JPS6316998Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は光学分析用噴霧装置に関し、廃液の
液面位置を制御することにより、噴霧室の容量を
一定にし、それによつて分析信号にノイズが入る
のを防止するものである。

炎光分光分析・原子吸光分析・高周波プラズマ
発光分析などにおいて、噴霧装置によつて霧状に
された試料溶液を一定量安定的に前記分析の炎や
プラズマ等に送り分析している。

このような光学分析用噴霧装置１Ａはこれまで
例えば第１図に示す高周波誘導結合プラズマ用装
置のように、噴霧室２Ａに廃液路５Ａを介してサ
ブタンク６Ａを接続している。

噴霧ガス１０Ａによつて噴霧される試料溶液１
１Ａは大部分自然落下により廃液路を通じて廃液
８Ａとして流されるが、廃液中には噴霧する試料
により密度の異なる粒子が含まれかつその混入割
合は一定ではなく随時変化している。

この結果、サブタンク内の廃液全体の重量（密
度）が変わることによつて、一定圧力下にある噴
霧室内の圧力によつて押されている廃液路の廃液
面７Ａが上下し、噴霧室の容量が増加したり減少
したりする。

さらにこの容量変動に伴い一定圧力下にある噴
霧室内の圧力が上昇・低下することにより、噴霧
試料供給路３Ａから排出される霧状試料の排出ス
ピードが変動することになる。この結果、前記プ
ラズマ等による分析において分析信号に影響を与
える。

このような廃液面の上下動を防止するため、サ
ブタンクを廃止し直接廃液タンク９Ａまで廃液路
を延長すれば、廃液面の上下動は防止できるが、
廃液路に廃液が滞留することがなくなり、廃液路
と噴霧室とが一体となることにより、噴霧室の容
量が大きくなり、かつ廃液一滴一滴の落下が直接
霧状試料の排出スピードに影響し分析信号にノイ
ズを与える。

また、炎光分析等の可燃ガスを使用する場合に
は、噴霧室の内圧低下により、噴霧試料供給路３
Ａから可燃ガスが逆流しバツクフアイアなどによ
る爆発の危険がでてくる。

この考案は、これらの事情に鑑みてなされたも
ので、その具体的構成は、傾斜胴形で上部壁に噴
霧試料供給路を接続した噴霧室と、この噴霧室の
対向する胴入口・出口部にそれぞれ接続された試
料溶液送液路及び下向きの廃液路と、この廃液路
に設置された液面制御手段とを備え、この液面制
御手段によつて廃液路の液面を所定位置に制御す
るよう構成されてなる光学分析用噴霧装置であ
る。

すなわちこの考案は、噴霧室の容量を一定とす
るため廃液路の液面を液面制御手段によつて制御
し、一定とさせ、かつ噴霧ガスが廃液路に入るこ
とを防止しようとするものである。

まおこの考案で使用される制御手段は、例え
ば、液面監視を行うフオトセンサーと、このフオ
トセンサーから出される信号で駆動する排液ポン
プとから構成してもよい。また廃液面の位置は自
由設定できるものとし、廃液面の検出は感度コン
トロールをできるものが好ましい。

またポンプに定量性のあるものを使用し、その
排出量を廃液の発生量に見合うようにすることも
でき、さらに液面位置が低下した場合、ポンプを
逆回転させ液面位置を維持することもできる。

以下図に示す実施例に基づいてこの考案を詳述
する。なお、これによつてこの考案が限定される
ものではない。

まず第２図において、高周波誘導結合プラズマ
発光分析における光学分析用噴霧装置１は、傾斜
胴形の噴霧室２と、この噴霧室２上部壁に接続さ
れた噴霧試料供給路３と、噴霧室２の胴入口・出
口部に接続された試料溶液送液路４および噴霧ガ
ス抜き用第１廃液路５（第１廃液チユーブ）と、
さらに第１廃液路５と、第２廃液路６（第２廃液
チユーブ）を介して接続された排液ポンプ７と、
この排液ポンプ７とコントローラ部８を介して第
１廃液路５に設置されたフオトセンサーからなる
液面上限監視部９と液面不限監視部１０とから主
として構成されている。なお１１は試料粒子、１
２は廃液、１３は廃液タンク、１４は噴霧ガス供
給路である。

この装置（廃液排出装置）１において噴霧ガス
によつて試料送液路４から噴霧室２に噴霧され、
一部は噴霧試料供給路３からプラズマ等に送られ
分析されるが、大部分は廃液１２として第１廃液
路５に滞留する。

この廃液１２は第２廃液路６を通つて廃液タン
ク１３に集められるが、第２廃液路５の廃液面１
５が液面上限監視部９を越えると、液面上限監視
部９がコントローラ部８に信号を送り、排液ポン
プ７が駆動され廃液を排出し始め廃液面１５を下
げ、廃液面１５が液面下限監視部１０に達する
と、液面下限監視がコントローラ部８に信号を送
り排液ポンプの駆動を停止させ廃液面１５の低下
を止める。

このように廃液面１５を液面上限監視部９と液
面下限監視部１０の範囲におさえ噴霧室２の容量
を安定させている。

なお、液面上限監視部９と液面下限監視１０の
間隔は、炎光分析・原子吸光分析・高周波プラズ
マ発光分析等の分析システムに応じ、適宜設定す
るものとする。例えば、高周波プラズマ発光分析
システムでは上・下限の間隔は０〜５mm（但し０
とは変動しないことを意味する）が好ましい。

また排液ポンプ７を逆回転させ、一定量の洗浄
液を噴霧室２に送り、噴霧室２の洗浄を行なうこ
ともできる。

なおこの考案とは異なるが、第２廃液路６の先
端部１６をを第１廃液路５内に延長し、その先端
部１６を液面の下限とし、廃液面１５が第２廃液
路先端部１６より低くなつた時、排液ポンプ７を
逆回転させ廃液１２を第１廃液路５内に逆に送液
することもできる。このような液面制御の場合
は、噴霧ガスが排液ポンプ７を通じて外部に排出
されても良い場合に限られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の高周波誘導結合プラズマ発光分
析における光学分析用噴霧装置の機能説明断面
図、第２図はこの考案に係る光学分析用噴霧装置
の一実施例を示す機能説明断面図である。 １……高周波結合プラズマ発光分析における光
学分析用噴霧装置、２……噴霧室、３……噴霧試
料供給路、４……試料溶液送液路、５……第１廃
液路、６……第２廃液路、７……排液ポンプ、９
……液面上限監視部、１０……液面下限監視部。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 傾斜胴形で上部壁に噴霧試料供給路を接続し
   た噴霧室と、この噴霧室の対向する胴入口・出
   口部にそれぞれ接続された試料溶液送液路及び
   下向きの廃液路と、この廃液路に設置された液
   面制御手段とを備え、この液面制御手段によつ
   て廃液路の液面を所定位置に制御するよう構成
   されてなる光学分析用噴霧装置。 ２ 液面制御手段が廃液路の噴霧室との接続部に
   設置されたフオトセンサーと、このフオトセン
   サーとコンローラ部を介して接続された排液ポ
   ンプとからなる実用新案登録請求の範囲第１項
   の光学分析用噴霧装置。