JPS63160287A - フアブリペロ−エタロンを備えるエキシマレ−ザ−装置 - Google Patents

フアブリペロ−エタロンを備えるエキシマレ−ザ−装置

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JPS63160287A
JPS63160287A JP61306995A JP30699586A JPS63160287A JP S63160287 A JPS63160287 A JP S63160287A JP 61306995 A JP61306995 A JP 61306995A JP 30699586 A JP30699586 A JP 30699586A JP S63160287 A JPS63160287 A JP S63160287A
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Japan
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fabry
light
perot etalon
wavelength
excimer laser
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Application number
JP61306995A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Shirasu
廣 白数
Yutaka Ichihara
裕 市原
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Publication of JPS63160287A publication Critical patent/JPS63160287A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/136Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/137Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、レーザー光を発振するエキシマレーデ−装置
に関し、特に所定の発振波長を中心とした狭帯域の波長
幅のレーザー光を発振するファブリペローエタロンを備
えるエキシマレーザ−装置に関する。
(従来技術) 従来、エキシマレーザ−装置にあっては、レーザー光の
発振波長幅を所定の発振波長を中心とした狭帯域に光エ
ネルギー(光量)を集中させるため共振器中に回折格子
やファブリペローエタロンを挿入設置する方法が用いら
れている。
ところで、回折格子を用いる方法は一般に光量の損失が
大きいことから、特に高エネルギー出力光を必要とする
場合、例えば半導体露光装置用光源として用いるエキシ
マレーザ−装置では不利である。そこで、そのような場
合は光量の10失の少ないファブリペローエタロンを用
いることが望ましい。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、ファブリベローエタロンを共振器に挿入
して設置し、所定波長におけるレーザー光の発振波長幅
を狭帯域化する方法にあっては、光mのJfi失が少な
いという利点が得られるものの、温度、気圧、機械的歪
等の変化によりレーザー発振波長く中心波長fi& )
や狭帯域化した波長幅が変化する即ち出力が不安定にな
るという欠点を有していた。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたも
ので、温度、気圧、機械的歪等が変化しても、ファブリ
ペローエタロンによる所定の波長を中心に狭帯域化した
レーザ光の発振波長および波長幅が変動せずに安定した
レーデ−光を発振することのできるエキシマレーザ−装
置を提供することを目的とする。
この目的を達成するため本発明にあっては、共振器中に
77ブリペローエタロンを挿入してレーザーの発振波長
を所定の値を中心とした狭帯域に制限するエキシマレー
ザ−装置に於いて、光源を備え、該光源の光(安定光)
をファブリペローエタロンの周辺部に導入して透過させ
、ファブリペローエタロンの中央部をエキシマレーザ−
光に対し狭帯域フィルタとして動かせると同時に周辺部
を安定光に対し狭帯域フィルタとして働くように構成す
る。更にファブリペローエタロンにおける鏡面間隔、平
行度及び光路長を可変できるようにした駆動装置を設け
、制御装置によってファブリペローエタロンの周辺部を
透過した安定光の受光出力に基づいてエタロン鏡面間隔
、平行度及び光路長を所定の値に維持するように前記駆
動装置を制御するようにしたものである。
(作用) このような本発明の構成によれば、ファブリペローエタ
ロンの周辺部に導いた安定光の透過率を最大とするよう
にエタロン鏡面間隔が制御されることから、エタロン中
央部を通る所定波長を中心に狭帯域化されたエキシマレ
ーザ光の透過率も最大となるように制御され、温度、気
圧、機械的歪等が変化してもファブリペローエタロンの
鏡面間隔、平行度及び光路長を所定値に維持してレーザ
光の中心波長が変動せず、且つ狭帯域化された波長幅も
変動することのない安定したレーザー光を発振すること
ができる。
(実施例) 第1図は共振器内に77ブリペローエタロンを挿入して
発振波長を狭帯域化したエキシマレーザ−装置の概略を
示した説明図である。
第1図において、1a、1bは所定間隔を介して平行配
置されたレーザー共振器の共振ミラーであり、オシレー
タ4より発光した光は共振ミラー1a、”Ib間を往復
する間にオシレータ4の内部で増幅されエキシマレーザ
−光5を外部に発]辰する。
このとき発振されるエキシマレーザ−光の波長スペクト
ラム分布は第2図(C)の2点鎖線で示すスペクトラム
分イ56の如くである。
そこで発振波長幅を所望波長を中心として狭くするため
共振ミラー1aと1bの間に、この実施例にあっては2
組のファブリペローエタロン2及び3を挿入し、ファブ
リペローエタロン2,3によって共振ミラー1a、1b
間を往復する特定波長以外のエキシマレーザ−光の損失
を大きくしてレーザー発振を阻止することで、特定波長
域のエキシマレーザ−光のみの発振を行なわせる。
ここで、ファブリペローエタロン3のみを挿入したとき
の波長スペクトラムで表わされる透過率は第2図(a)
に示すようになる。
即ち、ファブリペローエタロン3の第2図(a)に示す
波長透過率を示す波長スペクトラムの特性は、ファブリ
ペローエタロン3における鏡面間隔をd、鏡面間の屈折
率をn、光の波長をλとしたとき、 2nd=mλ     ・・・(1) 但し、n:屈折率 d:v1面間隔 λ:光波長 m:整数 を満たす波長λに対しファブリペローエタロン3の透過
率が大きくなるため、ファブリペローエタロン3のみを
挿入した場合には第2図(a)に示すように、Δλの間
隔で複数の中心波長をもったエキシマレーザ−光が発振
することになる。
一方、第1図にあっては、ファブリペローエタロン3に
加えて鏡面間隔を更に狭めたファブリペローエタロン2
を挿入しており、ファブリペローエタロン2はファブリ
ペローエタロン3に対し鏡面間隔が更に小さいことから
、ファブリペローエタロン2のみを挿入したときの波長
スペクトラムは第2図(b)に示すようになり、波長間
隔Δλが広くなる。
このようなファブリペローエタロン2,3の波長透過率
から第1図のように2相のファブリペローエタロン2,
3を挿入した場合には、ファブリペローエタロン2,3
を透過する光の透過率は第2図(C)の波長スペクトラ
ムで実線で示すようになり、レーザーの発振範囲を示す
スペクトル6内では所定の単一波長の中心波長λ0のみ
のレーザー光が発振され、これによってレーザー発振波
長を所定波長λOを中心とした±δλ/2の範囲に狭帯
域化することができる。
ところで、ファブリペローエタロンの透過中心波長は前
記第(1)式に示したように、鏡面間隔dが温度または
ノアプリペローエタロンを共振器内に保持する力の変化
により変動したり、鏡面間屈折率nが温度や大気圧の変
動に伴って変化すると、最大透過率を与える中心波長λ
Oが変化する。
また、最大透過率が得られる中心波長がファブリペロー
エタロン2と3の間で異なると、第2図(a)(b)に
点線で示すようにレーザー発振中心波長が変化し、その
ためファブリペローエタロン3及び2の合成結果として
得られる第2図(C)の透過中心波長λOが点線で示す
ように変化し、出力光m自体も小さくなる。
更に、ファブリペローエタロン2,3におtプる鏡面間
の平行度が悪化すると、透過波長λOを中心とした波長
幅Δλが大きくなる。
このようにエキシマレーザ−装置における狭帯域発振特
性を安定に維持するためには、各77ブリペローエタロ
ン2,3の鏡面間隔の平行度及び鏡面間隔と屈折率の積
で与えられる光路長を所定値に維持しなければならない
第3図はレーザー発振波長及びその幅を安定化するため
の本発明の一実施例を示した説明図である。
第3図において、7はファブリペローエタロンであり、
一対のミラー7aと7bを所定間隔dを介して支持して
おり、ミラー7aと7bとの間には鏡面間隔dを変化さ
せる駆動手段としての駆動素子Pi 、P2 、P3が
設けられる。この駆動素子P1〜P3としては、例えば
ピエゾ素子が用いられ、第3図(b)に示すように77
・プリペローエタロン7の周辺部の3箇所に等間隔で設
けられている。
ファブリペローエタロン7にお(ブる中央部のA部はエ
キシマレーザ−波長λOに対し狭帯域フィルタとなって
おり、周辺部の3箇所の81.B2及び83部は)1プ
リペローエタロン7を安定化するために使用するファブ
リペローエタロンの位置、傾き等を−〔ニターするため
のモニター光の波長λ1 (エキシマレーザ−波長λO
と干渉しない波長)に対し狭帯域フィルタとなっている
。波長λ1の安定光は安定光用光源12より出力され、
モニター用光源12としては、例えばHe−Neレーザ
ーが使用され、光ファイバー等を用いたライトガイド1
1によりファブリペローエタロン7における周辺部の3
箇所に形成された°Eニター光透過部Bl 、B2.8
3の3箇所に導かれ、照明レンズ8によりファブリペロ
ーエタロン7の周辺部に形成された31.32.33部
のそれぞれを通り集光レンズ9、更にピンホール10を
経て検出器DI 、D2 、D3で電気信号に変換され
る。
ここで、モニター光のファブリペローエタロン7に対す
る光軸はフン7ブリベローエタロン7の法線に対し図示
のようにθだけ傾けるようにしている。このモニター光
の光軸をθだcノ傾けると前記第(1)式で与えられる
透過率は、 2 n d cos  θ=mλ1     −−−(
2>但し、θ:安定光の入射角 を満足する波長λ1に対し最大となる。
よって、エキシマレーザ−光の中心波長をλO1安定光
の中心波長をλ1としたとき傾斜角θを、θ=cos−
’ (N ・”λo /nλ1 ) ・(21720月
・・ ・ (3) 但し、λO:エキシマ中心波長 λ1 :安定光中心波長 nλ0:λOの空気屈折率 nλ1 :λ1の空気屈折率 N:モニター光中心波長とエキシマ中心波長の次数(2
式のm)の比 に設定することにより、鏡面間隔dが変化したときに7
7ブリペローエタロン7に対する中心波長λOのエキシ
マレーザ−光及び中心波長λ1の安定光の透過率が同時
に最大となる。従って、安定光の透過率を常時最大とな
るように駆動素子P1〜P3を制御することにより、■
キシマレーグー光に対しファブリペローエタロン7の透
過率を最大に維持することができ、その結果、ファブリ
ペローエタロンにおける鏡面間隔d、平行度及び光路長
を所定値に維持する安定状態が得られる。
第5図は第3図に示した駆動素子P1〜P3を制御する
ための制御回路の一実施例を示したブロック図である。
第5図において、D1〜D3は7戸ブリペローエタロン
7に導入された安定光を受光する受光素子であり、受光
素子D1〜D3の受光出力はアンプ17a、17b、1
7Gのそれぞれで増幅されて同期検波回路16a、16
b、16cに入力される。
一方、15a、15b、15Gは駆動素子P1〜P3に
対応して設けた発振器であり、発振器15a〜15Cの
出力El、E2.E3L;!、となり、各発振出力は各
々位相が120°づつずれている。
発振器15a〜15Gの出力は同期検波回路16a〜1
6cに与えられており、アンプ17a〜17Cから得ら
れた受光素子D1〜D3の受光出力を同期検波すること
で直流分S1.S2.83が出力される。
同期検波回路16a〜16cの出力S1〜S3は加算器
14a、14b、14cにおいて、それぞれ後の説明で
明らかにする所定の重みづけをもッテ加算すレ、積分器
18a、18b、18cのそれぞれを介して加算器19
a、19b、19cに与えられることで発振器158〜
15Gの出力に加え合わされ、高圧アンプ13a、13
b、13Cを介して駆動素子Pi 、P2 、P3に対
して供給される。
次に、第5図の実施例による制御動作を説明すると次の
ようになる。
駆動素子P1〜P3は、高圧アンプ13a〜13Cによ
って駆動され、駆動アンプ13a〜13G(7)出力E
10〜E30は発振器15a〜15cの発振出力に受光
素子D1〜D3からフィードバックされたDC電圧を重
畳した信号となる。
その結果、駆動素子P1〜P3は発振器15a〜15c
の発振出力を受けて微小振幅で各々120°の位相差を
もって撮動されることになる。
ここで、駆動素子pi 、 p2 、 pHの3の厚み
をdl、d2.d3.とすると、 となる。ここで、Δdは発娠出力による厚み変化分、d
oは最大透過率が得られる厚み、△旧〜Δd3は外乱に
よる変動分である。
従って、第3図に示したファブリペローエタロン7にお
けるモニター光を導入した駆動素子P1 。
P2 、P3のそれぞれの間に位置する81 、82 
83部の間隔dB1. dB2. dB3は、・・・(
7) となる。
ここで、発振器の発掘出力により微小振動を受けたファ
ブリペローエタロン7における任意の81部に設けた受
光素子Di部からのモニター光の受光出力は第4図(a
)に示すようになる。
即ち、3i部の間隔dBiは、 dBi=Δdsinωt+Δd′Ij +do  −−
−(8)のとき受光素子Diは微小振幅で変調された透
過光に比例した出力電流Iを生ずる。この受光素子Di
の受光出力となる変調信号の交流成分は、中心波長λ1
の安定光につき最大透過率が1qられる厚みdoに対し
く−)側にΔdBiがあるときは、即らdBi<doの
とき同相信号となる。またΔdBi=O1即ちdBi=
’doにあるときには周波数が2イ8となり、更に図示
のように厚みdBiがdoに対しく+)側に位置すると
き、即ちdBi>doのときには位相が反転する。
そこで、第4図(a)に示す特性に従って得られる受光
素子Diからの変調信号を微小振動を与える発振信号に
より同期検波すると、同期検波出力3iは第4図(b)
に示すような曲線を描く。
即ち、ファブリペローエタロンのモニター光に対する透
過率が最大となるΔd Bi= O1即ちdBi=do
の近傍で同期検波出力5i=Oとなり、Δd Bi= 
Qを中心に鏡面間隔が増加すると(dBi>do)、Δ
dBiの増加に応じて同期検波出力3iは略直線的に減
少し、逆にΔdBiが減少して鏡面間隔が狭まると(d
Bi<do)、ΔdBiに略直線的に比例して同期検波
出力Siは増加するようになる。
よって、受光素子Di 、D2 、D3の出力を増幅器
17a、17b、17Cで増幅した後、それぞれに対応
した発振器15a、15b、15Cの発振出力により同
期検波された信号を各々31゜32.33とすると、駆
動素子PI 、 P2 、 P3の微小振動分を除いた
厚みの変化分Δdl、Δd2、Δd3のそれぞれは(7
)式で、八dBi→S1、Δd82等32.ΔdB3与
83より、で表すことができる。
ここで、加咋器14a、14b、14cにおける加篩用
みをA=± 8=−−2−C=斗とすると、3’   
     3’      i加算器14a、14b、
14cの出力は前記第(6)式で与えられるΔdl 、
d2 、d3に略比例し、且ぢ逆符号となる。そこで積
分器18a。
18b、18Gを介して駆動索子P1 、 P2 、 
P3に積分器の出力を帰還したとぎ、例えば△d1につ
いてみると、Δd1が増加すれば積分器1.4aに対す
る加惇器14aの出力はく−)側に増加して積分器1/
faの出力が減少し、駆動素子P1の厚みを減するよう
に駆動する。逆にΔd1が減少すれば加算器14aの出
力は(+)側に増加して積分器18aの出力が増加し、
駆動素子P1の厚みを増加させるように駆動する。その
結果、駆動素子P1の厚みdlはdi =doになるよ
うに制御される。このような駆動素子の制御は他の駆動
素子P2.P3についても同様である。
そして、駆動素子P1〜P3の厚みd1〜d3はそれぞ
れdoになるように制御されると、このときの7アプリ
ペローエタロン7の鏡面間隔は平行で且つ中心波長λO
のエキシマレーザ−光に対し透過率が最大となる。また
、駆動索子P1〜P3の制御信号を得るための発成器1
5a〜15Gによる微小撮動の位相が120°毎に異な
るため、ファブリペローエタロン7の中央部となるA部
の振動は略零となり、微小信号によりエキシマレーザ−
光が変調されることはない。
第6図はファブリペローエタロンの安定化に用いる本発
明の制御回路の他の実施例を示したブロック図である。
この第6図の実施例にあっては、モニター光の透過率が
ファブリペローエタロン鏡面の周辺部の少なくとも3箇
所で同時に最大になるように駆動素子P1〜P3を制御
し、更に安定光の透過率が最大となる鏡面間隔位置より
推測される所望の1キシマレーザー波長の透過率が最大
となる駆動位置を検出してレーザー発振のトリガ信号を
出力するようにしたことを特徴とする。
そこで第6図の実施例をその作用と共に説明すると、次
のようになる。
まず、20は調波電圧発生器であり、調波電圧発生器2
0からの調波信号は受光素子D1〜D3からフィードバ
ックされるDC電圧に加算器19a〜19Cで重畳され
、高圧アンプ13a〜13Cにより増幅された後、駆動
索子P1〜P3に印加される。
このため初期段階にあっては、駆動素子P1〜P3の厚
みの変化は、例えば第7図(a)に点線2って示すよう
に、実線で示す調波信号30に対し緩かなドリフト分を
もって変化するようになる。
ここで、第5図の実施例の場合と同様、各駆動素子P1
〜P3の厚みd1〜d3を、 とすると、第3図に示したファブリペローエタロン7に
おける安定光を透過する31 、 [32、33部の間
隔dB1. dB2. dB3のそれぞれは、・ ・ 
・ (11) となる。
ここで、第3図に示すモニター光をファブリペローエタ
ロン7に導入する傾斜角θについてθ=O°とした場合
を例にとって説明すると次のようになる。
まずモニター光の中心波長λ1に対し前記第(1)式を
満足するフッ・プリペローエタロン7の間隔をdoとす
ると、ファブリペローエタロン81部の間隔dBiは、 cJBi−△d−1−+do+ΔdBi  ・・・(1
2)となり、第7(a)図の破!29で表わされる。
このファブリペローエタロンの3i部に対する受光素子
Diの出力は、第7図(a)の信号波形32に示すよう
に、安定光の透過率が最大となるファブリペローエタロ
ンの3i部の間隔doに対応する時刻し1において最大
となり、この時刻tiは調波信号30の立上がりからの
経過時間T=1’−iのタイミングとなる。
そこで、第6図の実施例にあっては、ファブリペローエ
タロンの81 、B2.83部のそれぞれに対応する受
光素子DI 、D2 、D3で1qられた受光出力を増
幅器17a、17b、17cで増幅した後、ピーク検出
器23a、23b、23cのそれぞれにより最大値が得
られるtta波信号30の立上がりからT=T 1時間
を経過した時刻tiのタイミングでピークパルスの検出
出力を生ずるっピーク検出器23a〜23cの出力は各
々ゲート回路28a〜28cを介してゲート回路21 
a〜21Cのゲートパルスとなる。尚、ゲート回路28
a〜28cは調波信号の戻り部分、即ら第7図(a)に
おけるb部のパルスを除去するために設Gノでいる。
一方、ゲート回路21a〜21Cには減紳器22の出力
が与えられており、減算器22は調波信号発生器20か
らの速波信号に所定のバイアス電圧を加え、第7図(a
)に示すように速波信号30を時刻toにおいて零電圧
となるようにしている。そのためゲート回路21a〜2
1Cのそれぞれは減算器22からの速波信号30をピー
ク検出器23a〜23Cから得られたピークパルス31
で切り出したパルス33を出カブる。このようにゲート
回路21a〜21Gで切り出されたパルス33は第7図
(a)から明らかなように、パルス33の高さが厚み変
化ΔdBiと逆符号で振幅がΔdBiに比例した大きさ
を持つ。そこでゲート回路21a〜21Gで切り出され
たパルス33をピークホールド回路24a〜24Cのそ
れぞれでΔdBiに比例した大きざの電圧として保持し
、このピークホールド回路24の出力を31.S2 、
S3とすると、第(11)式より、 ・ ・ ・ (13) で表される。ここで、第5図の実施例の場合と同様、駆
動素子P1〜P3の撮動分を除いた厚みの変化分Δdl
、Δd2.Δd3のそれぞれは、として求めることがで
きる。
そこで、加算器14a、14b、14Cの1ノロ樟重み
Δ、8.Cを各々A=−ユ B=i  C=ヱ3’  
    3’      3 とすると、加p器14a〜14Gの出力は前記第(14
)式で与えられるΔdl、Δd2.Δd3に比例し、且
つ逆符号となることから、積分器188〜18cを介し
て駆動素子P1〜P3にその出力を帰還したとき、例え
ば駆動素子P1を例にとると、Δd1が増加すれば、加
眸器14aの出力が負に増加し、このため積分器18a
の出力が減少し、駆動素子P1の厚みを減少するように
なる。逆に、Δd1が減少すれば加算器14aの出力は
正に増加し、積分器18aの出力が増加して駆動素子P
1の厚みをふやすようになる。結局、駆動素子P1の厚
みの変化分Δd1をΔdi =Q、即ち駆動素子P1の
厚みが安定光に対し最大透過率を与える厚みdoと等し
くなるように制御される。このときファブリペローエタ
ロンの鏡面間隔は平行となっており、最終的に第7図(
b)に示すよう1こ速波信号30の立上がりからTe時
間経過で71ブリペローエタロンの間隔がモニター光の
中心波長λ1に対し透過率が最大となる間隔dOに達す
るように走査時間Tに比例して駆動される安定化の制御
状態に至る。
一方、エキシマレーザ−光の中心波長λ0に対し前記第
(1)式を満足するエタロン間隔をdeとすると、第7
図(b)に示す安定化の制御状態でエタロン間隔deが
得られる速波信号30の立上がりからTe時間経過の時
刻teのタイミングでトリガ発生器25よりエキシマレ
ーザ−にトリガ信号を発生すれば、エキシマレーザ−パ
ルスのパルス幅はファブリペローエタロンの間隔走査速
度に比べて充分短いことから、時刻teにおいてエキシ
マレーザ“−は中心波長λOで発振する。
更に、第6図の実施例にあっては、ピークホールド回路
24a〜24bの出力を加算器26で汀線した後、ウィ
ンドコンパレータ27に入力し、ピークホールド回路2
4a、24bの出力がすべて零となったとき、即ちモニ
ター光に基づく鏡面間隔の安定化の制御状態にあるとき
にのみ、アンドゲート28を許容状態としてトリガ発生
器25からのエキシマレーザ−トリガ信号を発生できる
ようにしている。
また、第6図の実施例は第3図に示す−しニター光の傾
斜角θ=O°の場合を例にとるものであったが、第5図
の実施例と同様、前記第(2)式を満たすように安定光
を入射し、エキシマレーザ−のトリガパルス32を安定
光の中心波長λ1において最大透過率が得られる時刻t
oのタイミングで発生するようにしてもよい。
(発明の効果) 以上説明してきたように本発明によれば、共振器中に7
1ブリペローエタロンを挿入してエキシマレーザ−光の
発振波長幅を狭くしたエキシマレーザ−装置において、
レーザーと別光源からの同じ又は異なる波長域のモニタ
ー光を用いてファブリペローエタロンを、温度、気圧、
機械的歪等の変化を受けても所望のレーザー発掘波長(
中心波長)における最大透過率を維持する如く制御する
ようにしたので、外乱により発振波長及び狭帯域化した
波長幅の変動を起こすことなく、安定したエキシマレー
ザ−光の発振出力を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はファブリペローエタロンを備えたエキシマレー
ザ−装置の概略を示した説明図、第2図はレーザー発掘
波長及びファブリペローエタロンによる波長の狭帯域化
を示した説明図、第3図は本発明の71ブリペローエタ
ロンに対する安定光の導入及び駆動機構を示した説明図
、第4図はファブリペローエタロンの微小振動による安
定光の変調特性と変調信号の同期検波出力を示した特性
グラフ図、第5図は本発明の制御回路の一実施例を示し
たブロック図、第6図は本発明の制御回路の他の実施例
を示したブロック図、第7図は第6図の制御回路による
ファブリペローエタロンの駆動制御による各部の信号波
形を示したタイムヂャートである。 la、1b:共振ミラー 2.3,7:フ7ブリペローエタロン 4:オシレータ 5:レーザー発搬出力 8:照明レンズ 9:集光レンズ 10:ピンホール 11ニライトガイド 12:モニター光用光源 P1〜P3:駆動素子 D1〜D3:受光素子 13a〜13C:高圧アンプ 14a〜14C:加算器 15a〜15C:発振器 168〜16C二同期検波回路 17a〜17C:増幅器 188〜18C:積分器 19a〜19C:加算器 20:調波信号発生器 21a〜210.28a 〜28C:ゲート回路22:
減暮器 23a〜23C:ピーク検出器 24a〜24C:ピークホールド回路 25ニトリガ発生器 26:加算器 27:ウィンドコンパレータ 28:アンドゲート

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)共振器中にフアブリペローエタロンを挿入してレ
    ーザー発振波長を、所定の波長を中心とした狭帯域とす
    る如く構成したエキシマレーザー装置において、 光源と、フアブリペローエタロンの鏡面間隔及び平行度
    を制御する制御手段と、受光手段とを備え、 前記光源の光を前記ファブリペローエタロンの周辺部を
    透過させ、該透過光を前記受光手段にて受光し、その受
    光出力に基づいて前記制御手段を作動させることを特徴
    とするフアブリペローエタロンを備えるエキシマレーザ
    ー装置。
  2. (2)前記制御手段はフアブリペローエタロンの周辺部
    を微小振幅で振動させ、エタロン鏡面の法線に対し所定
    角度傾いた光軸上で前記光源の光の透過率が最大となる
    ように鏡面間隔を制御してエタロン鏡面の法線に平行な
    光軸上で所望のエキシマレーザー波長の透過率が最大と
    なるよう制御することを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載のフアブリペローエタロンを備えるエキシマレー
    ザー装置。
  3. (3)前記制御手段は前記安定光の透過率がフアブリペ
    ローエタロン鏡面の周辺部の少なくとも3ヶ所で同時に
    最大になるように鏡面間隔を周期的に変化させ、前記光
    源からの光の透過率が最大となる鏡面間隔位置より推測
    される所望のエキシマレーザー波長の透過率が最大とな
    る位置を検出してレーザー発振のトリガー信号を出力す
    るようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載のフアブリペローエタロンを備えるエキシマレーザー
    装置。
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