JPS63166932A - 鉄損の極めて低い高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
鉄損の極めて低い高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法Info
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- JPS63166932A JPS63166932A JP30926186A JP30926186A JPS63166932A JP S63166932 A JPS63166932 A JP S63166932A JP 30926186 A JP30926186 A JP 30926186A JP 30926186 A JP30926186 A JP 30926186A JP S63166932 A JPS63166932 A JP S63166932A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
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- C21D8/1294—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a localized treatment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は人為的に磁区を制御した一方向性電磁銅板、特
に歪取焼鈍を行なっても磁気特性の劣化しない超低鉄損
一方向性電磁外ｊ板の製造方法に関するものである。
に歪取焼鈍を行なっても磁気特性の劣化しない超低鉄損
一方向性電磁外ｊ板の製造方法に関するものである。
周知のようＫ、方向性電磁鋼板において近年エネルギー
節約の観点から鉄損を低減することが強く要望されてい
るが、近年における鉄損低減法の著しい進歩はレーデ−
照射にょシ磁区を細分化する特公昭５８−２６４０６号
公報に開示されている方法である。
節約の観点から鉄損を低減することが強く要望されてい
るが、近年における鉄損低減法の著しい進歩はレーデ−
照射にょシ磁区を細分化する特公昭５８−２６４０６号
公報に開示されている方法である。
該方法による鉄損の低減はレーザーにょシ導入された歪
に起因している。したがって、この鉄損低減法は歪取焼
鈍を必要としない積鉄心トランス用としては使用出来る
が歪取焼鈍を必要とする巻焼鈍済みの鋼板に局所的な熱
処理を加えて８ｏ。
に起因している。したがって、この鉄損低減法は歪取焼
鈍を必要としない積鉄心トランス用としては使用出来る
が歪取焼鈍を必要とする巻焼鈍済みの鋼板に局所的な熱
処理を加えて８ｏ。
℃以上の温度で焼なましを行ない人工的粒界を導入する
方法が開示されている。
方法が開示されている。
該方法における鉄損値の低減は鋼板に導入された人工粒
界によりｉ区側分化を図ることによって達成されるので
、この方法によれば、８００℃以上の温度で焼なましす
るため、その後の歪取シ焼鈍によシ鉄損低減効果が消失
することはないが、実施例からみる限シ上記レーザー照
射による鉄損低減方法なみの鉄損を得ることは困難であ
る。
界によりｉ区側分化を図ることによって達成されるので
、この方法によれば、８００℃以上の温度で焼なましす
るため、その後の歪取シ焼鈍によシ鉄損低減効果が消失
することはないが、実施例からみる限シ上記レーザー照
射による鉄損低減方法なみの鉄損を得ることは困難であ
る。
この他特公昭６０−１４８２７号公報では一方向性電磁
鋼板の２次再結晶粒の表面層に微細な１次再結晶粒を生
成させる方法或いは特願昭５９−２３６９７４号に示す
様な溝付ロールで加工することによって磁区を細分化し
鉄損を低減させる方法等が提案されている。
鋼板の２次再結晶粒の表面層に微細な１次再結晶粒を生
成させる方法或いは特願昭５９−２３６９７４号に示す
様な溝付ロールで加工することによって磁区を細分化し
鉄損を低減させる方法等が提案されている。
本発明は歪取焼鈍をしてもその効果が消失しない人為的
磁区制御を非接触で生産性高く製造することを狙いとす
るものである。
磁区制御を非接触で生産性高く製造することを狙いとす
るものである。
本発明は、仕上げ焼鈍済み又は絶縁被膜処理済みの鋼板
に、例えはショツトブラストにょシ金属粒を投射するか
或いは極細の高圧水を噴射して線状、点状又は破線状に
５μｍ超の凹部を形成させ、更にかかる凹部を形成した
銅板を７５０℃以上の温度で、熱処理することによシ凹
部近ぼうの歪を除去し、かつ磁区の細分化を図ろうとす
るものであシ、これによシ歪取焼鈍を行なってもレーザ
ー照射並の優れた鉄損値を示す一方向性電磁鎖板を提供
しようとするものである。
に、例えはショツトブラストにょシ金属粒を投射するか
或いは極細の高圧水を噴射して線状、点状又は破線状に
５μｍ超の凹部を形成させ、更にかかる凹部を形成した
銅板を７５０℃以上の温度で、熱処理することによシ凹
部近ぼうの歪を除去し、かつ磁区の細分化を図ろうとす
るものであシ、これによシ歪取焼鈍を行なってもレーザ
ー照射並の優れた鉄損値を示す一方向性電磁鎖板を提供
しようとするものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
８１．４％以下を含むスラブを加熱し、中間板厚まで熱
間圧延し、必要に応じてこの段階で熱処理を行ない、−
回或いは中間焼鈍をはさむ二回の冷間圧延を行なって最
終板厚にし、得られた冷延板を脱炭焼鈍し、焼鈍分離剤
を塗布した後高温長時間の仕上げ焼鈍を施し、（１１０
）（ＯＯＺＥ方位の２次再結晶粒を発達させた銅板或い
はこれに張力付与被膜等の絶縁被膜形成用コーテイング
液を塗布し、焼付けた鋼板に適用し粒状体例えば金属粒
を鋼板に投射し【点状の凹部を形成させた後７５０℃以
上の温度で焼鈍する事によって、凹部の鋼板に微細再結
晶粒を生成させて歪を除去し磁区の細分化を図るもので
ある。
間圧延し、必要に応じてこの段階で熱処理を行ない、−
回或いは中間焼鈍をはさむ二回の冷間圧延を行なって最
終板厚にし、得られた冷延板を脱炭焼鈍し、焼鈍分離剤
を塗布した後高温長時間の仕上げ焼鈍を施し、（１１０
）（ＯＯＺＥ方位の２次再結晶粒を発達させた銅板或い
はこれに張力付与被膜等の絶縁被膜形成用コーテイング
液を塗布し、焼付けた鋼板に適用し粒状体例えば金属粒
を鋼板に投射し【点状の凹部を形成させた後７５０℃以
上の温度で焼鈍する事によって、凹部の鋼板に微細再結
晶粒を生成させて歪を除去し磁区の細分化を図るもので
ある。
第１図は平均粒径０．８Ｂの金属粒を投射速度６０ｍ／
ｓｅｅで圧延方向と直角方向に線状に投射した後８００
℃、６０分の歪取焼鈍を行なった後の銅板の断面写真を
示すものである。なお投射に際してはスリット巾１．２
ｍ、スリットの間隔５Ｈの塩化ビニール製のスクリーン
を通して凹部をコントロールした。同図よシ、投射によ
シ凹部が形成され、その部分から銅板内に微細再結晶粒
が生じている事が判る。第２図囚、（Ｂ）は上記処理を
した材料Ａと処理前の材料Ｂの磁区を走査ｍ’ｔｔｔ＆
で観談じたものである。第２図（Ｂ）に比べ第２図（４
）の磁区中が格段に狭くなっている事が判る。
ｓｅｅで圧延方向と直角方向に線状に投射した後８００
℃、６０分の歪取焼鈍を行なった後の銅板の断面写真を
示すものである。なお投射に際してはスリット巾１．２
ｍ、スリットの間隔５Ｈの塩化ビニール製のスクリーン
を通して凹部をコントロールした。同図よシ、投射によ
シ凹部が形成され、その部分から銅板内に微細再結晶粒
が生じている事が判る。第２図囚、（Ｂ）は上記処理を
した材料Ａと処理前の材料Ｂの磁区を走査ｍ’ｔｔｔ＆
で観談じたものである。第２図（Ｂ）に比べ第２図（４
）の磁区中が格段に狭くなっている事が判る。
第３図は投射物によって生じた凹の深さと歪取焼鈍後の
鉄損特性の関係を示したものである。投射物には平均粒
径０．８闘のスチーレット（矩形状）を使用し投射速度
を変えて鋼板の圧延方向と直角方向に巾０．３１１１１
−０．４ ｍｚの凹部を５闘間隔に形成し、その後８０
０℃、１２０分の歪取焼鈍をしたものである。供試した
銅板板厚は０．２３ｍであシ、鉄損値Ｗ１７１５０及び
Ｗ１３１５Ｇ はそれぞれ磁束密度１．７７における
値と１．３ Ｔ Ｋおける値を示している。投射部の凹
部が５μｍ超において鉄損改善効果が大きいが、３０μ
ｍを超すとまた効果がなくなる。これは磁束密度の低下
に伴なうものと考えられる。
鉄損特性の関係を示したものである。投射物には平均粒
径０．８闘のスチーレット（矩形状）を使用し投射速度
を変えて鋼板の圧延方向と直角方向に巾０．３１１１１
−０．４ ｍｚの凹部を５闘間隔に形成し、その後８０
０℃、１２０分の歪取焼鈍をしたものである。供試した
銅板板厚は０．２３ｍであシ、鉄損値Ｗ１７１５０及び
Ｗ１３１５Ｇ はそれぞれ磁束密度１．７７における
値と１．３ Ｔ Ｋおける値を示している。投射部の凹
部が５μｍ超において鉄損改善効果が大きいが、３０μ
ｍを超すとまた効果がなくなる。これは磁束密度の低下
に伴なうものと考えられる。
との凹部は投射物体の大きさ、形状及び投射速度との組
合せで決まるものであるが投射物体に特にこだわるもの
ではない。
合せで決まるものであるが投射物体に特にこだわるもの
ではない。
なお、ことで述べる金属粒等を投射して鋼板に生じる凹
部とは投射物による痕跡群からなる凹部をさす。従って
痕跡一点一点の形状大きさに特にこだわるものではない
。高圧水によって形成される凹部は高圧水流によって局
部的に削除されるものであるが、この方法においても同
等の効果が得られるものである。
部とは投射物による痕跡群からなる凹部をさす。従って
痕跡一点一点の形状大きさに特にこだわるものではない
。高圧水によって形成される凹部は高圧水流によって局
部的に削除されるものであるが、この方法においても同
等の効果が得られるものである。
これらの凹部の最適な形状は次の通シである。
先ず圧延方向における凹部と凹部との間隔は２〜２０．
が好ましい。次に凹部の巾は３０μｍ〜１０００μｍが
良い。凹部の巾は３０μｍ未満は形成が困難であるため
最小値を３０μｍとした。
が好ましい。次に凹部の巾は３０μｍ〜１０００μｍが
良い。凹部の巾は３０μｍ未満は形成が困難であるため
最小値を３０μｍとした。
一方１０００μｍを超すと磁束密度の劣化及び占積率の
低下等品質上好ましくない。凹部の深さは鋼板地鉄部に
おいて、５μｍよシ大きくする必要がある。凹部が深く
なシすぎるど磁束密度の低下を招き好ましくない。凹部
の深さの好ましい範囲は５μｍ超、３０μｍ以下である
。凹部の方向は圧延方向に対して４５°〜９０°の方向
がよい。
低下等品質上好ましくない。凹部の深さは鋼板地鉄部に
おいて、５μｍよシ大きくする必要がある。凹部が深く
なシすぎるど磁束密度の低下を招き好ましくない。凹部
の深さの好ましい範囲は５μｍ超、３０μｍ以下である
。凹部の方向は圧延方向に対して４５°〜９０°の方向
がよい。
本発明では凹部形成後７５０℃以上の熱処理を施すが、
凹部形成後種々の熱処理を行なったときの鉄損の変化を
第４図に示す。なおこの値は板厚０．２３ｍで磁束密度
１．７ Ｔ 、周波数５０Ｈｚにおける鉄損値である。
凹部形成後種々の熱処理を行なったときの鉄損の変化を
第４図に示す。なおこの値は板厚０．２３ｍで磁束密度
１．７ Ｔ 、周波数５０Ｈｚにおける鉄損値である。
この図から≠Ｊる様に凹部形成後鉄損値は一旦悪くなる
。しかし、短時間の熱処理によシ極めて低い鉄損値を示
す。このことから、仕上げ焼鈍後投射物或いは高圧水流
等によって凹部を形成し、次いで行なう絶縁被膜処理の
焼付時の熱処理を利用して凹部の鋼中の歪を再結晶化等
によシ除去し、鉄損値を歪取焼鈍前より低減することが
可能である。この場合は歪取焼鈍を行なわない積鉄心用
トランス用素材としても使用できる。
。しかし、短時間の熱処理によシ極めて低い鉄損値を示
す。このことから、仕上げ焼鈍後投射物或いは高圧水流
等によって凹部を形成し、次いで行なう絶縁被膜処理の
焼付時の熱処理を利用して凹部の鋼中の歪を再結晶化等
によシ除去し、鉄損値を歪取焼鈍前より低減することが
可能である。この場合は歪取焼鈍を行なわない積鉄心用
トランス用素材としても使用できる。
以下実施例について述べる。
実施例１
板厚０．２３ ｍｍの張力コーティングを施しだ高磁束
密度一方向性電磁銅板に巾１朋、間隔５關のスリットを
有する塩化ビニル製のスクリーンを通してショツトブラ
ストにより平均粒径０．７間のスチーレットを投射した
。投射後の凹部の巾は３００μｍであシ深さは略々２０
μｍであシ溝の方向は圧延方向と直角方向であった。
密度一方向性電磁銅板に巾１朋、間隔５關のスリットを
有する塩化ビニル製のスクリーンを通してショツトブラ
ストにより平均粒径０．７間のスチーレットを投射した
。投射後の凹部の巾は３００μｍであシ深さは略々２０
μｍであシ溝の方向は圧延方向と直角方向であった。
この後リン酸アルミニ↓ウムと無水クロム酸を主成分と
したコーテイング液を塗布した後焼付け８００℃、１２
０分の歪取焼鈍を行なった。処理後の磁気特性は次の通
シである。
したコーテイング液を塗布した後焼付け８００℃、１２
０分の歪取焼鈍を行なった。処理後の磁気特性は次の通
シである。
表１
実施例２
板厚０．２０ ｍｍの仕上げ焼鈍済みの鋼板に平均粒径
０．６ ｍｍのスチールショットをスリット巾１．０．
、スリット間隔ｓｍｉ％スリット方向：圧延方向と直角
を有するスクリーンを通して投射した。投射後の凹部の
巾は２００μｍであシ平均深さは１５μｍであった＠ 比較のために同一素材から処理を行なわないものを準備
した。これらの材料にリン酸アルミニウム、無水クロム
酸を主成分とするコーテイング液を塗布し８５０℃、３
０秒の焼付は焼鈍をした。
０．６ ｍｍのスチールショットをスリット巾１．０．
、スリット間隔ｓｍｉ％スリット方向：圧延方向と直角
を有するスクリーンを通して投射した。投射後の凹部の
巾は２００μｍであシ平均深さは１５μｍであった＠ 比較のために同一素材から処理を行なわないものを準備
した。これらの材料にリン酸アルミニウム、無水クロム
酸を主成分とするコーテイング液を塗布し８５０℃、３
０秒の焼付は焼鈍をした。
その後８００℃、１２０分の歪取焼鈍をした。磁気特性
は次の通シである。
は次の通シである。
表２
□
実施例３
仕上焼鈍後の鋼板（板厚０．２３ ｍｍ ）に水流噴射
の方法によシ鋼板面上圧延方向に対して７０’の方向に
６朋の間隔で線状の凹部を形成させた。すなわち、水に
少量の水溶性樹脂を混入した糸引性の粘性流体を０．２
５ ｙｕｎ径のノズルから６０００ ｋｇ／ｉの高圧で
噴射させながら銅板を掃引させることによシ、その衝撃
エネルギーを利用して巾約７００μｍ、平均深さ約１０
μｍの溝を導入したものである。然る後、鋼板に次のコ
ーテイング液を両面に片面当シ４ｇ／−塗布した。コー
テイング液はコロイド状シリカ、リン酸アルミニ募つム
、無水クロム酸を主成分とするものである。塗布後鍋板
は８５０℃、３０秒の焼鈍を行ないコーティングの焼付
けと鋼板の形状矯正を行なった。
の方法によシ鋼板面上圧延方向に対して７０’の方向に
６朋の間隔で線状の凹部を形成させた。すなわち、水に
少量の水溶性樹脂を混入した糸引性の粘性流体を０．２
５ ｙｕｎ径のノズルから６０００ ｋｇ／ｉの高圧で
噴射させながら銅板を掃引させることによシ、その衝撃
エネルギーを利用して巾約７００μｍ、平均深さ約１０
μｍの溝を導入したものである。然る後、鋼板に次のコ
ーテイング液を両面に片面当シ４ｇ／−塗布した。コー
テイング液はコロイド状シリカ、リン酸アルミニ募つム
、無水クロム酸を主成分とするものである。塗布後鍋板
は８５０℃、３０秒の焼鈍を行ないコーティングの焼付
けと鋼板の形状矯正を行なった。
上記の方法で得られた材料の磁気特性と凹部形成を行な
わなかった材料の磁気特性を次に示す。
わなかった材料の磁気特性を次に示す。
８６ｍ Ｗ２Ｂ、１０（ｗ／’＃） Ｗｌｌ（１（ｖ’
ｋｙ）本発明材（凹部形成） １．９２Ｃ’ ０．
４１ 、 ０．８０比較材（凹部なし）１．９４
５ ０．４８ ０．８８〔発明の効果〕 この発明は、以上述べたように構成しかつ、作用せしめ
るようにしたから、歪取焼鈍をおこなっても、磁区制御
効果を喪失することのない低鉄損の方向性電磁鋼板を、
非接触的な磁区細分化手段で高生産性下に製造し得る効
果を奏する。
ｋｙ）本発明材（凹部形成） １．９２Ｃ’ ０．
４１ 、 ０．８０比較材（凹部なし）１．９４
５ ０．４８ ０．８８〔発明の効果〕 この発明は、以上述べたように構成しかつ、作用せしめ
るようにしたから、歪取焼鈍をおこなっても、磁区制御
効果を喪失することのない低鉄損の方向性電磁鋼板を、
非接触的な磁区細分化手段で高生産性下に製造し得る効
果を奏する。
第１図は鋼板の凹部断面と微細再結晶粒を示す金属顕微
鏡組織写真。 第２図曽〒僻は処理後及び処理前の磁区を示す金属顕微
鏡組織写真、 第３図は素材の凹部深さと鉄損の関係を示すグラフ、 第４図は処理履歴と鉄損の関係を示すグラフである。 第３図 直 後 第４図 手続補正書（自発） 昭和６２年２月：Ｌｅ日 特許庁長官 黒 １）明 雄 殿 １、事件の表示 昭和６１年特許願第３０９２６１号 ２、発明の名称 鉄損の極めて低い高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方
法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称（６６５）新日本製鐵株式会社 ４、代理人 住所 〒１０５東京都港区虎ノ門−丁目８番１０号５、
補正の対象 （１）明細書の「発明の詳細な説明」の欄（２）図面（
第４図） ６、補正の内容 （１）発明の詳細な説明 （イ）明細書第５頁第２０行の’ ０．３ ｍｍ〜０．
４ ＋ｎｍ 」を「３００μＩ１１〜４００μ哨」に訂
正する。 （ＩＩ＋）明細書第８頁第１４行の「塗布した後焼付け
」を「塗布した後、焼付け、」に訂正する。 （ハ）明細書第１０頁第１８行から第２０行を以下のよ
うに訂正する。 」 （２）図面（第４図）を別紙のように補正する。 ７、添付書類の目録
鏡組織写真。 第２図曽〒僻は処理後及び処理前の磁区を示す金属顕微
鏡組織写真、 第３図は素材の凹部深さと鉄損の関係を示すグラフ、 第４図は処理履歴と鉄損の関係を示すグラフである。 第３図 直 後 第４図 手続補正書（自発） 昭和６２年２月：Ｌｅ日 特許庁長官 黒 １）明 雄 殿 １、事件の表示 昭和６１年特許願第３０９２６１号 ２、発明の名称 鉄損の極めて低い高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方
法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称（６６５）新日本製鐵株式会社 ４、代理人 住所 〒１０５東京都港区虎ノ門−丁目８番１０号５、
補正の対象 （１）明細書の「発明の詳細な説明」の欄（２）図面（
第４図） ６、補正の内容 （１）発明の詳細な説明 （イ）明細書第５頁第２０行の’ ０．３ ｍｍ〜０．
４ ＋ｎｍ 」を「３００μＩ１１〜４００μ哨」に訂
正する。 （ＩＩ＋）明細書第８頁第１４行の「塗布した後焼付け
」を「塗布した後、焼付け、」に訂正する。 （ハ）明細書第１０頁第１８行から第２０行を以下のよ
うに訂正する。 」 （２）図面（第４図）を別紙のように補正する。 ７、添付書類の目録
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、仕上げ焼鈍済み又は仕上焼鈍後絶縁被膜処理した方
向性電磁銅板の表面に金属粒、合成樹脂等の粒状体或い
は高圧水を投射又は噴射して圧延方向に対し、直角から
４５°の範囲内で間隔が圧延方向に２〜２０ｍｍ、巾が
３０μｍ〜１０００μｍ、地鉄部分の深さが５μｍ超３
０μｍ以下の凹部を線状に形成し、次いで７５０℃以上
の温度で熱処理することを特徴とする鉄損の極めて低い
高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法。 ２、電磁鋼板の表面に絶縁被膜処理を施す特許請求の範
囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30926186A JPS63166932A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | 鉄損の極めて低い高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30926186A JPS63166932A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | 鉄損の極めて低い高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63166932A true JPS63166932A (ja) | 1988-07-11 |
Family
ID=17990865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30926186A Pending JPS63166932A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | 鉄損の極めて低い高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63166932A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0409385A1 (en) * | 1989-07-19 | 1991-01-23 | Allegheny Ludlum Corporation | Method for domain refinement of oriented silicon steel by low pressure abrasion scribing |
| KR100259990B1 (ko) * | 1993-12-28 | 2000-06-15 | 에모또 간지 | 철손이 적은 일방향성 전자강판 및 제조방법 |
| JP2007308770A (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Jfe Steel Kk | 低鉄損方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
| JP2013510239A (ja) * | 2009-12-04 | 2013-03-21 | ポスコ | 低鉄損高磁束密度の方向性電気鋼板 |
-
1986
- 1986-12-27 JP JP30926186A patent/JPS63166932A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0409385A1 (en) * | 1989-07-19 | 1991-01-23 | Allegheny Ludlum Corporation | Method for domain refinement of oriented silicon steel by low pressure abrasion scribing |
| KR100259990B1 (ko) * | 1993-12-28 | 2000-06-15 | 에모또 간지 | 철손이 적은 일방향성 전자강판 및 제조방법 |
| JP2007308770A (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Jfe Steel Kk | 低鉄損方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
| JP2013510239A (ja) * | 2009-12-04 | 2013-03-21 | ポスコ | 低鉄損高磁束密度の方向性電気鋼板 |
| JP2015092028A (ja) * | 2009-12-04 | 2015-05-14 | ポスコ | 低鉄損高磁束密度の方向性電磁鋼板 |
| JP2015117435A (ja) * | 2009-12-04 | 2015-06-25 | ポスコ | 低鉄損高磁束密度の方向性電磁鋼板 |
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