JPS63159821U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63159821U JPS63159821U JP5362187U JP5362187U JPS63159821U JP S63159821 U JPS63159821 U JP S63159821U JP 5362187 U JP5362187 U JP 5362187U JP 5362187 U JP5362187 U JP 5362187U JP S63159821 U JPS63159821 U JP S63159821U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- jig
- core tube
- furnace core
- semiconductor device
- device manufacturing
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
Description
第1図は、本考案を用いた縦型熱処理装置内に
納められたウエーハ装填治具であり、炉芯管上方
よりウエーハ装填治具を挿入する構造についての
aが正面の縦断面図で、bが側面の縦断面図であ
る。第2図は、同一構造のウエーハ装填治具を用
いた縦型熱処理装置でウエーハ装填治具を炉芯管
下方より挿入する方式の正面の縦断面図である。 1……外気しやへい治具、2……炉芯管、3…
…ウエーハ、4……ウエーハ装填治具、5……ウ
エーハ装填治具支持治具、6……処理気体注入口
、7……ウエーハ装填治具の持ち上げ(着脱用)
穴。
納められたウエーハ装填治具であり、炉芯管上方
よりウエーハ装填治具を挿入する構造についての
aが正面の縦断面図で、bが側面の縦断面図であ
る。第2図は、同一構造のウエーハ装填治具を用
いた縦型熱処理装置でウエーハ装填治具を炉芯管
下方より挿入する方式の正面の縦断面図である。 1……外気しやへい治具、2……炉芯管、3…
…ウエーハ、4……ウエーハ装填治具、5……ウ
エーハ装填治具支持治具、6……処理気体注入口
、7……ウエーハ装填治具の持ち上げ(着脱用)
穴。
Claims (1)
- 半導体素子製造における炉芯管を地面に垂直に
設置する熱処理装置において、ウエーハの面が重
力方向に対し、ほぼ平行に装填されることを特徴
とし、かつ炉芯管中に挿入される治具がウエーハ
装填治具と、該装填治具を支持する治具が任意に
着脱可能な様に分離されていることを特徴とする
半導体素子製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5362187U JPS63159821U (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5362187U JPS63159821U (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63159821U true JPS63159821U (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=30879858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5362187U Pending JPS63159821U (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63159821U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0273732U (ja) * | 1988-11-28 | 1990-06-05 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61125013A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-12 | ヘレウス・クアルツシユメルツエ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクタ−・ハフツング | 半導体物質熱処理用炉 |
JPS62281321A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-07 | Fukui Shinetsu Sekiei:Kk | ウエハ処理装置 |
-
1987
- 1987-04-08 JP JP5362187U patent/JPS63159821U/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61125013A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-12 | ヘレウス・クアルツシユメルツエ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクタ−・ハフツング | 半導体物質熱処理用炉 |
JPS62281321A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-07 | Fukui Shinetsu Sekiei:Kk | ウエハ処理装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0273732U (ja) * | 1988-11-28 | 1990-06-05 |