JPS63164934U - - Google Patents

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JPS63164934U
JPS63164934U JP5891887U JP5891887U JPS63164934U JP S63164934 U JPS63164934 U JP S63164934U JP 5891887 U JP5891887 U JP 5891887U JP 5891887 U JP5891887 U JP 5891887U JP S63164934 U JPS63164934 U JP S63164934U
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JP
Japan
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vacuum
vacuum container
bellows
movable member
hole
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JP5891887U
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  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はこの考案の一実施例による真空装置を
示す断面図、第２図はこの考案の他の実施例によ
る真空装置を示す断面図、第３図は従来の真空装
置を示す断面図である。 図において、１は真空容器、２は可動部材、３
は駆動源、６ａは大径ベローズ、６ｂは小径ベロ
ーズ、７はフランジ、８は流体源である。なお図
中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 内部に配置された可動部材を外部から駆動
    するための穴が設けられた真空容器、この真空容
    器の穴を取り囲んで真空容器から外側方向に向つ
    て延在する径の異なる２個のベローズ、この２個
    のベローズの先端に上記真空容器の穴と対向して
    気密に固着され２個のベローズ間に密室を形成す
    るとともに上記真空容器の穴を封止しかつ上記可
    動部材を保持し上記真空容器の外部の駆動源によ
    り駆動されるフランジ、上記２個のベローズ間の
    密室に流体を導入して上記流体の圧力を制御して
    上記フランジを駆動する力を一定にする流体源を
    備えた真空装置。 (2) 真空容器は被処理物を搬入・搬出するため
    のロードロツク室と被処理物を処理するための真
    空処理室を備えていることを特徴とする実用新案
    登録請求の範囲第１項記載の真空装置。 (3) 可動部材は真空容器のロードロツク室と真
    空処理室の間に開閉可能に設けられたゲートバル
    ブであることを特徴とする実用新案登録請求の範
    囲第２項記載の真空装置。 (4) 可動部材は真空容器内で被処理物を乗せて
    昇降するテーブルであることを特徴とする実用新
    案登録請求の範囲第１項または第２項記載の真空
    装置。 (5) 流体はエアーであることを特徴とする実用
    新案登録請求の範囲第１項ないし第４項のいずれ
    かに記載の真空装置。
JP5891887U 1987-04-17 1987-04-17 Pending JPS63164934U (ja)

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JP5891887U JPS63164934U (ja) 1987-04-17 1987-04-17

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JP5891887U JPS63164934U (ja) 1987-04-17 1987-04-17

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JPS63164934U true JPS63164934U (ja) 1988-10-27

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