lu 粉末を、69.3%の粉末ガラスと14.3%のフッ化
ストロンチウムを含んでいること以外は、実施例1で述
べられたと同じようにして製造した。同粉末を、実施例
1で述べられたと同じように評価し、典型的作用時間が
23℃で2分間であり、圧縮強さが204MPa、放射
線不透過性がセメント剤1mm当りでアルミニウム1.
4mmであることが見出された。
失産涯−1 ヒドロキシプロピルメタクリレート2モルとトリーメチ
ル−ヘキサメチレンジイソシアネートからのウレタン付
加体の5部を含む樹脂10グラムを、トリエチレングリ
コールジメタクリレート10グラム中に溶解する0次に
、この溶液中に、0.03 g  のカンファーキノン
および0.2gのメチルジェタノールアミンを溶解し、
最後に10μmより小さい粒径を有するフッ化ストロン
チウム15gを同溶液中に分散する。得られた組成物を
、プリズマライト(Pris+*alite)  [デ
ンツプライ社(Dentsply Inc、)エル、デ
、r−,=1−))ディビジミン(L、 D、 Cau
lk Division)の製品]を用いての化学線に
より、20秒間の照射によって重合し、ピットおよび亀
裂の封止に適する放射線不透過性の組成物を与える。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、遊離カルボキシル基を含むポリマーを水およびフッ
    化ストロンチウムの存在下反応させることを含んでなる
    架橋結合セメント剤の製造方法。 2、遊離カルボキシル基を含むポリマー、 浸出性多価イオン源およびフッ化ストロンチウムの合計
    重量基準で、フッ化ストロンチウムが7.5から50重
    量%の範囲で存在することを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載による製造方法。 3、浸出性多価金属イオン源が酸浸出性ガラスであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項に記
    載の製造方法。 4、酸浸出性ガラスが、アルミノフルオロケイ酸カルシ
    ウムガラスであることを特徴とする特許請求の範囲第3
    項記載による製造方法。 5、遊離カルボキシル基を含むポリマーが、アクリル酸
    のホモポリマーまたはコポリマーであることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項から第4項までのいずれか一項
    に記載の製造方法。 6、遊離カルボキシル基を含むポリマーが、分子量35
    ,000から70,000までの範囲にあるアクリル酸
    のホモポリマーであることを特徴とする特許請求の範囲
    第5項記載による製造方法。 7、ガラスが0.5から60μmの範囲の粒径であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項から第6項までの
    いずれか一項に記載の製造方法。 8、諸実施例に述べられている方法を本質的に特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載による製造方法。 9、前記特許請求の範囲のいずれか一項に記載されてい
    る方法に従って、基剤、ライナーまたは副充填剤を形成
    し、次に1個または1個以上のエチレン系不飽和化合物
    、微粒子充填剤およびエチレン系不飽和化合物用の重合
    開始剤を含んでなる複合歯科組成物からのオーバレイイ
    ング充填剤を副充填剤の上に形成することを含んでなる
    歯科修復方法。 10、本質的に上述の諸特徴を含む特許請求の範囲第9
    項記載による方法。 11、フッ化ストロンチウムを含む重合マトリックスを
    含んでなる歯科修復材料。 12、重合マトリックスが、1個または1個以上のエチ
    レン系不飽和化合物、微粒子充填剤および重合開始剤を
    含んでなる複合組成物から形成されることを特徴とする
    特許請求の範囲第11項記載の歯科修復材料。 13、重合マトリックスがポリアクリレート歯科セメン
    ト剤であることを特徴とする特許請求の範囲第11項記
    載による歯科修復材料。 14、ストロンチウムを放射線不透過剤として含むこと
    を特徴とする放射線不透過性樹脂構造物。 15、ストロンチウムが、主要な放射線不透過剤である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第14項記載の構造物
    。 16、ストロンチウムが、実際上唯一の放射線不透過剤
    であることを特徴とする特許請求の範囲第15項記載の
    構造物。 17、ストロンチウムが、フッ化ストロンチウムとして
    存在することを特徴とする特許請求の範囲第14項から
    第16項までのいずれか一項に記載の構造物。 18、構造物mm当りで、少なくともアルミニウム1.
    0mmの放射線不透過性を有することを特徴とする特許
    請求の範囲第14項から第17項までのいずれか一項に
    記載の構造物。 19、構造物mm当りで、少なくともアルミニウム1.
    5mmの放射線不透過性を有することを特徴とする特許
    請求の範囲第18項記載の構造物。 20、構造物mm当りで、少なくともアルミニウム2.
    0mmの放射線不透過性を有することを特徴とする特許
    請求の範囲第19項記載の構造物。 21、実際上半透明であることを特徴とする特許請求の
    範囲第14項から第20項までのいずれか一項に記載の
    構造物。
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