JPS628633U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS628633U JPS628633U JP10031885U JP10031885U JPS628633U JP S628633 U JPS628633 U JP S628633U JP 10031885 U JP10031885 U JP 10031885U JP 10031885 U JP10031885 U JP 10031885U JP S628633 U JPS628633 U JP S628633U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction tube
- semiconductor heat
- wafer loading
- unloading section
- scavenger box
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
Description
図面は、この考案の係るスカベンジヤーボツク
スの装着された、縦形半導体熱処理装置の一部破
断の概略正面図である。 10:半導体熱処理装置のスカベンジヤーボツ
クス、12:フイルター、14:炉体、16:空
気の導入孔、18:ブロアー、22:反応管、2
4:反応管のウエーハ導入部、26:ウエーハ、
28:ウエーハボート、36:排気管。
スの装着された、縦形半導体熱処理装置の一部破
断の概略正面図である。 10:半導体熱処理装置のスカベンジヤーボツ
クス、12:フイルター、14:炉体、16:空
気の導入孔、18:ブロアー、22:反応管、2
4:反応管のウエーハ導入部、26:ウエーハ、
28:ウエーハボート、36:排気管。
Claims (1)
- 反応管のウエーハ搬出入部に設けられた半導体
熱処理装置のスカベンジヤーボツクスにおいて、
空気導入部にフイルターを設け、クリーンルーム
の空気をフイルターで浄化した後、反応管のウエ
ーハ搬出入部に噴出する半導体熱処理装置のスカ
ベンジヤーボツクス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10031885U JPS628633U (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10031885U JPS628633U (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS628633U true JPS628633U (ja) | 1987-01-19 |
Family
ID=30970029
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10031885U Pending JPS628633U (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS628633U (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6421413U (ja) * | 1987-07-29 | 1989-02-02 | ||
JPH01170014A (ja) * | 1987-12-01 | 1989-07-05 | Varian Assoc Inc | 水平層状空気流ワークステーション |
JPH07297145A (ja) * | 1995-03-02 | 1995-11-10 | Tokyo Electron Tohoku Ltd | 熱処理装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS454207Y1 (ja) * | 1966-06-15 | 1970-02-26 | ||
JPS4840366U (ja) * | 1971-09-14 | 1973-05-22 |
-
1985
- 1985-07-01 JP JP10031885U patent/JPS628633U/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS454207Y1 (ja) * | 1966-06-15 | 1970-02-26 | ||
JPS4840366U (ja) * | 1971-09-14 | 1973-05-22 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6421413U (ja) * | 1987-07-29 | 1989-02-02 | ||
JPH01170014A (ja) * | 1987-12-01 | 1989-07-05 | Varian Assoc Inc | 水平層状空気流ワークステーション |
JPH07297145A (ja) * | 1995-03-02 | 1995-11-10 | Tokyo Electron Tohoku Ltd | 熱処理装置 |